公开(公告)号：CN103906855B

公开(公告)日：2017-03-29

申请号：CN201280054145.9

申请日：2012-10-01

申请人： 波音公司

发明人： 马尔维·A·马托斯 ,  利亚姆·S·平格里

IPC分类号： C23C14/22 ,  C23C14/46 ,  H01J37/34

CPC分类号： C23C14/56 ,  C23C14/228 ,  C23C14/46 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32825 ,  H01J37/32889

摘要： 一种装置可包括等离子体沉积单元、移动系统以及网孔系统。等离子体沉积单元可被配置为产生等离子体。移动系统可被配置为移动等离子体沉积单元下方的基板。网孔系统可位于等离子体沉积单元与基板之间，其中，网孔可包括用于沉积到基板上的一些材料，并且其中，穿过网孔的等离子体可以使一些材料中的一部分从网孔被沉积到基板上。

公开(公告)号：CN104822859A

公开(公告)日：2015-08-05

申请号：CN201380062956.8

申请日：2013-10-09

申请人： 欧洲等离子公司

发明人： E.罗格 ,  F.勒盖恩

IPC分类号： C23C16/54 ,  H01J37/32 ,  B01D69/12 ,  C08F2/52

CPC分类号： H01J37/3277 ,  B01D2239/0478 ,  B05D1/62 ,  C08F2/52 ,  C23C16/509 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32082 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32403 ,  H01J37/32532 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32761 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/332

摘要： 本发明提供用于在例如织物片上施加表面涂层的方法并且进一步提供用于将织物片用聚合物层涂布的等离子体腔室(10)，所述织物例如纺织品材料，等离子体腔室(10)包括在等离子体腔室内相继地排列的多个电极层(RF，M)，其中至少两个相邻的电极层为射频电极层(RF)或接地电极层(M)，从而在织物片的两侧上提供表面涂层。

公开(公告)号：CN101855383B

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200880116429.X

申请日：2008-11-06

申请人： 荏原优莱特科技股份有限公司

发明人： 堀江邦明 ,  高桥直树

IPC分类号： C23C14/34

CPC分类号： C23C14/505 ,  C23C14/35 ,  C23C14/541 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/3405

摘要： 本发明涉及一种溅镀装置，其即使将塑料等耐热性低的材料作为工件而通过溅镀成膜时，也能够抑制热电子射入工件，因此不会发生因热量而导致工件变形等问题。所述溅镀装置在真空腔室内具备靶材、设置成与所述靶材对向且具有旋转轴的转盘式工件夹具，其特征在于，所述转盘式工件夹具具备工件夹具支撑部和多个工件保持部，所述工件保持部设置在所述工件夹具支撑部的外周部，所述转盘式工件夹具和/或工件保持部被设置成能够以位于连接靶材与转盘式工件夹具的旋转轴的平面的垂直面内的轴旋转，在所述转盘式工件夹具的内侧设置有热电子捕获部件。

公开(公告)号：CN101959617A

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：CN200980106995.7

申请日：2009-02-26

申请人： 应用材料公司

发明人： 安德里亚斯·绍尔 ,  于尔根·亨利奇 ,  托马斯·格贝尔

IPC分类号： B05C3/18 ,  B05C1/16 ,  B05C5/02

CPC分类号： C23C14/042 ,  C23C14/56 ,  C23C14/564 ,  C23C16/45519 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32623 ,  H01J37/32761

摘要： 本发明提供了一种背面涂覆防止设备，其适合于用于涂覆板状衬底的涂覆室，所述涂覆室适合于涂覆连续或非连续传送的板状衬底，所述背面涂覆防止设备包括具有衬底进口的前壁和具有衬底出口的后壁；涂覆材料源，其适用于将涂覆材料分配到涂覆室；和传送系统，所述传送系统的正面朝向涂覆材料源，所述传送系统适合于沿着传送路径在传送系统的正面上连续或非连续的传送多个板状衬底；其中所述背面涂覆防止设备适合于在传送系统的正面处和邻近多个板状衬底的背面处提供气体阻隔，用于防止背面涂覆板状衬底。

公开(公告)号：CN102725335B

公开(公告)日：2013-09-18

申请号：CN201180007060.0

申请日：2011-01-27

申请人： 旭硝子株式会社

发明人： 有贺広志 ,  小田康一

IPC分类号： C08J7/00

CPC分类号： C08J7/123 ,  C08J2327/18 ,  H01J37/32018 ,  H01J37/32761 ,  Y10T428/3154

摘要： 本发明提供使ETFE成形体与其它构件或成分的密合性提高并可长时间维持该密合性的表面处理方法及通过该表面处理方法实施了表面处理的ETFE成形体。所述表面处理方法是在大气压附近的压力下的氮气气氛中通过由电压上升时间在10微秒以下的脉冲化的电场产生的辉光放电对ETFE成形体的表面进行处理的方法，空开0.01秒以上的间隔进行多次辉光放电，所述各次辉光放电处理的放电密度为40～200W·分钟/m2，各次辉光放电处理的放电密度的总和为220～800W·分钟/m2。此外，通过该表面处理方法实施了表面处理的ETFE成形体。

