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公开(公告)号：CN111993097B
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202010828476.X
申请日：2020-08-18
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的平面恒力加工调整平台，包括工作台、工作台支架、应变片固定块、应变片、直线位移传感器、测距板等，特征是：工作台下端面的中间设一正方形凸台，工作台支架的上、下部对应固定安装在正方形凸台和X轴运动滑台上，4个应变片固定块分别固定安装在工作台支架的四个侧面上，4个应变片分别粘贴在4个应变片固定块上。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111993156A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010828477.4
申请日：2020-08-18
IPC分类号： B23Q17/00 , B23Q15/007 , B23Q15/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单向扭矩调整装置，包括三爪卡盘、扭矩传感器、支架、直线位移传感器、测距板、底座和移动组件，特征是：扭矩传感器的底部嵌装在运动滑台的上端面内，且与运动滑台的上端面齐平；三爪卡盘底部固定安装在扭矩传感器的顶部；直线位移传感器固定安装在底座的上端面上，与直线位移传感器对应，测距板固定安装在运动滑台的端部上。采用本发明，能够测量并控制机械加工过程中扭矩的大小，通过对加工参数的微调整，使扭矩稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN110202190A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201910398436.3
申请日：2019-05-14
IPC分类号： B23C3/00
摘要： 本发明涉及一种减小铣削塑性材料变形的方法，特征在于：通过铣削关键参数（铣削速度、径向切深、轴向切深和每齿进给量）的单因素铣削试验，确定塑性材料铣削的规律；然后进行正交铣削试验，确定出最优的铣削关键切削参数；进行塑性材料铣削径向走刀次数的单因素铣削试验，确定出塑性材料的合理径向走刀次数；基于上述最优的铣削关键切削参数及合理径向走刀次数，进行塑性材料铣削加工验证，最终确定出最优的径向走刀次数，从而达到减小铣削塑性材料变形的目的。本发明方法流程简单、可操作性强、具有普遍适用性，且能够在减小塑性材料工件变形的前提下同时保证较高的表面质量。
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公开(公告)号：CN111941149B
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202010868036.7
申请日：2020-08-26
IPC分类号： B23Q23/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、立式光轴支架、传感器支架等，特征是：沿运动滑台的运动方向，连接板底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接，2个工作台支架的底部与运动滑台留有间隙；沿运动滑台的运动方向，拉压力传感器一端与传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111993095B
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202010868046.0
申请日：2020-08-26
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双向加工力调整平台，包括工作台、工作台支架、三脚架、压磁式传感器、传感器支架等，特征是：2个传感器支架水平臂的底面均固定安装在Y轴运动滑台的上端面上，X轴压磁式传感器的一端与传感器支架垂直臂的内侧固定连接，X轴压磁式传感器的另一端与第一个叉的端部固定连接；Y轴压磁式传感器的一端与传感器支架垂直臂的内侧固定连接，Y轴压磁式传感器的另一端与第二个叉的端部固定连接；第三个叉的端部与工作台支架的内侧固定连接；工作台的底部固定安装在工作台支架的顶部。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN112045494A
公开(公告)日：2020-12-08
申请号：CN202010834662.4
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双向加工力测量与补偿装置，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、长L形支架、法兰支架、Y轴压电陶瓷、X轴压电陶瓷、F形支架、短L形支架、底座等，特征是：Y轴压电陶瓷沿X轴方向的一端通过法兰支架与长L形支架的内侧壁固定连接，Y轴压电陶瓷的另一端通过法兰支架与短L形支架的内侧壁固定连接；X轴压电陶瓷沿Z轴方向的一端通过F形支架与长L形支架上部的下端面固定连接，X轴压电陶瓷的另一端通过F形支架与X轴运动滑台的上端面固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975412A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010868048.X
申请日：2020-08-26
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单向加工力的测量与补偿装置，包括工作台、移动组件、压电陶瓷、凸形底座、工作台支架等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小三次，直径最大部分嵌装在运动滑台的上端面内，压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座；2个支架的上部均与工作台的底部固定连接，2个支架在相向的内侧壁上设有凹槽；压电陶瓷的两端对应嵌装在支架的凹槽内；2个工作台支架的底部均对称固定安装在运动滑台上，工作台两端浮动支撑在2个工作台支架上。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111975392A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010828473.6
申请日：2020-08-18
IPC分类号： B23Q1/25
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的串联式双向恒加工力工作台，包括工作台、X轴移动组件、Y轴移动组件、运动滑台驱动装置、X轴压电陶瓷、垫圈、Y轴压电陶瓷、垫片等，特征是：凸形底座的直径由下向上台阶式缩小四次，X轴压电陶瓷套装并支撑在凸形底座的第二个台阶上，Y轴压电陶瓷套装在凸形底座上，且位于X轴压电陶瓷的上方，螺钉垂直向下穿过垫片安装在凸形底座上，将X轴压电陶瓷、垫圈和Y轴压电陶瓷压紧；工作台两端浮动支撑在工作台支架上，工作台支架固定安装在X轴运动滑台上。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111958322A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN202010834800.9
申请日：2020-08-19
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的单轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、拉压力传感器等，特征是：沿运动滑台的运动方向，工作台底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，4个立式光轴支架均匀分布并固定安装在运动滑台的上端面上，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接；拉压力传感器一端与拉压力传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内单向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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公开(公告)号：CN111941149A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010868036.7
申请日：2020-08-26
IPC分类号： B23Q23/00
摘要： 本发明涉及一种用于切削加工的双轴恒力加工补偿装置，包括工作台、工作台支架、直线轴承、光轴、立式光轴支架、传感器支架等，特征是：沿运动滑台的运动方向，连接板底部的两端固定安装有2个工作台支架，每个工作台支架的外侧设置有2个立式光轴支架，2根光轴的两端分别穿过固定嵌装在工作台支架上的2个直线轴承与立式光轴支架固定连接，2个工作台支架的底部与运动滑台留有间隙；沿运动滑台的运动方向，拉压力传感器一端与传感器支架垂直臂固定连接，另一端与工作台支架固定连接。采用本发明，能够测量并调整平面内双向的加工力，通过微调加工参数，使切削力稳定在一定的范围内，对于提高工件加工质量的稳定性具有重要意义。
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