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公开(公告)号：CN107022421A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201610815832.8
申请日：2010-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种清洗组合物，其为除去在半导体用基板上形成的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣用的清洗组合物，其特征在于，包含(成分a)水、(成份b)羟基胺及/或其盐、(成分c)碱性有机化合物和(成分d)有机酸，所述清洗组合物的pH为7～9。还提供使用所述清洗组合物的清洗方法及半导体装置的制造方法。
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公开(公告)号：CN1347008A
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：CN01142236.X
申请日：2001-09-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03C1/035
CPC classification number: G03C1/0051 , G03C1/047 , G03C1/07 , G03C2001/0153 , G03C2001/0357 , G03C2200/03
Abstract: 公开了一种包括至少一种卤化银乳剂的卤化银照相感光材料,其特征在于50%或50%以上的所有卤化银颗粒投影区域包括满足以下要求(i)－(iii)的片状卤化银颗粒,而该片状卤化银颗粒厚度的变异系数小于40%:(i)颗粒厚度小于0.05μm,而等效圆周直径为0.6μm或0.6μm以上;(ii)是碘含量为70mol%或70mol%以上的碘溴化银或氯溴化银;(iii)是具有两个平行的包括(111)表面的主平面的片状卤化银颗粒。
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公开(公告)号：CN112558411B
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202011461904.6
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，所述着色剂含有C.I.颜料绿58和黄色颜料，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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公开(公告)号：CN112558415A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011463196.X
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112558414A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011463180.9
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，所述含氟原子的肟酯系光聚合引发剂与所述α‑氨基酮系光聚合引发剂的质量比为1∶1.5～1∶10，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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公开(公告)号：CN112558411A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011461904.6
申请日：2016-02-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/029 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/105 , H01L27/146 , H01L31/0232 , G02F1/1335 , G02B5/22 , G02B5/20
Abstract: 本发明提供一种着色感光性组合物，其能够密合性良好地形成对波长365nm的光的透射率较低的膜。并且，提供使用着色感光性组合物的固化膜、图案形成方法、带遮光膜的红外光截止滤色器、固体成像元件、图像显示装置及红外传感器。所述着色感光性组合物，包含含氟原子的肟酯系光聚合引发剂、具有烯属不饱和双键的聚合性化合物、碱可溶性树脂、及着色剂，其中，所述着色剂含有C.I.颜料绿58和黄色颜料，使用着色感光性组合物制成干燥后的膜厚为2.0μm的膜时，膜在波长365nm中的光学浓度为1.5以上。
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公开(公告)号：CN104395502B
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201380016216.0
申请日：2013-07-31
Applicant: 富士胶片电子材料美国有限公司 , 富士胶片株式会社
IPC: C23F1/16
CPC classification number: C23F1/28 , C23F1/20 , C23F1/26 , C23F1/30 , H01L21/30604 , H01L21/32134 , H01L21/823871
Abstract: 本公开涉及含有约60％至约95％的至少一种磺酸；约0.005％至约0.04％的氯化物阴离子；约0.03％至约0.27％的溴化物阴离子；约0.1％至约20％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和约3％至约37％的水的蚀刻组合物。
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公开(公告)号：CN102242025B
公开(公告)日：2015-12-16
申请号：CN201110122345.0
申请日：2011-05-09
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D7/265 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004
Abstract: 本发明提供一种可以抑制半导体基板的金属的腐蚀、且半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的除去性优异的清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法。一种清洗组合物、以及使用所述清洗组合物的半导体装置的制造方法及清洗方法，其特征在于，所述组合物为用于除去形成于半导体基板上的等离子蚀刻残渣及/或灰化残渣的清洗组合物，其包括(成分a)水、(成分b)胺化合物、(成分c)羟胺及/或其盐、(成分d)季铵化合物、(成分e)有机酸、以及(成分f)水溶性有机溶剂，且pH为6～9。
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公开(公告)号：CN104395502A
公开(公告)日：2015-03-04
申请号：CN201380016216.0
申请日：2013-07-31
Applicant: 富士胶片电子材料美国有限公司 , 富士胶片株式会社
IPC: C23F1/16
CPC classification number: C23F1/28 , C23F1/20 , C23F1/26 , C23F1/30 , H01L21/30604 , H01L21/32134 , H01L21/823871
Abstract: 本公开涉及含有约60％至约95％的至少一种磺酸；约0.005％至约0.04％的氯化物阴离子；约0.03％至约0.27％的溴化物阴离子；约0.1％至约20％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和约3％至约37％的水的蚀刻组合物。
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