公开(公告)号：CN102165566A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200980138173.7

申请日：2009-09-16

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 梅冈尚 ,  八木泽博史 ,  真弓聪

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01J37/32376 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32834 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明提供一种表面处理装置，该表面处理装置使设置于表面处理用处理槽的用于搬入搬出被处理物的开口处的气流稳定。将被处理物(9)沿搬送方向自搬入开口(13)搬入处理槽(10)的内部，并配置于处理空间(19)。自供给系统(30)向处理空间(19)供给处理气体，以便对被处理物(9)进行表面处理。此后，将被处理物(9)自搬出开口(14)搬出。利用排气系统(40)自处理槽(10)的内部排出气体。由彼此在与上述搬送方向正交的对置方向上相隔对置距离(D)而对置的一对整流面(17、18)划定开口(13、14)。将开口(13、14)的沿上述搬送方向的纵深(L)设为对置距离(D)的两倍以上，优选设为6倍以上。

公开(公告)号：CN100553400C

公开(公告)日：2009-10-21

申请号：CN200480019798.9

申请日：2004-05-13

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 日野守 ,  真弓聪 ,  伊藤巧 ,  上原刚 ,  大野毅之

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32357 ,  H05H1/2406 ,  H05H2001/2412

Abstract: 本发明提供一种制造等离子处理设备的方法，包括步骤：进行用于测量所述绝缘件和所述传导件之间的火花电压的实验；根据其中火花在比平均值低的水平出现的测量数据，获得所述火花电压相对于隔离距离，即形成于所述绝缘件和所述传导件之间的间隙的厚度的关系；设置所述绝缘件的介电常数和厚度，以使在所述绝缘件和所述传导件之间形成的间隙的厚度的变化可以被预想到的范围中，施加在所述绝缘件和所述传导件之间的电压变为小于基于所述测量数据的所述火花电压。

公开(公告)号：CN101352108A

公开(公告)日：2009-01-21

申请号：CN200680049571.8

申请日：2006-12-22

Applicant: 夏普株式会社 ,  积水化学工业株式会社

Inventor： 若崎环树 ,  佐藤崇 ,  田中惠一 ,  中嶋节男 ,  真弓聪 ,  中野良宪

IPC: H05H1/24 ,  B65G49/06 ,  C23C16/458 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/316 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/68742 ,  B65G49/064 ,  B65G49/065 ,  B65G2249/02 ,  B65G2249/04 ,  B65G2249/045 ,  H01J37/32431 ,  H01J2237/20 ,  H01L21/68778

Abstract: 本发明涉及台装置和等离子体处理装置。提供在台的载置面上载置有被处理基板的状态下，在升降销的上端和载置面之间不产生高低平面差的台装置，此外，还提供利用该台装置作为电极台，能够抑制处理不均的发生的等离子体处理装置。在电极台(2)的中央部，配置有沿销移动方向具有弹性的弹簧式升降销(20)。弹簧式升降销(20)在收容位置上，销上端(20a)从电极台(2)的载置面(11)向上方突出，通过在载置面(11)上载置并吸附被处理基板(4)，由于从被处理基板(4)受到的负荷而被压下至与载置面(11)相同的高度。

公开(公告)号：CN1833313A

公开(公告)日：2006-09-13

申请号：CN200480018059.8

申请日：2004-06-24

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 安西纯一郎 ,  中野良宪 ,  川崎真一 ,  中武纯夫 ,  真弓聪 ,  宫本荣司 ,  武内稔公

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  C23C16/455 ,  H05H1/46

Abstract: 在用于将处理气体通过孔排比如狭缝喷射到有待处理的物体的表面的处理设备中，即使该孔排很短，具有大面积的物体的表面也可以被有效地处理。多个电极板(11，12)被并排地设置于等离子表面处理设备(M)的处理器(1)上。狭缝状的孔排(10a)形成于相邻的电极板之间，并且由并排设置的孔排(10a)组成孔排组(100)。该物体(W)通过移动机构(4)沿着每个狭缝(10a)的延伸方向移动。

公开(公告)号：CN1754409A

公开(公告)日：2006-03-29

申请号：CN03801713.X

申请日：2003-08-28

Applicant: 积水化学工业株式会社

Inventor： 真弓聪 ,  日野守 ,  屋代进 ,  清水治和

IPC: H05H1/24 ,  H01L21/3065 ,  C08J7/00

CPC classification number: H01J37/32009 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32541 ,  H01J37/32752 ,  H05H1/48 ,  H05H2001/3478

Abstract: 等离子处理装置M1装有用于支撑一对长条电极(30)的处理部分(20)。处理部分(20)设有多个拉动螺栓(52)(用于阻止靠近变形的装置)，在电极(30)纵向上相互隔开地排列螺栓(52)。拉动螺栓(52)的头部通过螺栓支架(53)钩住刚性板(33)，而螺栓(52)的腿部拧入电极(30)。由此，可以防止这种电极由于库仑力而变形。