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公开(公告)号：CN101290364A
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200810123711.2
申请日：2008-05-30
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 陈林森 , 周小红
摘要： 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为：分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜；将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面，根据画素的排列位置，采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置，使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面，调整照射位置并重复上述过程，实现同一颜色的所有画素单元的转移；更换热转印薄膜，重复上述步骤，使四种颜色均实现转移，获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化，解决了传统方式需要高精度对位的问题，并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小；同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。
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公开(公告)号：CN101231462A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810020793.8
申请日：2008-02-27
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G03F7/00 , G02B5/02 , G02F1/13357
摘要： 本发明公开了一种光扩散片的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁；(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件；(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法，将步骤(1)中的压印模仁，根据步骤(2)中的控制程序及图形文件，压印于待压印的基材第一压印工作位置上，基材得到相应个数的凹形微透镜；(4)根据压印参数，改变压印模仁与待压印基材的相对位置，至下一个压印工作位；(5)重复步骤(3)和(4)，直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜，使光扩散层与基材层为一体结构，避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象，有效提高光扩散片的性能。
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公开(公告)号：CN101162278A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710135196.5
申请日：2007-11-13
申请人： 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G02B6/00 , G02F1/13357 , G02F1/1333
摘要： 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构，包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构，其特征在于：包括至少两层导光基材重叠组合构成，每层所述导光基材为厚度50um～150um的导光膜；各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补；其制作方法：(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度，确定多层组合的层数；(2)根据LED光源亮度数据及发光面积，确定初始的导光网点分布；(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整；(4)制作相应导光模仁小样；(5)制作各层导光膜，并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量，并有效地提高了发光均匀度，多层重叠结构获得更好的触感。
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公开(公告)号：CN100349024C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200510095776.7
申请日：2005-11-17
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置，包括：(1)构建低空频光栅数字模板，以光栅取向角度等间隔分布，对每一单元光栅用数据结构表达，记录在计算机数据库中；(2)根据所需刻制的微光变图像，从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构，利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上，形成缩小单元像；(3)改变光路和记录介质的相对位置，变换对应空频和取向的光栅图样，重复步骤(2)，依次刻录各个光栅单元，获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法，整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向，只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元，输入SLM上即可实现光栅线条的旋转，因此，精度高。
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公开(公告)号：CN101017218A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710020411.7
申请日：2007-02-14
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC分类号： G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
摘要： 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜，在薄膜的一侧表面，设有平铺的光栅像素单元，其特征在于：所述光栅像素单元由亚像素结构组成，每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤：(1)设计导光图样的衍射结构分布；(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列，每一个单元像素由亚像素构成，每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变；(3)光刻；(4)通过电铸制成金属镍板，对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性，提高了导光效果，其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号：CN1252548C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN02113112.0
申请日：2002-05-31
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 一种利用光变图像的光学存储方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将存储信息利用设定的编码方式生成图形、文字或者数据序列；(2)根据光变图像的特性，将步骤(1)中生成的图文序列排列成光变图文，其中，所述光变图像由光栅单元阵列构成，每个光栅单元是由精细的图形、文字或者数据位构成，光栅单元的尺度不大于160微米；(3)将步骤(2)中获得的光变图文利用光变图像照排系统存储到记录材料上。本发明的技术方案实现了任意数字化图文的高信息密度的光变存贮光刻，具有很好的复制能力，能广泛用于各种复制条件下的工业化生产、如印刷、包装、光盘生产、烫金材料、防伪和衍射器件等行业，同时有信息存储密度高、信噪比好、防伪性好的优点。
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公开(公告)号：CN101377555B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
申请人： 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
摘要： 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101131537B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101131537A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC分类号： G03F7/00
摘要： 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101100156A
公开(公告)日：2008-01-09
申请号：CN200710025250.0
申请日：2007-07-20
申请人： 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 公安部交通管理科学研究所
摘要： 本发明公开了一种用于卡证的防伪结构，在待防伪的卡证本体上，设置有由光栅结构构成的标识图案，其特征在于：所述标识图案至少包括两种图形区域，该两种图形区域中的光栅结构的取向正交排列，构成双视觉通道；所述光栅结构的光栅周期为300～500纳米，槽形深度为50～150纳米，在光栅结构上填充有透明高折射率介质层，所述介质层的厚度为20～30纳米，介质的折射率大于1.6。本发明的图案视觉特征显著，在公共场所易于识别，可方便快速鉴别证件真伪；同时，采用严格耦合波理论进行计算结构数据，应用电子束或激光干涉光刻技术来制作上述微结构，手段先进，工艺难度高，具有极高的安全性。
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