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公开(公告)号：CN118746866A
公开(公告)日：2024-10-08
申请号：CN202410761918.1
申请日：2024-06-13
申请人： 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 , 太仓斯迪克新材料科技有限公司
IPC分类号： G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/18 , B05D5/08 , B05D7/04 , C23C14/35 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/56 , C23C14/10
摘要： 本发明公开了一种疏水疏油减反射膜及其制备方法，该减反射膜包括依次层叠设置的基材层、HC硬化层、附着力增强层、第一高折射率层、低折射率层、第二高折射率层、过渡层以及喷涂低折射率层。相对于传统的干法工艺，本发明生产工艺简化，生产效率明显提升，且光学反射率可达其相同水平；相比传统湿法工艺，本发明克服了湿法产品反射率低，光学精度差等缺点。本发明在HC与PVD镀层之间增加了附着力增强层，解决了HC镀层与PVD镀层之间附着力差的问题，并有效提升产品耐膜性能；本发明在PVD镀层与喷涂低折射率层之间增加过渡层，解决了PVD工艺与喷涂工艺之间附着力差的问题。
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公开(公告)号：CN118732095A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410761841.8
申请日：2024-06-13
申请人： 苏州奥科飞光电科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种复合透明光及电学材料及其制备方法。该材料包括基底和基底一侧或两侧的复合镀膜，所述的复合镀膜分别由钛酸镧材料层、二氧化硅材料层、氧化铟锡材料层和氟化镁材料层等若干层按一定顺序叠加而成。该材料通过电子束蒸发工艺制备而成。采用本发明所述的复合透明光及电学材料，可实现阳光下可读、高透过率、和良好的电磁兼容性等性能，可满足军用、医疗、航空航天等高端需求。
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公开(公告)号：CN118625566A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410699013.6
申请日：2024-05-31
申请人： 马鞍山子创功能性膜工艺研究院有限公司
IPC分类号： G02F1/153 , G02F1/1523 , G02F1/155 , G02F1/1524 , G02F1/1506 , C23C14/10 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/35
摘要： 本发明公开了一种电致变色镀膜玻璃及其制备方法，包括变色玻璃，变色玻璃包括基片、过渡层、透明导电组合层、无机变色层、无机锂离子导体层、无机离子储存层和透明导电层，透明导电层镀制在无机离子储存层外表面，无机离子储存层镀制在无机锂离子导体层外表面，无机锂离子导体层镀制在无机变色层的外表面，无机变色层镀制在透明导电组合层的外表面，透明导电组合层镀制在过渡层外表面，过渡层镀制在基片的一端外表面。该电致变色镀膜玻璃及其制备方法，采用固体材料构成膜层，减少了对环境的污染，并提供了更高的节能效果。通过调节光传输和热传导，可以减少建筑物的能耗，有助于实现绿色环保。
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公开(公告)号：CN118308690B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410732542.1
申请日：2024-06-07
申请人： 国科大杭州高等研究院
摘要： 本发明属于材料科学领域，公开了一种辐射冷却涂层结构及其制备工艺，包括自下而上依次设置的硅衬底层、TiW金属层、金属Ag背反射器层、二氧化物交替层、三氧化二铝层、五氧化二钽层、第一二氧化硅层、六光束干涉超表面层。本发明通过重复的高折射率‑低折射率周期性层以及三次曝光六光束干涉技术制备出超表面层来精确地调制光谱以有效实现高效率辐射制冷。
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公开(公告)号：CN116103619B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202211339868.5
申请日：2022-10-27
申请人： 重庆文理学院
摘要： 本发明提供一种氧化硅薄膜制备方法，包括如下步骤：对玻璃衬底依次在丙酮和无水乙醇中进行三次、每次5分钟超声波清洗；将氩气通入真空室进行洗气；调节真空室内氩气压强到1.2～3.0Pa，施加脉冲偏压‑800～‑1000V对衬底进行等离子体刻蚀清洗；将溅射电源的电流设为0.1A对硅靶进行溅射；控制真空室压强为0.4～0.6Pa，基体偏压为‑100V，调整中频电流在0.1A～0.27A进行沉积镀膜。通过设置不同的溅射功率，获得不厚度、不同光透性的氧化硅薄膜；薄膜在390～800nm可见光波长范围内光透过率均超过87％，在2800‑3300nm的远红外波长范围内，透过率随溅射电流的增加而降低。
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公开(公告)号：CN118574484A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410209842.1
