导电性金属氧化物薄膜的除去方法及装置

    公开(公告)号:CN101416283B

    公开(公告)日:2010-05-19

    申请号:CN200680054217.4

    申请日:2006-09-25

    Abstract: 本发明提供除去导电性金属氧化物薄膜直至端部也无残留的方法及装置。将正电极(13)和第1负电极(14)与基材(11)表面的导电性金属氧化物薄膜(12)对向并以非接触状态并排设置。在正电极(13)和第1负电极(14)间,在导电性金属氧化物薄膜(12)的宽度方向以接触状态设置多个第2负电极(17)。以电解液存在于这些电极(13、14、17)和导电性金属氧化物薄膜(12)间的状态,对电极(13、14、17)施加电压。使基材(11)相对于电极(13、14、17)进行移动,使得导电性金属氧化物薄膜(12)在通过负电极(14、17)后通过正电极(13)。可不生成瑕疵或应力变形,而有效地除去导电性金属氧化物薄膜直至最终端部,可实现高价的功能性玻璃基板等的再生利用。

    蒸发装置、蒸镀装置以及蒸镀装置中的蒸发装置的切换方法

    公开(公告)号:CN100558929C

    公开(公告)日:2009-11-11

    申请号:CN200580014651.5

    申请日:2005-06-15

    CPC classification number: C23C14/243 C23C14/246

    Abstract: 一种在规定的真空度下使规定的材料蒸发的蒸发装置(4),包括:连接到真空泵(12)上,同时,在上壁部(11c)上设置能够放出蒸发的蒸发材料(B)的材料放出孔的蒸发用容器(11);借助升降用气缸装置(13)可以在该蒸发容器(11)内自由升降地设置、同时能够载置容纳蒸镀材料(A)的材料容纳容器(14)的载置台(15);在上述蒸发用容器(14)的材料放出孔(17)的周围,设置筒状的间隔壁构件(19),所述间隔壁构件(19),通过上述材料容纳容器(14)经由载置台(15)上升时覆盖其外周,抑制蒸发材料向所述蒸发用容器(11)内放出,并且,在上述载置台(15)及间隔壁构件(16)上,具有加热上述材料容纳容器(14)的加热装置(21)。

    放电破坏方法、系统及其制造方法

    公开(公告)号:CN1185766A

    公开(公告)日:1998-06-24

    申请号:CN96194284.3

    申请日:1996-07-22

    CPC classification number: E21C37/18 F42B3/087 F42D3/00 F42D3/04

    Abstract: 一种方法包括:一个步骤以形成一个孔(2)以把一种破坏物质(4)装进一个待破裂物体(1),一个步骤以把一对其末端之间连接一根细金属丝(5)的电极(6)插入该孔(2),一个步骤以把破坏物质(4)和细金属丝(5)安排在一个由橡胶制成的袋状容器(22)中,以便把一个电容器中累积的电能供给电极(6)以熔化和汽化细金属丝(5),由此使破坏物质(4)的体积膨胀并使待破裂物体(1)破坏,以及一个步骤以把袋状容器(22)与孔(2)相配合。这种方法即使在待破裂物体中形成的孔变形时,也保证向待破裂物体可靠地传递膨胀力。

    真空蒸镀装置
    27.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105316625B

    公开(公告)日:2019-10-22

    申请号:CN201510245745.9

    申请日:2015-05-14

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。材料供给装置(3)向用于在基板(K)上形成薄膜的蒸镀用容器(1)内供给蒸镀材料,材料供给装置(3)包括:材料填充容器(11),填充有蒸镀材料;材料引导管道(12),利用从气体供给装置(14)供给的不活泼气体,将蒸镀材料从材料填充容器(11)向蒸镀用容器(1)内引导;加热器(17),加热所述材料引导管道(12)以使蒸镀材料气化;以及振动赋予器(13),对材料填充容器(11)赋予振动。

    蒸镀装置
    28.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103305797B

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201310070826.0

    申请日:2013-03-06

    CPC classification number: C23C14/24 C23C14/544

    Abstract: 本发明提供一种蒸镀装置。在所述蒸镀装置中,在将蒸发粒子向玻璃基板(12)引导的材料输送管(17)上,设置有用于调节流路的开度的流量控制阀(18),在比流量控制阀(18)靠向下游侧的材料输送管(17)内设有第一压力传感器(21),在真空室(11)内设有第二压力传感器(22)。控制器24)利用上述两台压力传感器(21、22)测量出的压力(P1、P2)的压力差(P1-P2)求出蒸发粒子的流量,从而测量蒸发粒子向玻璃基板(12)的蒸镀速率。并且控制器(24)利用流量控制阀(18)调节材料输送管(17)的开度,以使所述测量的蒸镀速率成为规定的蒸镀速率。

    真空蒸镀装置
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105316625A

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201510245745.9

    申请日:2015-05-14

    Abstract: 本发明提供一种真空蒸镀装置。材料供给装置(3)向用于在基板(K)上形成薄膜的蒸镀用容器(1)内供给蒸镀材料,材料供给装置(3)包括:材料填充容器(11),填充有蒸镀材料;材料引导管道(12),利用从气体供给装置(14)供给的不活泼气体,将蒸镀材料从材料填充容器(11)向蒸镀用容器(1)内引导;加热器(17),加热所述材料引导管道(12)以使蒸镀材料气化;以及振动赋予器(13),对材料填充容器(11)赋予振动。

    蒸镀装置
    30.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102373434B

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201010260662.4

    申请日:2010-08-20

    Abstract: 本发明公开了一种蒸镀装置,本发明中,即使相对于基板(12)的蒸镀速度大幅改变,也能够高精度地检测相对于蒸镀速度检测元件(33)的蒸镀速度,恰当地进行蒸镀速度的控制。在真空状态的成膜室(11)内,将具有多个蒸镀喷嘴(15)的分散容器(14)与基板(12)相向地配置,在该分散容器(14)上贯穿设置着检测喷嘴(32),且与检测喷嘴(32)相向地配置着蒸镀速度检测元件(33),设置了使蒸镀速度检测元件(33)相对于检测喷嘴(32)的放出口(32a)接近、离开的蒸镀速度调整机构(34),通过与相对于基板(12)的蒸镀速度对应地调整检测喷嘴(32)的放出口(32a)和蒸镀速度检测元件(33)的距离(L),在蒸镀速度检测元件(33)高精度地检测蒸镀速度。

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