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公开(公告)号：CN115386827A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202110563149.0
申请日：2021-05-24
摘要： 本发明属于机械加工工具制造技术领域，特别涉及一种提高涂层硬质合金工具性能的处理方法。本发明提供了一种提高涂层硬质合金工具性能的处理方法，该方法的主要特征是在硬质合金基体工具涂层之前，对硬质合金工具表面进行湿式微喷砂处理，处理完后再进行涂层即得涂层硬质合金工具。使用微喷砂工艺对硬质合金基体工具进行表面处理，可以改善工具基体表面质量，提高涂层附着力，增强基体与涂层的结合强度，增强涂层硬质合金工具的抗剥落和抗破损能力，提高工具表面性能。
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公开(公告)号：CN115383631A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202110563136.3
申请日：2021-05-24
摘要： 一种提高氧化铝基陶瓷刀具表面性能的处理方法，包括下述工艺步骤：首先选择氧化铝基陶瓷刀具，采用丙酮溶液进行超声波清洗30min去除刀具表面油污等杂质；然后将处理后的刀具放于自动液体喷砂机中，并保证待处理刀具位于夹具中心，喷砂装置的磨料为ZrO2或Al2O3颗粒，并由高压气体推动磨料和水的混合物冲击刀具表面；最后将处理后的刀具进行丙酮溶液的超声波清洗10min，去除表面残留的磨料颗粒等杂质，即得。使用微喷砂处理工艺对氧化铝基陶瓷刀具进行表面处理，可以提高表面维氏硬度、断裂韧度以及残余压应力，抑制或消除表面微裂纹，提高刀具寿命。
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公开(公告)号：CN111941149B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202010868036.7
申请日：2020-08-26
IPC分类号： B23Q23/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、立式光轴支架、传感器支架等，特征是：沿运动滑台的运动方向，连接板底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接，2个工作台支架的底部与运动滑台留有间隙；沿运动滑台的运动方向，拉压力传感器一端与传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111993095B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202010868046.0
申请日：2020-08-26
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双向加工力调整平台，包括工作台、工作台支架、三脚架、压磁式传感器、传感器支架等，特征是：2个传感器支架水平臂的底面均固定安装在Y轴运动滑台的上端面上，X轴压磁式传感器的一端与传感器支架垂直臂的内侧固定连接，X轴压磁式传感器的另一端与第一个叉的端部固定连接；Y轴压磁式传感器的一端与传感器支架垂直臂的内侧固定连接，Y轴压磁式传感器的另一端与第二个叉的端部固定连接；第三个叉的端部与工作台支架的内侧固定连接；工作台的底部固定安装在工作台支架的顶部。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN112045494A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010834662.4
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双向加工力测量与补偿装置，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、长L形支架、法兰支架、Y轴压电陶瓷、X轴压电陶瓷、F形支架、短L形支架、底座等，特征是：Y轴压电陶瓷沿X轴方向的一端通过法兰支架与长L形支架的内侧壁固定连接，Y轴压电陶瓷的另一端通过法兰支架与短L形支架的内侧壁固定连接；X轴压电陶瓷沿Z轴方向的一端通过F形支架与长L形支架上部的下端面固定连接，X轴压电陶瓷的另一端通过F形支架与X轴运动滑台的上端面固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975412A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010868048.X
申请日：2020-08-26
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单向加工力的测量与补偿装置，包括工作台、移动组件、压电陶瓷、凸形底座、工作台支架等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小三次，直径最大部分嵌装在运动滑台的上端面内，压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座；2个支架的上部均与工作台的底部固定连接，2个支架在相向的内侧壁上设有凹槽；压电陶瓷的两端对应嵌装在支架的凹槽内；2个工作台支架的底部均对称固定安装在运动滑台上，工作台两端浮动支撑在2个工作台支架上。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975392A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010828473.6
申请日：2020-08-18
IPC分类号： B23Q1/25
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的串联式双向恒加工力工作台，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、运动滑台驱动装置、X轴压电陶瓷、垫圈、Y轴压电陶瓷、垫片等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小四次，X轴压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，Y轴压电陶瓷套装在凸形底座上，且位于X轴压电陶瓷的上方，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座上，将X轴压电陶瓷、垫圈和Y轴压电陶瓷压紧；工作台两端浮动支撑在工作台支架上，工作台支架固定安装在X轴运动滑台上。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111958322A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010834800.9
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、拉压力传感器等，特征是：沿运动滑台的运动方向，工作台底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，4个立式光轴支架均匀分布并固定安装在运动滑台的上端面上，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接；拉压力传感器一端与拉压力传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111941149A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010868036.7
申请日：2020-08-26
IPC分类号： B23Q23/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、立式光轴支架、传感器支架等，特征是：沿运动滑台的运动方向，连接板底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接，2个工作台支架的底部与运动滑台留有间隙；沿运动滑台的运动方向，拉压力传感器一端与传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111941103A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010834771.6
申请日：2020-08-19
IPC分类号： B23Q1/25
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的串联式双向恒加工力调整平台，包括工作台、传感器支架、拉压力传感器、运动滑台、底座等，特征是：连接板通过2个短导轨滑块支撑在2个短导轨上，X轴拉压力传感器的两端分别与2个传感器支架固定连接，2个传感器支架分别与连接板的下端面和X轴运动滑台的上端面固定连接；工作台通过2个短导轨滑块支撑在2个短导轨上，Y轴拉压力传感器的两端分别与2个传感器支架固定连接，2个传感器支架分别与工作台的下端面和连接板的上端面固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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