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公开(公告)号：CN102508346A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：CN201110349669.8
申请日：2011-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了提供的一种用于复合波片光轴对准的装夹装置，该装置包括电控旋转台、固定波片卡盘和旋转波片卡盘；波片支架安装在电控旋转台，固定波片卡盘与电控旋转台基座连在一起，旋转波片卡盘与电控旋转台转盘连在一起，使用时，将安装有晶片的波片支架安装在固定波片卡盘和旋转波片卡盘上。本发明提供的装夹装置可以实现在对复合波片光轴进行高精度对准时，对组成复合波片的各晶片进行夹持，并保证不同晶片间能产生高精度高分辨率的相对转动。与现有波片夹具相比，本发明所提供的装夹装置不仅能够实现对两片晶片的夹持和精确定位，而且能够使两片晶片间产生高精度高分辨率地相对转动，更适合用于复合波片光轴的对准过程。
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公开(公告)号：CN101881599A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010223106.X
申请日：2010-07-12
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种纳米结构三维形貌测量方法及其装置，可以同时测量纳米结构线宽、深度、侧墙角、线缘粗糙度、线宽粗糙度等三维形貌参数的方法及装置。本发明方法步骤如下：将波长为紫外到近红外波段的光束经分光、起偏、前后相位补偿得到的椭圆偏振光投射到待测；采集待测结构表面反射零级衍射信号，计算得到纳米结构测量穆勒矩阵；将测量穆勒矩阵与理论穆勒矩阵进行匹配，提取得到待测纳米尺寸结构的三维形貌参数值。本发明所提供的纳米结构三维形貌参数测量装置，能为基于图形转移的批量制造方法如光刻和纳米压印等工艺中所涉及的一维和二维亚波长周期性结构，提供一种非接触、非破坏性、低成本、快速测量手段。
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公开(公告)号：CN101393015A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200810197279.1
申请日：2008-10-17
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种微纳深沟槽结构在线测量方法及装置。其方法是将线偏振红外光束投射到含有深沟槽结构的样件表面，对沟槽结构各界面反射光形成的干涉信号进行滤波等处理得到测量反射光谱；采用基于偏振的等效介质理论构建该深沟槽结构等效光学模型，计算其理论反射光谱；采用人工神经网络结合局部搜索算法的快速参数提取方法，通过理论反射光谱拟合测量反射光谱，快速提取沟槽的宽度和深度，实现深沟槽几何形貌参数的精确在线测量。装置包括红外光源，红外偏振片，干涉仪，平面反射镜和二个离轴抛物镜以及红外探测器。装置可实现场效应管和动态随机存储器中高深宽比深沟槽结构加工过程深度及宽度的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。
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公开(公告)号：CN116842062A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310804165.3
申请日：2023-06-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及一种光学散射测量中结构参数的提取方法及装置，通过算法计算得到结构参数；基于机器学习算法，分别计算训练集光谱、验证集光谱、测试集光谱对应的训练集的结构参数、验证集的结构参数、测试集的结构参数；通过模型融合方法将算法和机器学习算法求得的结构参数进行融合训练，最终得到目标结构参数。解决了算法求解结构参数时因系统噪声带来的偏差，也解决了机器学习模型求解结构参数时因随机噪声带来的影响，最终使得测试结果与目标结果的协方差系数、平均绝对误差、最大绝对误差都有提升，从而使得光学散射测量中结构参数的提取结果更为合理。
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公开(公告)号：CN116754492A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310453952.8
申请日：2023-04-25
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明公开了一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法，属于光学仪器测量领域，包括：样品台，用于放置样品；入射光生成模块，用于生成工作波长范围内的平行的入射光；起偏模块，用于调制入射光的偏振态；第一会聚透镜，用于将偏振入射光聚焦于放置于样品，产生反射光；第二会聚透镜，用于将反射光转换为平行光；检偏模块，用于调制平行光的偏振态；光束调整模块，用于将偏振平行光转换为第一出射光束和第二出射光束；图像信息探测模块，用于将第一出射光束调节为单色光后对样品进行成像。本发明能够加快成像椭偏仪系统参数校准的速度，使成像椭偏仪同时具有高横向分辨率的能力和快速校准的能力，从而提高成像椭偏仪整体的测量速度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115682963A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211350416.7
