图案形成方法、集成电路器件和集成电路器件制造方法

    公开(公告)号:CN112151358B

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202010258067.0

    申请日:2020-04-03

    Abstract: 本发明公开了一种形成图案的方法、制造集成电路器件的方法以及该集成电路器件。该形成图案的方法包括:在第一区域和第二区域中在目标层上形成包括多个硬掩模层的硬掩模结构;在第一区域中形成第一光致抗蚀剂图案并在第二区域中形成第二光致抗蚀剂图案;通过将第一和第二光致抗蚀剂图案的形状转印到作为所述多个硬掩模层之一的可逆硬掩模层,形成包括多个开口的可逆硬掩模图案;通过用间隙填充硬掩模图案材料填充形成所述多个开口中的形成在第一区域中的开口,形成间隙填充硬掩模图案;以及通过在第一区域中将间隙填充硬掩模图案的形状转印到目标层并在第二区域中将可逆硬掩模图案的形状转印到目标层,由目标层形成特征图案。

    包括电池子组的电池模块和包括该电池模块的电子设备

    公开(公告)号:CN113424392A

    公开(公告)日:2021-09-21

    申请号:CN202080013866.X

    申请日:2020-03-06

    Abstract: 提供一种包括多个电池子组的电池模块和包括该电池模块的电子设备。电池模块包括:电池组,包括多个电池子组;电力输送电路,可连接到多个电池子组;多个开关,连接在多个电池子组与电力输送电路之间;以及至少一个处理器,被配置为控制多个开关以,在第一时间间隔期间将存储在第一电池子组中的电力传输到电力输送电路,并且在第二时间间隔期间将存储在电力输送电路中的电力传输到第二电池子组。本文还提供了其他各种实施例。

    电子设备及其控制方法
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111095304A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201880057625.8

    申请日:2018-06-08

    Abstract: 一种电子设备及其方法被提供用于执行深度学习。所述电子设备包括:存储器,被配置为存储目标数据和核数据;以及处理器,包括以矩阵形状布置的多个处理元件。所述处理器被配置为:将目标数据中包括的多个第一元素中的第一非零元素输入到所述多个处理元件中的每个,并将核数据中包括的多个元素中的第二非零元素顺序地输入到所述多个处理元件中的第一行中包括的多个第一处理元件中的每个。所述多个第一处理元件中的每个被配置为基于第一非零元素的深度信息和第二非零元素的深度信息执行输入的第一非零元素与输入的第二非零元素之间的运算。

    半导体器件和使用该半导体器件的数据读取方法

    公开(公告)号:CN114207723A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202080056709.7

    申请日:2020-08-07

    Abstract: 提供了一种半导体器件。该器件包括:以非易失性方式和易失性方式存储数据的存储器和被配置为控制该存储器的存储器控制器。该存储器包括:包括第一字线和第二字线的字线对;正交于第一字线和第二字线并包括第一位线和第一互补位线的第一位线对;以及包括第一存储单元和在字线方向上与第一存储单元相邻的第二存储单元的存储单元对。第一存储单元和第二存储单元各自以易失性方式存储数据。

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