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公开(公告)号：CN101351844A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200680049835.X
申请日：2006-10-17
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 克里斯托弗·G·厄尔本 , 尤金·P·博登 , 凯瑟琳·L·朗利 , 布赖恩·L·劳伦斯 , 史晓蕾
IPC: G11B7/246 , G11B7/0065
CPC classification number: G11B7/253 , G11B7/0045 , G11B7/005 , G11B7/0065 , G11B7/24038 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , Y10S430/146
Abstract: 提供了制备全息数据存储介质的方法。该方法包括：(a)提供包含至少一种光化学活性染料的光学透明基底；和(b)在至少一种波长下照射光学透明基底，在该波长处光学透明基底的吸光度为约0.1－1，以得到包含至少一种光学可读数据和至少一种光化学活性染料的光产物的改性的光学透明基底。所述至少一种波长的范围为约300纳米至约800纳米。所述光学透明基底的厚度至少为100微米且包含相应于光学透明基底的总重为约0.1－约10wt％的光化学活性染料。
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公开(公告)号：CN100439318C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN02820321.6
申请日：2002-07-30
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 艾伯托·尼索利 , 约翰·Y·奥弗里 , 安杰尔·桑切斯冈萨雷斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1300093C
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：CN02820322.4
申请日：2002-08-01
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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公开(公告)号：CN1277803C
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN02820320.8
申请日：2002-07-29
Applicant: 通用电气公司
Inventor： 尤金·P·博登 , 甘尼什·凯拉萨姆 , 拉里·N·刘易斯 , 伊格内西奥·维克费尔南德斯
CPC classification number: B01J19/002 , B01J2219/00006 , B01J2219/00247 , B01J2219/00272 , C07C68/005 , C07C69/96
Abstract: 碳酸二烷基酯制备装置的下游部分的未曾预料的腐蚀已经得知来自氯甲酸烷基酯杂质，因为该杂质缓慢分解生成盐酸。一种改进的合成碳酸二烷基酯方法和装置，通过在该装置的耐腐蚀的上游部分物理除去或者化学分解氯甲酸烷基酯杂质，减少腐蚀。
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