申请日：2024-02-26
申请人： 株式会社日本显示器
IPC分类号： H10K71/16 , H10K71/60 , H10K59/12 , C23C14/56 , C23C14/24 , C23C14/04 , C23C14/50 , C23C14/12 , C23C14/08 , C23C14/06 , C23C14/10 , C23C14/20
摘要： 本发明涉及显示装置的制造装置及显示装置的制造方法。根据一实施方式，制造装置具备：第一蒸镀室，其具备位于用于搬运显示装置用的处理基板的第一搬运路与第二搬运路之间的第一蒸镀源及第二蒸镀源，所述第一蒸镀源构成为朝向所述第一搬运路放射材料，所述第二蒸镀源构成为朝向所述第二搬运路放射材料；和第一旋转室，其具备对从所述第一蒸镀室的所述第一搬运路搬出的所述处理基板进行保持并使之旋转的旋转机构，并且所述第一旋转室构成为将所述处理基板向所述第一蒸镀室的所述第二搬运路搬出。
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公开(公告)号：CN118547242A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410574958.5
申请日：2024-05-10
申请人： 广东精研科技发展有限公司
摘要： 本发明公开了一种物理气相沉积法制备黑色复合涂层，包括有基材，基材的表面由里向外依次沉积有预镀层、缓冲层、耐磨层、颜色层、保护层。本发明制备的金属纳米涂层、缓冲层加强复合涂层内部的粘结强度，耐磨层、颜色层提高膜层的结合力和耐磨性，保护层具有高致密性的防护膜层，具有高强度抗酸性效果，针对不锈钢17‑4 PH材质，可以达到高低温（40℃/65℃）人工汗、盐雾测试192小时合格效果；故本发明具有设计新颖、结构简单，具有高硬度、高耐腐蚀性，该制备工艺实现MIM件不锈钢17‑4 PH材质PVD后可以达到高低温（40℃/65℃）人工汗测试192小时合格，延长产品使用寿命，且生产工艺简单、生产成本低。
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公开(公告)号：CN118516643A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202410679369.3
申请日：2024-05-29
申请人： 江苏兴启航新材料科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种二氧化硅薄膜的高压磁控溅射设备，包括：主体框架、反应器、翻转装置和真空泵，其中主体框架内设置分别设置有反应器和翻转装置，并且真空泵工作端与主体框架内部空间相连接；反应器处在翻转装置下方；翻转装置包括：支撑架、传动结构和翻转结构，其中；支撑架通过安装孔设置在主体框架侧壁上，并且支撑架上设置有直角形状的轨道槽；传动结构传动端与翻转结构工作端相连接，翻转结构可移动设置在轨道槽内，并且翻转结构工作端上设置有承载盘；传动结构工作时，带动翻转结构沿着轨道槽进行移动，从而使翻转结构工作端进行翻转，本发明可以提高覆膜的均匀性和纯度，并防止薄膜厚度达到时材料继续溅射到基板上。
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公开(公告)号：CN118441237A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410453030.1
申请日：2024-04-16
摘要： 本发明公开了一种通过在金刚石表面制备一维光子晶体和纳米贵金属增强金刚石NV‑色心荧光的方法，属于光致发光与量子色心领域。本发明要解决现有增强金刚石NV‑色心荧光强度工艺复杂且制备成本高的问题。本发明制备了TiO2、SiO2交替介质膜结构的一维光子晶体，并在金刚石的另一表面制备了纳米Ag微柱，基于一维光子晶体的光子带隙对光的调控作用和纳米金属的表面等离激元效应，对金刚石NV‑色心零声子线(ZPL)637nm波段处的光进行了调控，提高了金刚石NV‑色心的荧光强度。本发明为金刚石NV‑色心量子平台的开发和研究奠定了基础。
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公开(公告)号：CN118422137A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310048921.4
申请日：2023-02-01
申请人： 河北勒克斯光学薄膜技术有限公司
发明人： 刘华彬
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/08 , C23C14/10 , C23C14/06 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , B82Y20/00 , G02B1/10
摘要： 本发明属于薄膜技术领域，具体涉及一种红外阻隔膜层及其制备方法。本发明提供的红外阻隔膜层，包括钨青铜、ITO、ATO或AZO层构成的红外阻隔层；同时加入掺杂介质层，增强红外阻隔性能；最外层为保护层，使得薄膜有很好的使用寿命；本发明采用磁控溅射方法，制得的膜层均匀，膜层质量稳定可靠；本发明的红外阻隔膜层具有优异的耐高温、耐久性能；本发明的红外阻隔膜层可制备在包括任何具有一定透过率的有机、无机材料基底上，其中制备在玻璃基底上得到红外阻隔玻璃可见光透过率可达到93％，该玻璃可进行异地钢化加工。
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