公开(公告)号：CN103180484A

公开(公告)日：2013-06-26

申请号：CN201180050821.0

申请日：2011-10-14

申请人： 株式会社爱发科

发明人： 藤本信也 ,  林信博 ,  广野贵启 ,  多田勋

IPC分类号： C23C14/56

CPC分类号： C23C14/3407 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/562 ,  H01J37/32458 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/32788 ,  H01J2237/3325

摘要： 提供一种真空成膜装置，为便于运输等而将真空处理室和真空辅助室分开设置，易于在安装现场组装且可维护性好。相连设置有真空处理室（1）、向真空处理室传送片状基材的上游侧的真空辅助室（2）以及卷取回收片状基材的下游侧的真空辅助室（3），所述真空处理室（1）具有卷有长的片状基材（S）的一部分的滚筒（15）、配置在该滚筒的下方且从上游侧传送来片状基材的多个辊（16c）、以及处理单元（4）。上述真空处理室及真空辅助室构成为在设置于地面的架台上载置基板，将下面开口的箱体从其下面侧设置在该基板上。多个辊一体构成为辊单元，设置为在真空处理室内可在滚筒的下方空间内自由取放。

公开(公告)号：CN103052251A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210520969.2

申请日：2012-12-07

申请人： 常州中科常泰等离子体科技有限公司 ,  中国科学院南京土壤研究所

发明人： 邵汉良 ,  董元华 ,  钱海波 ,  缪琴

IPC分类号： H05H1/46

CPC分类号： H01J37/32761 ,  H01J37/32018

摘要： 低真空状态下的冷等离子体辉光放电发生器，包括等离子体处理装置，所述装置设于真空度可调的腔体内，该装置包括绝缘支架、放电装置、主动辊、从动辊、压辊和传送带，主动辊和从动辊通过轴承分别设于绝缘支架的两端，传送带设于主动辊和从动辊之上，压辊也通过轴承设于绝缘支架一端，将传送带压紧于主动辊上，放电装置设于绝缘支架上，传送带从放电装置的内部穿过。本装置通过对放电装置中的极板结构改进，增加了金属悬浮屏蔽外壳和绝缘填充材料，阻止了极板与腔体内壁之间的放电，并使其产生位移电流，增强了等离子体的活性。

公开(公告)号：CN101681867B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200880018879.5

申请日：2008-05-29

申请人： 东京毅力科创株式会社

发明人： 野村正道 ,  小泉建次郎 ,  河西繁

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/205 ,  H01L21/26

CPC分类号： H01L21/68792 ,  C23C14/505 ,  H01J37/32761

摘要： 本发明通过悬浮用电磁铁组件(F)的磁吸引力，使支撑被处理体(W)的旋转悬浮体(30)悬浮，通过位置用电磁铁组件(H)的磁吸引力控制旋转悬浮体(30)的水平方向位置，同时通过旋转电磁铁组件(R)的磁吸引力使旋转悬浮体(30)旋转。悬浮用电磁铁组件(F)使磁吸引力向垂直方向下方作用，以非接触地悬吊在处理容器(2)的内壁的方式，使旋转悬浮体(30)悬浮。

公开(公告)号：CN102124136A

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200980100663.8

申请日：2009-08-24

申请人： 新柯隆株式会社

发明人： 盐野一郎 ,  长江亦周 ,  姜友松 ,  菅原卓哉

IPC分类号： C23C14/02 ,  C03C17/42

CPC分类号： C23C14/022 ,  C03C17/42 ,  C03C19/00 ,  C03C2217/77 ,  C23C14/0078 ,  C23C14/3464 ,  C23C14/505 ,  C23C14/568 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32513 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/34

摘要： 本发明的成膜方法具有：对基板(101)的表面照射具有能量的粒子的第一照射工序；使用干式法在所述第一照射工序后的基板(101)的表面成膜第一膜(103)的第一成膜工序；在第一膜(103)的表面成膜具有防油性的第二膜(105)的第二成膜工序。根据该发明，能够提供可以制造具有防油性膜的防油性基材的成膜方法，其中的防油性膜具备能够耐用的耐磨损性。

公开(公告)号：CN101611168A

公开(公告)日：2009-12-23

申请号：CN200880004886.X

申请日：2008-01-15

申请人： 株式会社神户制钢所

发明人： 玉垣浩

IPC分类号： C23C16/54 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/545 ,  H01J37/32018 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32669 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/32761 ,  H01J37/3277

摘要： 一种连续成膜装置，具有：一对成膜辊(2)、(3)，以所卷架的基材(S)对置的方式，平行地对置配置；磁场产生构件(12)、(13)，设置在所述各成膜辊(2)、(3)的内部，以使等离子体收敛于与所述成膜辊之间的对置空间(5)相面对的辊表面附近的方式产生磁场；等离子体电源(14)，其一个电极与另一个电极的极性交替地反转；气体供给管(8)，对所述对置空间(5)供给成膜气体；以及真空排气单元，对所述对置空间进行真空排气。所述等离子体电源(14)的一个电极与一个成膜辊(2)连接，另一个电极与另一个成膜辊(3)连接。