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公开(公告)号：CN116324421A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202180069507.0
申请日：2021-08-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: G01N35/04
Abstract: 本发明提供一种既能防止磁饱和，又能降低输送装置的重量的输送装置。本发明的输送装置的特征在于，具备：输送路(65)，其供输送物移动；电磁铁，其设置于输送路(65)的与输送物移动的面相反的一侧的面；以及驱动电路，其使电流流过电磁铁，电磁铁具有由磁性体构成的齿(22a、22b)和卷绕于齿(22a、22b)的表面的绕组(21a、21b)，设置有支撑齿(22a、22b)的磁轭(26)，磁轭(26)的最小截面积(Sy)与齿(22a、22b)的设置有绕组(21a、21b)的部分的最小截面积(St)的关系为Sy＜St。
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公开(公告)号：CN103938162A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410018357.2
申请日：2014-01-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供蒸镀装置和该蒸镀装置所用的蒸发源，该蒸镀装置能够长时间进行稳定的蒸镀，该蒸发源能够稳定且大量地收入作为蒸镀材料的Al。本发明的蒸镀装置具备蒸镀基板的蒸发源（30）和收纳蒸发源（30）且基板被搬送的工艺腔室。蒸发源（30）具备坩埚（10），坩埚（10）具有固体的Al材料（2）被供给的材料收入部（11）、与材料收入部（11）相邻，加热从材料收入部（11）供给的Al材料（2）使其熔融并形成为熔液（1）的熔融部（12）、和与熔融部（12）相邻，加热从熔融部（12）供给的熔液（1）而产生蒸气的蒸发部（13）。
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公开(公告)号：CN103031520A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210304156.X
申请日：2012-08-24
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24 , C23C14/12 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供一种蒸发源及成膜装置。该成膜装置具有防止铝的爬升且难以产生破损的稳定的蒸发源。而且该成膜装置适合于使基板竖直并自横向进行蒸镀的纵向式蒸镀。所述蒸发源至少由坩埚和加热部构成，坩埚由相对于蒸镀材料的浸润性不同的材质制成的具有两种结构的坩埚，至少开口部由浸润性小的材料制成，被供给蒸镀材料的部分由浸润性大的材料制成。成膜装置具有如上所述的蒸发源。
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公开(公告)号：CN102732837A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201210023615.7
申请日：2012-02-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: C23C14/24
Abstract: 本发明以低成本提供一种具有防止Al的向上蠕动或Al蒸气浸入而难以引起破损的蒸发源的蒸镀装置。该蒸镀装置在真空腔室内具有蒸镀源单元(26)，其中，上述蒸镀源单元(26)具有：收容蒸发材料(5)的坩埚(1)、安装于上述坩埚(1)的开口部的喷嘴(2)、包围上述坩埚(1)并收容加热器(3)的加热室(10)、和固定件(7)，在上述坩埚(1)的内壁和上述加热室(10)之间具有切口(12)，该切口(12)阻止在上述坩埚(1)中熔融了的上述蒸发材料(5)或上述蒸发材料(5)的蒸气侵入到上述加热室(10)。
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公开(公告)号：CN102061445A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010539611.5
申请日：2010-11-09
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种在大型基板上高速地形成膜厚均匀且杂质少的薄膜并可长时间连续运转的真空蒸镀装置及成膜装置。将形成了有机EL层的基板(1)垂直地设置于蒸镀室(5)内，在基板(1)上配置用于选择地蒸镀有机EL层的纯金属掩膜(4)。成为有机EL层的材料的蒸发源(8)配置于蒸镀室外。喷嘴线状地配置的蒸发头部(3)与蒸发源(8)由柔软的配管(7)连接。通过使蒸发头部(3)在与喷嘴的配置方向垂直的方向移动，在基板(1)上蒸镀有机EL层。通过以柔软的配管(7)连接蒸发头部(3)与蒸发源(9)，可只使蒸发头部(3)移动，能够使装置的结构简单化，另外，能够防止由可动机构产生的杂质引起的有机EL层的污染。
