一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置

    公开(公告)号:CN110867360A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201911194175.X

    申请日:2019-11-28

    摘要: 本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置,它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱,空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘,电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置,水平管的顶部焊接有电极柱,电极柱的上端焊接有电极片,电极片与吸盘顶部的内壁接触,电极柱的下端伸入于水平管内,且延伸端上固设有导线B,导线B的延伸端处连接有第二高频电源;盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线,天线的顶部连接有导线A,导线A的另一端连接有第一高频电源;外壳上设置有电磁阀和卸压阀,电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是:提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。

    一种亚波长光栅偏振器及制备方法

    公开(公告)号:CN107102395B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201710562705.6

    申请日:2017-07-11

    IPC分类号: G02B5/30

    摘要: 本发明公开了一种亚波长光栅偏振器及制备方法,包括偏振片和基层,所述偏振片的下方设置有基层,所述基层的内部包括有光栅层、波导层和包层;所述光栅层与所述波导层位于同一层;所述波导层的折射率大于包层的折射率,所述波导层由多个重复的光栅单元组成;本发明通过采用亚波长全刻蚀光栅结构,并使其中的波导层的折射率大于所述上包层和下包层的折射率,能够兼耦合与分束功能于一体,并具有结构简单、尺寸小、与CMOS工艺兼容性好、制作成本低且快速等优点,能够很好的应用于光电集成电路系统当中,同时采用多层偏振片,可以提高实现高消光比和高透过率。

    带电混合粒子常压识别分离系统及方法

    公开(公告)号:CN117747404A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311748928.3

    申请日:2023-12-18

    IPC分类号: H01J49/06 G01N15/1031

    摘要: 本发明提供了一种带电混合粒子常压识别分离系统,包括第一电极环、第二电极环和电磁线圈,第一电极环内形成第一电场,第一电场用于驱使带电粒子在第一电极环内部运动;第二电极环内形成第二电场,第二电场用于驱使带电粒子在第二电极环内运动,第一电极环和第二电极环之间具有零电场区域;电磁线圈用于使零电场区域形成垂直于第一电场和第二电场的匀强磁场。本发明提供了一种带电混合粒子常压识别分离方法,能够降低对混合粒子中的目标粒子进行分离的难度,并提高目标粒子的获取纯度。

    基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器

    公开(公告)号:CN115963082A

    公开(公告)日:2023-04-14

    申请号:CN202211284445.8

    申请日:2022-10-17

    IPC分类号: G01N21/41

    摘要: 本发明公开了一种基于基座式高对比度复合光栅的光学折射率传感器,包括光栅层、中间层和基底,从上到下依次为光栅层、中间层、基底,所述结构包括若干个周期性单元,每个周期性单元包括两个复合的高对比度光栅,所述光栅的光栅横截面为矩型。所述中间层是通过对二氧化硅进行局部刻蚀形成的基座式结构。本发明在传统高对比度光栅的基础之上增加了基座式结构和复合光栅结构,基座式结构增强了局域光场与检测物质的相互作用,复合光栅结构增强了对局域光场的束缚能力。通过设计基座式复合光栅结构、调整光栅的结构参数,实现对不同模式的调控。

    一种基于双层凹型光栅结构的高通量集成光学传感器

    公开(公告)号:CN114965362A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210555112.8

    申请日:2022-05-19

    IPC分类号: G01N21/41

    摘要: 本发明公开了一种基于双层凹型光栅结构的高通量集成光学传感器,包括两层复合光栅层和中间夹层,两层复合光栅层分别在所述中间夹层的上、下面,所述复合光栅层为凹型光栅结构,包括若干周期性单元,每个周期性单元包括若干周期或非周期排列的微纳光栅,所述微纳光栅远离中间夹层的一端刻蚀凹槽,所述微纳光栅的光栅横截面为凹型,相邻两个微纳光栅之间具有气隙。本发明基于当前光学传感器的研究现状和谐振波导光栅的优势,结构简单,制备方便,通过设计凹型光栅结构,实现对不同模式的调控。

