公开(公告)号：CN117693716A

公开(公告)日：2024-03-12

申请号：CN202280049630.0

申请日：2022-07-11

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 丸茂和博 ,  高桥智美 ,  石地洋平 ,  白川三千纮 ,  后藤研由

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039 ,  C08F20/18 ,  C08F12/02

Abstract: 本发明提供一种能够形成分辨率优异、均匀性也优异的图案的图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的图案形成方法包括：抗蚀剂膜形成工序，使用相对于有机溶剂的溶解度通过曝光、酸、碱或加热的作用而增大的感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜；曝光工序，对抗蚀剂膜进行曝光；以及显影工序，使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影，有机溶剂包含烃系溶剂和碳数6以下的酯系溶剂。

公开(公告)号：CN111787995B

公开(公告)日：2022-06-17

申请号：CN201980016119.9

申请日：2019-03-01

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 上村哲也 ,  高桥智美 ,  大松祯 ,  清水哲也

IPC: B01D61/58 ,  B01D71/28 ,  B01D71/32 ,  B01D71/52 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32 ,  H01L21/304 ,  B01D36/02 ,  B01D61/14 ,  B01D61/16 ,  B01D61/22 ,  B01D69/00 ,  B01D71/26

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，课题还在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。一种过滤装置，其用于将被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；与过滤器A不同的至少1个过滤器B；及串联配置有过滤器A及过滤器B的从流入部至流出部的流道，其中，过滤器A具有：超高分子量聚乙烯制的多孔性膜；及树脂层，以覆盖多孔性膜的表面的至少一部分的方式配置，树脂层包含具有中性基或离子交换基的树脂。

公开(公告)号：CN112384858A

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201980046230.2

申请日：2019-07-10

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 大松祯 ,  上村哲也 ,  清水哲也 ,  高桥智美 ,  大津晓彦

IPC: G03F7/16 ,  C11D7/24 ,  C11D7/26 ,  C11D7/50 ,  G03F7/32 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的课题为提供一种即使在长期保存之后，缺陷抑制性能也优异的药液、试剂盒、图案形成方法、药液的制造方法及药液收容体。本发明的药液为含有有机溶剂、酸成分及金属成分的药液，其中，酸成分的含量相对于药液的总质量为1质量ppt以上且15质量ppm以下，金属成分的含量相对于药液的总质量为0.001～100质量ppt。

公开(公告)号：CN111787995A

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201980016119.9

申请日：2019-03-01

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 上村哲也 ,  高桥智美 ,  大松祯 ,  清水哲也

IPC: B01D61/58 ,  B01D71/28 ,  B01D71/32 ,  B01D71/52 ,  B01D71/56 ,  B01D71/68 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32 ,  H01L21/304 ,  B01D36/02 ,  B01D61/14 ,  B01D61/16 ,  B01D61/22 ,  B01D69/00 ,  B01D71/26

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，课题还在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。一种过滤装置，其用于将被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；与过滤器A不同的至少1个过滤器B；及串联配置有过滤器A及过滤器B的从流入部至流出部的流道，其中，过滤器A具有：超高分子量聚乙烯制的多孔性膜；及树脂层，以覆盖多孔性膜的表面的至少一部分的方式配置，树脂层包含具有中性基或离子交换基的树脂。

公开(公告)号：CN109863452A

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201780065656.3

申请日：2017-11-14

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 上村哲也 ,  高桥智美

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够使用少量的抗蚀剂组合物在基板上形成更薄且厚度均匀的抗蚀膜，并且具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且，本发明的课题还在于提供一种图案形成方法。本发明的药液含有：2种以上的有机溶剂的混合物；及杂质金属，该杂质金属含有选自由Fe、Cr、Ni及Pb组成的组中的1种，该药液中，混合物在25℃下的蒸气压为50～1420Pa，当药液中含有1种杂质金属时，药液中的杂质金属的含量为0.001～100质量ppt，当药液中含有2种以上的杂质金属时，药液中的杂质金属各自的含量为0.001～100质量ppt。