公开(公告)号：CN101942648A

公开(公告)日：2011-01-12

申请号：CN201010226730.5

申请日：2004-08-12

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  大见忠弘 ,  日本瑞翁株式会社

Inventor： 小林保男 ,  川村刚平 ,  大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  杉本达也 ,  山田俊郎 ,  田中公章

IPC: C23C16/32

CPC classification number: H01L21/3127 ,  H01L21/0212 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/3146

Abstract: 本发明涉及一种等离子CVD法用气体，包括不饱和碳氟化合物，并且含有作为杂质的不超过1×10-3原子％且多于0原子％的氢原子。

公开(公告)号：CN1327492C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN02826800.8

申请日：2002-10-31

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 菅原充 ,  山田俊郎 ,  杉本达也 ,  田中公章

IPC: H01L21/3065

Abstract: 含有碳原子数5或6的链状全氟炔烃、优选全氟-2-戊炔的等离子体反应用气体。该等离子体反应用气体适用于通过干式蚀刻形成微细图案、通过CVD形成薄膜和灰化。上述等离子体反应用气体可通过使二氢氟烷烃化合物或一氢氟烯烃化合物与碱性化合物接触合成。

公开(公告)号：CN1956155A

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：CN200610137154.0

申请日：2006-10-24

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  日本瑞翁株式会社

Inventor： 北村彰规 ,  本田昌伸 ,  平井希 ,  中村昌洋 ,  杉本达也

IPC: H01L21/311 ,  G05B19/02

Abstract: 以光致抗蚀剂膜作为掩模，在光致抗蚀剂膜上，有选择地等离子体蚀刻SiO2膜，形成通孔。在等离子体蚀刻中，使用包含用CxFyO(x为4或5，y为整数，y/x为1～1.5)表示的含有不饱和氧的碳氟化合物气体的蚀刻气体。作为含有不饱和氧的碳氟化合物气体，使用例如C4F4O气体和C4F6O气体。

公开(公告)号：CN1286672A

公开(公告)日：2001-03-07

申请号：CN98813747.X

申请日：1998-12-25

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 山田俊郎 ,  漆间贵史 ,  杉本达也

IPC: C07C23/02 ,  C07C23/08 ,  C07C17/23 ,  B01J23/44

CPC classification number: C07C23/08 ,  C07C17/00 ,  C07C17/208 ,  C07C17/23

Abstract: 通过在贵金属催化剂的存在下,在液相或汽相中氢化具有－CH2－CHF－基团和至少4个碳原子的化合物制备各具有－CH2－CHF－基团和至少4个碳原子的化合物。具有－CH2－CHF－基团和至少4个碳原子的所述化合物优选为C4－C10脂环化合物,并可通过使具有－CH2－CHF－基团和至少4个碳原子的化合物与氟化剂反应来制备。

公开(公告)号：CN110650937B

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN201880032088.1

申请日：2018-06-01

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 杉本达也

IPC: C07C17/20 ,  C07C23/08

Abstract: 本发明提供一种使1‑氯七氟环戊烯与碱金属氟化物接触而制造八氟环戊烯的方法。该制造方法包括：将1‑氯七氟环戊烯加热到40℃以上且55℃以下的原料加热工序；以及将包含非质子性极性溶剂和碱金属氟化物的悬浊液维持在85℃以上的同时，将加热的1‑氯七氟环戊烯供给到悬浊液，进行氟化，得到八氟环戊烯的氟化工序。

公开(公告)号：CN104995158B

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201480009975.9

申请日：2014-02-19

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 杉本达也

IPC: C07C23/08 ,  C07C17/354 ,  C07C17/383 ,  H01L21/3065 ,  C07B61/00

Abstract: 本发明是一种1H‑七氟环戊烯，其特征在于，纯度为99.9重量%以上，且有机氯类化合物的含量为350重量ppm以下。根据本发明，可以提供作为面向半导体的等离子体反应用气体适宜的高纯度1H‑七氟环戊烯。

公开(公告)号：CN105899478B

公开(公告)日：2017-12-15

申请号：CN201580004363.5

申请日：2015-02-09

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 杉本达也

IPC: C07C17/093 ,  B01J31/22 ,  C07C19/08 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07C17/361 ,  B01J31/146 ,  B01J2231/42 ,  C07C17/093 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明为制造由结构式(3)表示的氟化烃的方法，其特征在于，在烃系溶剂中、在三氟化硼配位化合物存在下使由下述结构式(1)表示的仲醚化合物或叔醚化合物与由结构式(2)表示的酰氟接触(结构式(1)～(3)中，R1和R2表示碳原子数为1～3的烷基，R1和R2可键合而形成环结构。R3表示氢原子、甲基或乙基，R4、R5表示甲基或乙基。)。

公开(公告)号：CN107406356A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680018280.6

申请日：2016-03-29

Applicant: 关东电化工业株式会社 ,  日本瑞翁株式会社

Inventor： 栗原一树 ,  杉本达也

IPC: C07C17/16 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明为式(2)：R2-F所示的氟化烷烃的制造方法、脒碱的分离、回收方法以及回收脒碱的使用方法。上述氟化烷烃的制造方法在无溶剂的状态下，在选自脒碱和膦腈碱中的碱的存在下，利用式(1)：R1SO2F所示的氟化剂将碳原子数为3～5的醇氟化。上述脒碱的分离、回收方法具有：工序(I)，在使下述式(5)所示的脒碱-磺酸配位化合物溶解于芳香族烃而得到的溶液中添加碱性水溶液，使磺酸碱金属盐析出；工序(II)，在通过工序(I)得到的析出了磺酸碱金属盐的溶液中添加水，使磺酸碱金属盐溶解，分液为溶解有磺酸碱金属盐的水层和包含脒碱的芳香族烃溶液的层，除去上述溶解有磺酸碱金属盐的水层；以及工序(III)，从通过工序(II)得到的包含脒碱的芳香族烃溶液中蒸馏除去芳香族烃。(R1表示甲基、乙基或芳香族基，R2表示碳原子数为3～5的烷基。n为0或2。)

公开(公告)号：CN105899478A

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201580004363.5

申请日：2015-02-09

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 杉本达也

IPC: C07C17/093 ,  B01J31/22 ,  C07C19/08 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07C17/361 ,  B01J31/146 ,  B01J2231/42 ,  C07C17/093 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明为制造由结构式(3)表示的氟化烃的方法，其特征在于，在烃系溶剂中、在三氟化硼配位化合物存在下使由下述结构式(1)表示的仲醚化合物或叔醚化合物与由结构式(2)表示的酰氟接触(结构式(1)～(3)中，R1和R2表示碳原子数为1～3的烷基，R1和R2可键合而形成环结构。R3表示氢原子、甲基或乙基，R4、R5表示甲基或乙基。)。

公开(公告)号：CN105358510A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480037929.X

申请日：2014-07-16

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 杉本达也

IPC: C07C17/395 ,  C07C17/383 ,  C07C19/08

CPC classification number: C07C17/395 ,  C07C17/013 ,  C07C17/02 ,  C07C17/383 ,  C07C19/08

Abstract: 本发明涉及通过以下方法得到高度纯化的2-氟丁烷的2-氟丁烷的纯化方法，所述方法包括以下工序：在非质子性极性溶剂中，在水或碳原子数为4以下的醇存在下，使能够形成溴鎓离子的溴化剂与含有5～50重量％的丁烯类的粗2-氟丁烷中的丁烯类接触，将丁烯类转化为沸点比2-氟丁烷高的化合物，然后从反应液回收2-氟丁烷，进而将回收的2-氟丁烷蒸馏纯化。