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公开(公告)号：CN113939996B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202080040753.9
申请日：2020-04-07
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H02P25/064 , B65G54/02 , G01N35/04 , H02K41/03
Abstract: 本发明提供一种输送装置和输送方法，能够效率良好地提高推力并抑制耗电。其包括：设置在被输送物一侧的第一磁性体；磁路，其包括由第二磁性体构成的磁芯和卷绕在所述磁芯的外侧的绕组；和对所述磁路的所述绕组提供电流的驱动电路，所述磁路包括第一磁路和与所述第一磁路相邻且位于所述被输送物要被输送去往的一侧的第二磁路，在所述第一磁性体位于比所述第一磁路与所述第二磁路之间的第一规定位置靠近所述第二磁路一侧的情况下，所述驱动电路对所述第一磁路的绕组提供电流，以在所述第一磁性体与所述第一磁路之间产生电磁斥力。
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公开(公告)号：CN118489207A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202280087207.X
申请日：2022-10-28
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H02P25/064
Abstract: 输送装置具备：线圈(107)，其包含铁芯(105)和绕组(106)；电流检测部(109)，其检测在线圈(107)的绕组(106)中流过的电流；驱动部(108)，其向线圈(107)供给电压；以及控制部(110)，控制部(110)根据由于电磁感应的影响而在一个绕组(106)中流过的电流来推定设置有磁性体(103)的支架(102)的输送速度。由此，提供与以往相比能够高精度地进行输送物的速度检测的输送装置以及输送方法。
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公开(公告)号：CN115023405B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202080094898.7
申请日：2020-11-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种搬送装置，减小使被搬送体移动的推力的脉动，减小搬送中的被搬送体的振动，实现稳定的搬送。本发明的搬送装置的特征在于，具有：第一电磁铁部，其具有由磁性体构成的第一齿、与第一齿连接且由磁性体构成的第一芯、以及形成于第一芯的周围的第一绕组；以及第二电磁铁部，其与第一电磁铁部相邻地设置，且具有由磁性体构成的第二齿、与第二齿连接且由磁性体构成的第二芯、以及形成于第二芯的周围的第二绕组，在第一电磁铁部的第一齿与第二电磁铁部的第二齿之间具有由磁性体构成的磁耦合部。
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公开(公告)号：CN115667107A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180035773.1
申请日：2021-02-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 具备：使用于运送运送容器(20)的推力产生的多个线圈(25a、25b)；对多个线圈(25a、25b)各自施加电压的驱动电路(50)；和基于对线圈(25a、25b)施加了电压脉冲(80、81)时的电流信息来推定运送容器(20)的位置的运算部(40)，运算部(40)在装置的电源启动时对对象的线圈(25a、25b)施加正方向的电压脉冲(80)以及负方向的电压脉冲(81)，根据流过各个线圈(25a、25b)的电流信息来检测运送容器(20)的位置。由此，提供实现无位置传感器化所带来的低成本化且更加提高了再启动时的运送的稳定性的运送装置以及分析系统。
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公开(公告)号：CN115023405A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202080094898.7
申请日：2020-11-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
Abstract: 本发明提供一种搬送装置，减小使被搬送体移动的推力的脉动，减小搬送中的被搬送体的振动，实现稳定的搬送。本发明的搬送装置的特征在于，具有：第一电磁铁部，其具有由磁性体构成的第一齿、与第一齿连接且由磁性体构成的第一芯、以及形成于第一芯的周围的第一绕组；以及第二电磁铁部，其与第一电磁铁部相邻地设置，且具有由磁性体构成的第二齿、与第二齿连接且由磁性体构成的第二芯、以及形成于第二芯的周围的第二绕组，在第一电磁铁部的第一齿与第二电磁铁部的第二齿之间具有由磁性体构成的磁耦合部。
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