静电吸盘
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109564890A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201780044740.7

    申请日:2017-07-20

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面;基座板,设置在离开陶瓷电介体基板的位置,支撑陶瓷电介体基板;及加热器板,设置在陶瓷电介体基板与基座板之间,其特征为,加热器板具有:第1支撑板,包含金属;加热器元件,设置成与第1支撑板重叠,因电流的流动而发热;及第1树脂层,设置在第1支撑板与加热器元件之间,加热器元件具有:第1面,与第1树脂层相对;及第2面,朝向第1面的相反侧,第1面的宽度不同于第2面的宽度。

    静电吸盘
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107112274A

    公开(公告)日:2017-08-29

    申请号:CN201680005123.1

    申请日:2016-01-15

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面、第1主面相反侧的第2主面;基座板,设置在远离陶瓷电介体基板的位置,支撑陶瓷电介体基板;及加热器板,设置在陶瓷电介体基板与基座板之间,其特征为,加热器板具有:第1支撑板,包含金属;第2支撑板,包含金属;加热器元件,设置在第1支撑板与第2支撑板之间,通过流电而发热;第1树脂层,设置在第1支撑板与加热器元件之间;及第2树脂层,设置在第2支撑板与加热器元件之间。

    静电吸盘
    13.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111755376B

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202010227806.X

    申请日:2020-03-27

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,在极低温的环境下,能够抑制发生陶瓷电介体基板从基座板的剥离及陶瓷电介体基板的裂开。一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板;金属制的基座板,支撑所述陶瓷电介体基板;及接合层,设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间且含有树脂材料,其特征为,满足相关于接合层的伸长率、接合强度、弹性模量的第1~第6条件中至少任意一个。

    静电吸盘
    14.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108604570B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN201780009357.8

    申请日:2017-03-13

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,放置处理对象物;基座板;及加热器板,设置在陶瓷电介体基板与基座板之间,其特征为,加热器板具有:第1、第2支撑板,包含金属;第1、第2树脂层,设置在第1支撑板与第2支撑板之间;及第1、第2导电部,设置在第1树脂层与第2树脂层之间且在面内方向上离开,具有:加热器元件,因电流的流动而发热;及空间部,被在第1导电部的面内方向上的侧端部、第1树脂层、第2树脂层所划分,第1树脂层在第1导电部与第2导电部之间连接于第2树脂层。

    静电吸盘
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111755376A

    公开(公告)日:2020-10-09

    申请号:CN202010227806.X

    申请日:2020-03-27

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,在极低温的环境下,能够抑制发生陶瓷电介体基板从基座板的剥离及陶瓷电介体基板的裂开。一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板;金属制的基座板,支撑所述陶瓷电介体基板;及接合层,设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间且含有树脂材料,其特征为,满足相关于接合层的伸长率、接合强度、弹性模量的第1~第6条件中至少任意一个。

    静电吸盘
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111725121B

    公开(公告)日:2024-02-06

    申请号:CN202010200600.8

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,从第2面侧进行供电,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,且具有包含第1面的第1部分,第1部分上的陶瓷成分的浓度比第1电极层的陶瓷成分的平均浓度更高。

    静电吸盘
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108780774B

    公开(公告)日:2023-04-11

    申请号:CN201780017182.5

    申请日:2017-05-12

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置处理对象物的第1主面与所述第1主面的相反侧的第2主面;及基座板,设置于所述第2主面侧,支撑所述陶瓷电介体基板,其特征为,所述基座板具有调整所述处理对象物的温度的介质通过的第1连通路,所述第1连通路具有上面、侧面及下面,相对于所述第1连通路的高度,在所述上面上的最大高度Sz的偏差之比为1%以下。

    静电吸盘
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111725121A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010200600.8

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,从第2面侧进行供电,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,且具有包含第1面的第1部分,第1部分上的陶瓷成分的浓度比第1电极层的陶瓷成分的平均浓度更高。

    静电吸盘
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111725120A

    公开(公告)日:2020-09-29

    申请号:CN202010200242.0

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,在从第2面侧供电的静电吸盘上,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,陶瓷成分的浓度及金属成分的浓度的至少任一在Z轴方向上不均匀。

    静电吸盘
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109478530A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201780044701.7

    申请日:2017-07-20

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,放置处理对象物;基座板,支撑陶瓷电介体基板;及加热器板,设置在陶瓷电介体基板与基座板之间,加热器板具有:第1、2支撑板;加热器元件,设置在第1支撑板与第2支撑板之间;第1树脂层,设置在第1支撑板与加热器元件之间;及第2树脂层,设置在第2支撑板与加热器元件之间,当在层叠方向上观察时,第1支撑板的第2支撑板侧的面具有:第1区域,重叠于加热器元件;及第2区域,并不重叠于加热器元件,第2区域比第1区域更向第2支撑板侧突出。

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