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公开(公告)号：CN112400139B
公开(公告)日：2024-04-23
申请号：CN201980046121.0
申请日：2019-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，提供一种含有上述药液的药液收容体。本发明的药液含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，相对于药液的总质量，有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。
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公开(公告)号：CN114787717A
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202080084911.0
申请日：2020-11-19
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , C08F220/28 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种处理液，当所述处理液使用于抗蚀剂膜的显影和清洗中的至少一种处理时，解析性优异、薄膜化抑制性优异且残渣抑制性优异。并且，提供一种有关上述处理液的图案形成方法。本发明的处理液是一种用于对由感光化射线或感放射线性组合物获得的抗蚀剂膜进行显影和清洗中的至少一种处理且包含有机溶剂的抗蚀剂膜图案化用处理液，所述处理液包含满足规定条件的第一有机溶剂、满足规定条件的第二有机溶剂。
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公开(公告)号：CN111683736A
公开(公告)日：2020-09-18
申请号：CN201980011497.8
申请日：2019-02-26
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D61/14 , B01D61/18 , B01D61/58 , B01D65/02 , B01D69/12 , B01D71/32 , B01D71/82 , G03F7/26 , G03F7/32 , H01L21/304
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够制造具有优异的缺陷抑制性能的药液的过滤装置。并且，课题还在于提供一种纯化装置及药液的制造方法。一种过滤装置，其用于将被纯化液进行纯化而得到药液，所述过滤装置具有：流入部；流出部；过滤器A；与过滤器A不同的至少1个过滤器B；及串联配置有过滤器A及过滤器B的从流入部至流出部的流路，其中，过滤器A具有多氟烃制的多孔基材；及包覆层，以覆盖多孔基材的方式配置且含有具有吸附性基团的树脂。
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公开(公告)号：CN120065655A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202510228996.X
申请日：2019-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/40 , G03F7/42 , G03F7/20 , G03F7/30 , G03F7/039 , H01L21/304 , C11D7/50 , C11D7/26 , C11D7/24
Abstract: 本发明的课题为提供一种即使在长期保存之后，缺陷抑制性能也优异的药液、试剂盒、图案形成方法、药液的制造方法及药液收容体。本发明的药液为含有有机溶剂、酸成分及金属成分的药液，其中，酸成分的含量相对于药液的总质量为1质量ppt以上且15质量ppm以下，金属成分的含量相对于药液的总质量为0.001～100质量ppt。
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公开(公告)号：CN112384858B
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN201980046230.2
申请日：2019-07-10
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的课题为提供一种即使在长期保存之后，缺陷抑制性能也优异的药液、试剂盒、图案形成方法、药液的制造方法及药液收容体。本发明的药液为含有有机溶剂、酸成分及金属成分的药液，其中，酸成分的含量相对于药液的总质量为1质量ppt以上且15质量ppm以下，金属成分的含量相对于药液的总质量为0.001～100质量ppt。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117616336A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202280046765.1
申请日：2022-07-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明的第一课题在于提供一种即使从曝光处理后到实施显影处理的时间(显影前待机时间)发生变动，所形成的图案的线宽的变动也小的图案形成方法。另外，本发明的第二课题在于提供一种与上述图案形成方法相关的电子器件的制造方法。另外，本发明的第三课题在于提供一种适于形成上述图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物及抗蚀剂膜。本发明的图案形成方法具有：使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成抗蚀剂膜的工序；对抗蚀剂膜进行曝光的工序；以及使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影的工序，上述组合物满足以下所示的要件A1或要件A2。要件A1：组合物包含具有通过曝光、酸、碱或加热的作用使极性降低的基团的树脂X1。要件A2：组合物包含具有极性基团的树脂X2、及通过曝光、酸、碱或加热的作用与上述极性基团反应的化合物。
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公开(公告)号：CN112449658B
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN201980045368.0
申请日：2019-07-05
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种与药液接触时所得到的药液的残渣缺陷抑制性及桥接缺陷抑制性优异的部件。并且，提供一种容器、药液收容体、反应槽、蒸馏塔、过滤器单元、存储罐、管路及药液的制造方法。本发明的部件为与药液接触的部件，上述部件的表面由含有铬原子及铁原子的不锈钢构成，从上述部件的表面沿着深度方向至10nm，测量上述铬原子相对于上述铁原子的原子比时，在从上述部件的表面沿深度方向3nm以内显示上述原子比的最大值，上述最大值为0.5～3.0，上述部件的表面的表面平均粗糙度为10nm以下。
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公开(公告)号：CN107210215A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006546.5
申请日：2016-02-04
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/308
CPC classification number: H01L21/304 , C07C321/04 , C07C321/22 , C07C321/26 , C07C323/12 , C07C323/52 , C07C323/58 , C07D213/70 , C07D239/40 , C07D249/12 , C22B30/04 , C22B58/00 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/3081 , H01L21/31111 , Y02P20/582
Abstract: 本发明提供一种含有酸与巯基化合物的III‑V族元素的氧化物的去除液、抗氧化液或处理液及使用这些的方法、以及含有酸与巯基化合物的半导体基板的处理液及使用该处理液的半导体基板产品的制造方法。
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公开(公告)号：CN118311829A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410404678.X
申请日：2019-07-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种缺陷抑制性优异的药液。并且，提供一种含有上述药液的药液收容体。本发明的药液含有选自由除了烷烃及烯烃以外的化合物、以及癸烷及十一烷组成的组中的1种以上的有机溶剂，该药液还含有选自由碳原子数12～50的烷烃及碳原子数12～50的烯烃组成的组中的1种以上的有机成分，相对于药液的总质量，有机成分的含量为0.10～1,000,000质量ppt。
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公开(公告)号：CN117916671A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202280060759.1
申请日：2022-09-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/32 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明的课题在于提供一种处理液的检定方法，其判定在用作显影液或冲洗液时，是否为能够形成抑制了线宽的不均的抗蚀剂图案的处理液。本发明的课题还在于提供一种处理液的制造方法。本发明的处理液的检定方法是一种含脂肪族烃系溶剂的处理液的检定方法，其具有：工序A1：获取处理液中的选自由具有碳数为1～3的烃基的羧酸及甲酸所组成的组中的至少一种酸成分的含量的测量数据；以及工序A2：判定工序A1中得到的测量数据是否包含于预先设定的许可范围。
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