申请日：2022-10-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学薄膜测量领域，并具体公开了一种基于近红外光谱散射的深沟槽结构参数测量装置及方法，其包括照明光路和测量光路，其中：所述照明光路用于辅助照明，以定位待测样品的位置；所述测量光路用于获取待测样品的反射光强谱；其中，红外光源发出的光束依次经过第一聚光镜、圆形光阑、第一分光镜、偏振片、矩形光阑、第二聚光镜后，照射到待测结构；经待测结构返回的光束原路返回至第一分光镜后，依次经过第二分光镜、第三聚光镜、反射镜、第四聚光镜，汇聚到光谱仪；所述圆形光阑和第二聚光镜配合，用于控制测量光路的入射角，所述矩形光阑用于控制测量光路的方位角。本发明可实现对于微米级的深沟槽样件结构参数的准确测量。
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公开(公告)号：CN111426275A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN202010276441.X
申请日：2020-04-09
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01B11/06
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，特别涉及一种薄膜的测量方法，通过将黑样件放在样品台上，测量反射率谱为0的黑样件反射光强谱；将厚度已知的测量样件放在样品台上进行测量，利用光谱仪获取标准样件的反射光强谱；测量标准样件时对应的黑样光强；找到局部测量区域后关闭照明光源，利用光谱仪获取待测样件的反射光强谱；计算待测样件的实际测量反射率谱；假定待测样件的膜厚序列，通过计算获取相对应的反射率谱序列；通过表达拟合程度，拟合程度最佳时所对应的厚度d为待测样件膜厚。本发明提供的薄膜的测量方法，可实现对样品的局部区域精确测量。
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公开(公告)号：CN109000798B
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201810504060.5
申请日：2018-05-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J4/00
Abstract: 本发明属于光学检测装置领域，并具体公开了一种偏振调制结构及偏振测量系统，其包括旋转补偿器和偏振器，所述旋转补偿器为连续旋转的复合波片，该复合波片由多个同种材料的单波片组合而成，该复合波片的整体结构由各单波片的厚度和光轴夹角依据偏振特性传递矩阵优化设计确定。本发明的偏振调制结构具有结构简单，容易加工，波长适用范围广的优点，并且基于该偏振调制结构可设计出宽波段偏振测量系统，适应于宽波段精密偏振测量的需求。
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公开(公告)号：CN109580054A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811448151.8
申请日：2018-11-30
Applicant: 武汉颐光科技有限公司 , 华中科技大学
IPC: G01L1/24
Abstract: 本发明属于应力检测领域，并公开了一种透明物体应力测量仪及其方法。该测量仪包括底座和设置在底座上方的波片和检偏镜，底座用于放置待测量的样件，该底座内部设置有光源、匀光板和起偏镜，匀光板设置在光源上方，用于将光源发出的光均匀化，起偏镜设置中匀光板上方，用于将从匀光板出射的光转化为线偏振光；波片设置在待测量样件的上方，从匀光板出射的线偏振光经待测量样件后转化为椭圆偏振光，波片用于将该椭圆偏振光重新转化为线偏振光，检偏镜设置在波片上方，其通过旋转寻找将待测量样件置于底座上后检偏镜中的消光态，其旋转的角度即为所需测量的角度。通过本发明，操作简便、测量快捷，测量光路简洁，整体结构紧凑，适用范围广。
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公开(公告)号：CN109000798A
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201810504060.5
申请日：2018-05-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J4/00
Abstract: 本发明属于光学检测装置领域，并具体公开了一种偏振调制结构及偏振测量系统，其包括旋转补偿器和偏振器，所述旋转补偿器为连续旋转的复合波片，该复合波片由多个同种材料的单波片组合而成，该复合波片的整体结构由各单波片的厚度和光轴夹角依据偏振特性传递矩阵优化设计确定。本发明的偏振调制结构具有结构简单，容易加工，波长适用范围广的优点，并且基于该偏振调制结构可设计出宽波段偏振测量系统，适应于宽波段精密偏振测量的需求。
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