    一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置

    公开(公告)号:CN110867360B

    公开(公告)日:2022-04-05

    申请号:CN201911194175.X

    申请日:2019-11-28

    摘要: 本发明公开了一种蚀刻光学器件的等离子体蚀刻装置,它包括由上往下顺次设置的外壳、工作台和机箱,空心轴延伸端的顶部焊接有吸盘,电机的输出轴与空心轴之间设置有可驱动空心轴旋转的传动装置,水平管的顶部焊接有电极柱,电极柱的上端焊接有电极片,电极片与吸盘顶部的内壁接触,电极柱的下端伸入于水平管内,且延伸端上固设有导线B,导线B的延伸端处连接有第二高频电源;盖板上设置有伸入于密闭腔内的天线,天线的顶部连接有导线A,导线A的另一端连接有第一高频电源;外壳上设置有电磁阀和卸压阀,电磁阀的另一端连接有储存有气源的气瓶。本发明的有益效果是:提高蚀刻效率、提高光学器件冷却效率、自动化程度高。

    一种制备亚波长抗反射压膜的方法

    公开(公告)号:CN107942415A

    公开(公告)日:2018-04-20

    申请号:CN201711281500.7

    申请日:2017-12-07

    IPC分类号: G02B1/118

    CPC分类号: G02B1/118

    摘要: 本发明公开了一种制备亚波长抗反射压膜的方法,包括如下步骤:A)利用化学氧化还原反应沉积金属层的方法,在含氧基底表面沉积硬掩膜,在单面抛光的基片上沉积一层金属层;B)在所述硬掩膜表面制作出周期性单排光刻胶图形层,将沉积有金属层的基片进行快速退火处理,经过退火处理的金属层形成纳米金属粒子,该纳米金属粒子在所述基片表面呈随机分布,且纳米金属粒子之间的间隔处于亚波长范围。本发明具有广角宽谱的抗反射效果;采用湿法制作金属掩模降低了生产设备成本,同时工艺方法成本低廉,制作简单,并可实现大面积的制作。

    一种基于金属纳米光栅的偏振片

    公开(公告)号:CN207380311U

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:CN201721400954.7

    申请日:2017-10-26

    IPC分类号: G02B7/00 G02B5/30

    摘要: 本实用新型公开了一种基于金属纳米光栅的偏振片,包括角度调节机构、偏振片本体和控制板,所述角度调节机构的一侧通过导线与控制板连接,所述角度调节机构的顶部安装有偏振片本体,所述控制板电性连接角度调节机构,所述角度调节机构包括指针、第一螺纹杆、滑槽、刻度条、支撑柱、第二螺纹杆、底座、移动条、第一齿轮、连接杆、伺服电机、齿轮条、滑块、滑轨、第二齿轮和主动齿轮,所述底座的一侧开设有滑槽,所述滑槽的上部通过螺栓固定有刻度条,所述底座的顶部中心处通过焊接固定有支撑柱,且支撑柱的顶部通过万向铰链与偏振片本体连接,本实用新型,结构简单,使用方便,可以有效提高TM偏振光的透射效率。

    常压下气相离子分子碰撞截面测量仪

    公开(公告)号:CN205808992U

    公开(公告)日:2016-12-14

    申请号:CN201620530273.1

    申请日:2016-06-03

    IPC分类号: G01N27/66

    摘要: 本实用新型涉及一种常压下气相离子分子碰撞截面测量仪,其测量仪包括紫外灯电离装置、进样装置、电场腔、供电装置、微电流检测计、数据采集处理系统和气体输送装置,所述进样装置与所述紫外灯电离装置的入口相连,所述紫外灯电离装置的出口与所述电场腔的进口端之间设置有信号栅门,所述供电装置的正负极分别与电场腔的进口端和出口端通过导线电连接,所述微电流检测计设置在所述电场腔的出口端,所述微电流检测计与数据采集处理系统电连接,所述电场腔上开设有电场腔进气口和电场腔出气口,所述气体输送装置与所述电场腔进气口相连通,其结构简单,使用方便,可以在大气压下完成离子分子碰撞截面的在线测量。

    绝缘密封结构及气相分子电离腔体装置

    公开(公告)号:CN221327645U

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202322958460.2

    申请日:2023-11-01

    摘要: 本实用新型提供了一种绝缘密封结构及气相分子电离腔体装置,绝缘密封结构包括套筒,套筒的内周壁形成第一绝缘表面,套筒的外周壁形成第二绝缘表面;套筒沿其轴向间隔分布有多个螺纹孔,各个螺纹孔均与套筒的内腔贯通;其中,套筒适于套接固定多个离子透镜模块和多个气路透镜模块,且各个气路透镜模块的气路接头分别与其中一个螺纹孔螺接配合。本实用新型提供的绝缘密封结构,能够提高气相分子电离过程中的离子信号强度,从而提高电离效率,并且能够利用套筒提高腔体密封性,从而提升分析仪器的灵敏度和准确性。