一种用于镀膜设备双腔室装卸载的设备和方法

    公开(公告)号:CN118547247A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202410940585.9

    申请日:2024-07-15

    IPC分类号: C23C14/22 C23C14/50 C23C14/54

    摘要: 本发明涉及一种用于镀膜设备双腔室装卸载的设备,包括第一腔室、第二腔室和用于装载待镀膜工件的装载装置,第一腔室和第二腔室之间设置有连接通道,连接通道处设置有第一调节装置,还设置有用于调节装载装置在第一腔室和第二腔室之间进行移动的第二调节装置,装载装置上具有第一连接部,第二调节装置具有第二连接部,第一连接部、第二连接部中的一者为电磁铁连接件构成、另一者为磁性连接件构成,磁性连接件和电磁铁连接件之间组成磁铁式可分离连接结构。本发明提供的上述方案,采用磁性连接件和电磁铁连接件之间组成磁铁式可分离连接结构,该结构更加稳定,减少装卸载装置故障率,从而提高镀膜生产效率。

    用于电化学腐蚀减轻的涂层
    12.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118497753A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410176206.3

    申请日:2024-02-08

    申请人: 苹果公司

    摘要: 本公开涉及用于电化学腐蚀减轻的涂层。为了消除电化学腐蚀,外壳包括包层。该包层包括设置在外部金属和包层界面内的内部金属。该外部金属包括比该内部金属更低的电导率电位。孔口可延伸穿过该外部金属和该包层界面,并且致动器或插头可设置在该孔口内。该外壳还包括设置在该包层界面处的该内部金属的一部分上的耐腐蚀涂层。该耐腐蚀涂层可包括介于约2μm与约10μm之间的厚度。

    一种高温雷达吸波涂层的制备方法、涂层及隐身部件

    公开(公告)号:CN118441233A

    公开(公告)日:2024-08-06

    申请号:CN202410735251.8

    申请日:2024-06-07

    IPC分类号: C23C4/134 C23C14/22 B22F10/25

    摘要: 本发明属于高温涂层制备技术领域,公开了一种高温雷达吸波涂层的制备方法、涂层及隐身部件,在高温合金基体上制备金属粘结层,采用RE1‑xBxTO3雷达波吸收材料粉末,稀土改性YSZ、RE2Zr2O7雷达透波材料;在金属粘结层表面制备雷达吸波涂层,通过连续调整雷达波吸收材料粉末和雷达透波材料粉末的送粉量,在雷达吸波涂层的厚度方向上形成线性或非线性变化的成分梯度,使雷达波吸收材料的含量在沿着雷达吸波涂层自内向外的方向上随着厚度增加而连续降低,本发明吸波效果强,厚度薄,兼具低红外发射率,抗氧化性能好,耐高温,可在1200‑1600℃使用,且具有较好的抗热震性能。

    柔性显示屏的支撑板及其制造方法、显示模组和电子设备

    公开(公告)号:CN118280204A

    公开(公告)日:2024-07-02

    申请号:CN202211738157.5

    申请日:2022-12-30

    IPC分类号: G09F9/30 H05K9/00 C23C14/22

    摘要: 本申请公开了一种柔性显示屏的支撑板及其制造方法、显示模组和电子设备。柔性显示屏的支撑板包括碳纤维层和电磁屏蔽层,电磁屏蔽层通过物理气相沉积工艺设置在碳纤维层上。本申请的柔性显示屏的支撑板包括碳纤维层和电磁屏蔽层,电磁屏蔽层可以解决柔性显示屏的接地问题并将柔性显示屏发出的干扰信号屏蔽,且通过物理气相沉积工艺的方式将电磁屏蔽层设置在碳纤维层上,使得电磁屏蔽层的厚度薄、重量轻,从而减轻柔性显示屏的支撑板整体的厚度和重量。

    一种利用等离子体进行粉末沉积的成膜方法及装置

    公开(公告)号:CN118256869A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202410382992.2

    申请日:2024-04-01

    IPC分类号: C23C14/08 C23C14/22

    摘要: 本发明公开了利用等离子体进行粉末沉积的成膜方法及装置,涉及气溶胶沉积技术领域,首先将粒度为50~5000nm氧化物粉末进行脱气处理,然后利用载流气体对粉末进行鼓吹直至生成气溶胶;母材基板所处环境为真空环境,并且临近母材基板表面位置设有若干平行或近平行的磁感线,然后将载流气体和气溶胶共同沿磁感线的中轴线方向喷射至母材基板表面,沉积成膜。该方法降低了载气速度和颗粒速度,成膜均匀致密,且提高了沉积成膜的原料粒度范围。

    一种新型导磁碳化钨合金涂层的制备设备

    公开(公告)号:CN118222974A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202410155524.1

    申请日:2024-02-02

    摘要: 本发明属于合金涂层的制备设备技术领域,且公开了一种新型导磁碳化钨合金涂层的制备设备,包括活动架和设备本体,所述活动架的底端固定安装有安装架,所述安装架的底端固定安装有气缸一,所述气缸一的输出轴固定套装有活塞杆,所述活塞杆的顶端固定安装有接触头,所述活动架的中部固定安装有伸缩杆,所述伸缩杆的顶端设置有安装基座,所述活动架的底端固定安装有活塞筒,所述安装基座的侧面固定安装有伺服电机。从而实现了物料在涂层的过程中能够通过气缸一改变物料的角度和高度,使得物料一些涂层较为薄弱的区域更加靠近设备本体内部的设备,从而使得物料的涂层更加均匀。

    窄带滤光片的制备方法和镀膜机

    公开(公告)号:CN113862630B

    公开(公告)日:2024-06-18

    申请号:CN202111297074.2

    申请日:2021-11-04

    摘要: 本公开提供了一种窄带滤光片的制备方法和镀膜机。窄带滤光片的制备方法包括:包括:模拟该窄带滤光片的第一光学曲线;镀制所述窄带滤光片后,检测所述窄带滤光片的第二光学曲线;检测所述第一光学曲线和所述第二光学曲线是否一致,如果不一致,则调整所述第一光学曲线至所述第一光学曲线的特征点与所述第二光学曲线一致时,确定工艺影响因子;根据该工艺影响因子调整所述镀制参数以重新镀制所述窄带滤光片。上述的窄带滤光片的制备方法和镀膜机调整第一光学曲线直至第一光学曲线和第二光学曲线一致来确定镀膜机的工艺影响因子,从而可以根据该工艺影响因子修正窄带滤光片的镀制参数的作用。

    一种银铁表面增强拉曼基底制备方法及应用

    公开(公告)号:CN118090701A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410178572.2

    申请日:2024-02-09

    摘要: 本发明属于痕量氰化物检测技术领域,具体涉及一种银铁表面增强拉曼基底制备方法及应用。一种银铁表面增强拉曼基底,所述表面增强拉曼基底由纳米棒阵列组成,所述纳米棒阵列中的银和铁形成相互结合的结构。本发明采用倾斜生长法在单电子束蒸发镀膜系统下制备银和铁均匀结合的纳米棒阵列,所制备获得的银铁表面增强拉曼散射基底的纳米棒阵列分立性好,具有优异的表面增强拉曼效应和基底微结构均一性。而作为用于氰化物检测的表面增强拉曼散射基底,达到了在有效提高基片的氰化物检测稳定性的基础上,同时保持良好的表面增强拉曼效应的技术效果。