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公开(公告)号：CN110440698A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910749549.3
申请日：2019-08-14
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明属于精密测试技术领域，涉及一种测量任意表面形位误差的激光测量测头装置，包括：球形测头、弹簧限位盘、弹簧、导向轴、密珠轴套、衬套、靶镜安装座、靶镜和外壳。该装置可将测点位置的位移量等比例转换成靶镜的位移量，实现曲面和非反光表面的精密测量；通过调节组件的尺寸既可实现微小位移量的测量，也可以实现大位移量的测量。该装置的位移传递组件间刚性连接，位移的传递精度高；该装置的轴线与待测表面的法线在同一条直线上，无测量阿贝误差。该装置具有结构简单、无测量阿贝误差、使用范围广、位移传递精度高等优点，具有良好的市场应用前景与推广价值。
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公开(公告)号：CN111351430B
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202010175977.2
申请日：2020-03-13
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明属于线性导轨的运动精度测量技术领域，具体公开了基于光束自动稳定的半导体激光运动误差测量系统及方法，系统包括：长距离四自由度误差测量模块和光束稳定模块。长距离四自由度误差测量模块中，直线度误差和角度误差是基于激光准直原理和激光自准直原理进行的。在光束稳定模块中，近端平行漂移反馈源和远端角度漂移反馈源接收到光束漂移信号后，通过控制电路反馈给两个可由PZT控制角度的直角反射镜，用于补偿和抑制测量范围内的光束稳定。该测量系统采用半导体激光器，成本较低、体积小、设计光路结构简单，易集成在线性平台上，实现在线误差测量。光束稳定模块，可减少光束漂移，有效的提高了测量精度和稳定性。
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公开(公告)号：CN111969412B
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202010822463.1
申请日：2020-08-17
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： H01S5/0683 , H01S5/0687 , G01J9/00 , G01M11/02
摘要： 本发明属于精密测量领域，公开了一种半导体激光器主动波长稳定方法。包括波长误差监测和波长稳定两部分；其中所述波长误差监测部分用于实时监测半导体激光器输出波长的变化，所述波长稳定部分用于实现半导体激光器输出波长的高精度稳定控制；通过对半导体激光器的输出波长进行实时测量，把波长变化量作为反馈量对半导体激光器温度进行实时控制，提高了半导体激光器波长的稳定性。本发明半导体激光器主动波长控制精度高、实现方式简单、造价低、整体装置易集成化。
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公开(公告)号：CN112444213B
公开(公告)日：2021-09-24
申请号：CN202011259054.1
申请日：2020-11-12
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B11/26
摘要： 本发明属于精密测量领域，公开了一种提高半导体激光器微小角度测量系统精度的方法。克服在运用四象限光电探测器进行微小角度精密测量中，四象限光电探测器上的椭圆光斑对测量结果精度的影响。通过调整四象限光电探测器和聚焦透镜焦平面之间的距离来实现将椭圆光斑整形为标准的圆形光斑，最后对光斑整形中产生的离焦量误差进行补偿，从而提高微小角度测量的精度。同时避免了建立用于提高测量精度的误差补偿模型，简化测量系统的数据处理过程。
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公开(公告)号：CN110440698B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201910749549.3
申请日：2019-08-14
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： G01B11/02
摘要： 本发明属于精密测试技术领域，涉及一种测量任意表面形位误差的激光测量测头装置，包括：球形测头、弹簧限位盘、弹簧、导向轴、密珠轴套、衬套、靶镜安装座、靶镜和外壳。该装置可将测点位置的位移量等比例转换成靶镜的位移量，实现曲面和非反光表面的精密测量；通过调节组件的尺寸既可实现微小位移量的测量，也可以实现大位移量的测量。该装置的位移传递组件间刚性连接，位移的传递精度高；该装置的轴线与待测表面的法线在同一条直线上，无测量阿贝误差。该装置具有结构简单、无测量阿贝误差、使用范围广、位移传递精度高等优点，具有良好的市场应用前景与推广价值。
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公开(公告)号：CN112045494A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010834662.4
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双向加工力测量与补偿装置，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、长L形支架、法兰支架、Y轴压电陶瓷、X轴压电陶瓷、F形支架、短L形支架、底座等，特征是：Y轴压电陶瓷沿X轴方向的一端通过法兰支架与长L形支架的内侧壁固定连接，Y轴压电陶瓷的另一端通过法兰支架与短L形支架的内侧壁固定连接；X轴压电陶瓷沿Z轴方向的一端通过F形支架与长L形支架上部的下端面固定连接，X轴压电陶瓷的另一端通过F形支架与X轴运动滑台的上端面固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975412A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010868048.X
申请日：2020-08-26
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单向加工力的测量与补偿装置，包括工作台、移动组件、压电陶瓷、凸形底座、工作台支架等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小三次，直径最大部分嵌装在运动滑台的上端面内，压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座；2个支架的上部均与工作台的底部固定连接，2个支架在相向的内侧壁上设有凹槽；压电陶瓷的两端对应嵌装在支架的凹槽内；2个工作台支架的底部均对称固定安装在运动滑台上，工作台两端浮动支撑在2个工作台支架上。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975392A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010828473.6
申请日：2020-08-18
IPC分类号： B23Q1/25
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的串联式双向恒加工力工作台，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、运动滑台驱动装置、X轴压电陶瓷、垫圈、Y轴压电陶瓷、垫片等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小四次，X轴压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，Y轴压电陶瓷套装在凸形底座上，且位于X轴压电陶瓷的上方，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座上，将X轴压电陶瓷、垫圈和Y轴压电陶瓷压紧；工作台两端浮动支撑在工作台支架上，工作台支架固定安装在X轴运动滑台上。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111958322A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010834800.9
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、拉压力传感器等，特征是：沿运动滑台的运动方向，工作台底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，4个立式光轴支架均匀分布并固定安装在运动滑台的上端面上，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接；拉压力传感器一端与拉压力传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111941149A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010868036.7
申请日：2020-08-26
IPC分类号： B23Q23/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、立式光轴支架、传感器支架等，特征是：沿运动滑台的运动方向，连接板底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接，2个工作台支架的底部与运动滑台留有间隙；沿运动滑台的运动方向，拉压力传感器一端与传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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