-
公开(公告)号:CN106010322B
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN201610076790.0
申请日:2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/20 , C09J133/08
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜,其对被粘物的污染少,且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于,在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上,依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号:CN106010325B
公开(公告)日:2021-05-04
申请号:CN201610090004.2
申请日:2016-02-17
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J183/04 , C09J11/08 , C09J9/02 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种在裁切成规定尺寸时难以产生因粘结剂层导致的异物、对表面具有凹凸的光学用膜的亲和性良好、且对被粘物污染少、不会经时劣化、具有优异剥离抗静电性能的表面保护膜,及贴合有该表面保护膜的光学部件。一种在透明基材(1)的至少一个面上、具有由含聚醚改性有机硅的有机硅粘结剂组合物构成的粘结剂层(2),且具有抗静电剂层(4)的贴合用膜(5)经由抗静电剂层贴合在粘结剂层上的表面保护膜(10),贴合用膜是在树脂膜(3)的一个面上层积含有粘合剂树脂、不与该粘合剂树脂反应的抗静电剂的抗静电剂层(4)而成,抗静电剂层的成分从贴合用膜转印至粘结剂层的表面,将粘结剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压降低。
-
公开(公告)号:CN105385370B
公开(公告)日:2020-06-19
申请号:CN201510397287.0
申请日:2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少且对被粘附体的低污染性无经时变化的表面保护膜,并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜,以及使用了该表面保护膜的光学部件。该表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5),其中,剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成,剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂,抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移,减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
-
公开(公告)号:CN104774569B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201410677651.4
申请日:2014-11-21
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08 , C09J133/08 , C09J11/06 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化、具有优良抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜,其是依次经过:在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物、进而还含有(F)二官能以上的异氰酸酯化合物、(G)交联促进剂及(H)酮‑烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序;将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5),通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作,剥离剂层(4)通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物及抗静电剂的树脂组合物形成,粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。
-
公开(公告)号:CN104371581B
公开(公告)日:2017-04-05
申请号:CN201410312033.X
申请日:2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜,以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2),并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中,剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成,所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂,通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移,能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
-
公开(公告)号:CN106010323A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610076854.7
申请日:2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜及贴合有该保护膜的光学部件,所述保护膜即使在裁切时也难以出现因粘结剂而导致的异物(胶团),即使对于作为被粘物的表面具有凹凸的光学用膜仍亲和性(湿润性)良好,且对被粘物的污染少,对被粘物的低污染性即使经过长时间也不变,不会经时劣化,具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10),其在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上,依次层积有不含抗静电剂的聚氨酯类粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号:CN106010322A
公开(公告)日:2016-10-12
申请号:CN201610076790.0
申请日:2016-02-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08
CPC classification number: C09J7/20 , C09J133/08 , C09J2201/60 , C09J2205/114
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜,其对被粘物的污染少,且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述抗静电表面保护膜(10)的特征在于,在由具有透明性的树脂形成的基材膜(1)的一个面上,依次层叠有不含抗静电剂的粘结剂层(2)、抗静电剂层(3)、经剥离处理的剥离膜(4)。
-
公开(公告)号:CN104745116A
公开(公告)日:2015-07-01
申请号:CN201510158149.7
申请日:2013-04-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J183/04 , C09J183/12
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜以及贴合其的光学部件。具体地,提供向被粘物的污染少的表面保护膜,没有经时劣化且具有优异的防止剥离带电性能的表面保护膜,以及使用上述表面保护膜的光学部件。在透明基材膜1的一面上形成粘合剂层2、在该粘合剂层2上贴合有剥离膜5的表面保护膜10中,剥离膜5通过在树脂膜3的一面上层压剥离剂层4得到,所述剥离剂层4含有以二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂和在20℃为液体的硅酮类化合物7。粘合剂层2由共聚或混合含有聚氧化亚烷基团的化合物得到的(甲基)丙烯酸类聚合物形成,并且含有抗静电剂。
-
公开(公告)号:CN118725782A
公开(公告)日:2024-10-01
申请号:CN202410367819.5
申请日:2024-03-28
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J133/08 , C09J7/30 , C09J11/06 , G02B5/30 , G02F1/13363
Abstract: 提供一种使用生物来源材料且能够制造具有优异的抗静电性能的表面保护膜的粘合剂组合物、使用其的抗静电表面保护膜以及光学部件。所述粘合剂组合物包含丙烯酸共聚物和抗静电剂,其中,所述丙烯酸共聚物包含由通式(1)表示的(A1)成分。另外,所述粘合剂组合物优选包含两种以上的所述(A1)成分,所述(A1)成分的玻璃化转变温度优选为40℃以下。#imgabs0#在通式(1)中,R1是氢原子或甲基,R2是碳数6~18的烷基,由R2表示的烷基是生物质来源的烷基。
-
公开(公告)号:CN115247034A
公开(公告)日:2022-10-28
申请号:CN202210396973.6
申请日:2022-04-15
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 提供一种表面保护膜以及光学部件。表面保护膜(10)具备:基材膜(1),由具有透明性的树脂构成;抗静电剂层(2),形成于基材膜(1)的一面;以及粘合剂层(3),形成于基材膜(1)的与抗静电剂层(2)相反侧的面。抗静电剂层(2)具备:第一层(2a),包含导电性聚合物;以及第二层(2b),相对于第一层(2a)设置于与基材膜(1)相反侧,并包含纳米碳。
-
-
-
-
-
-
-
-
-