公开(公告)号：CN111106033A

公开(公告)日：2020-05-05

申请号：CN201910991489.6

申请日：2019-10-18

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金永珍 ,  柳镇泽 ,  郑富荣 ,  方炳善 ,  吴承勋 ,  崔英骏 ,  禹钟贤

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明的一实施例提供基板处理装置及基板处理方法，基板处理方法包括以下步骤：向基板表面供给高表面张力液体而形成高表面张力液膜；向形成有所述高表面张力液膜的基板的中心区域供给低表面张力液体，从而将所述高表面张力液膜替换成所述低表面张力液体；以及在供给所述低表面张力液体的步骤中至少一部分时间区期间，追加供给所述高表面张力液体。

公开(公告)号：CN112133645B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202010591142.5

申请日：2020-06-24

申请人： 细美事有限公司

发明人： 李成洙 ,  郑富荣 ,  崔气勋 ,  田明娥 ,  朴修永

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 提供一种供应液体用单元、具有该单元的处理基板用设备及方法。用于处理基板的设备包括：处理容器，其具有处于所述处理容器内部的处理空间；基板支撑单元，其用于在所述处理空间中支撑基板；以及液体供应单元，其用于将处理液体供应至由所述基板支撑单元支撑的所述基板。所述液体供应单元包括：喷嘴；供应管线，其用于将所述处理液体供应至所述喷嘴且在所述供应管线中安装有第一阀；以及排出管线，其自作为所述供应管线中所述第一阀下游的点的分支点分支，以自所述供应管线排出所述处理液体，且在所述排出管线中安装有第二阀。在所述供应管线中，在所述分支点与所述喷嘴之间的区域中没有阀。

公开(公告)号：CN118016552A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202310389253.1

申请日：2023-04-12

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  李周桓 ,  裵贤佑

IPC分类号： H01L21/67 ,  G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  G02F1/1333 ,  B08B11/00 ,  B08B3/08 ,  B08B3/02

摘要： 一种衬底处理设备，包括：第一供应管，所述第一供应管向衬底供应第一化学液体；第二供应管，所述第二供应管与所述第一供应管间隔开，并且向所述衬底供应第二化学液体；以及回收管，所述回收管连接到所述第一供应管以收集所述第一化学液体，并且设置在所述第一供应管与所述第二供应管之间。

公开(公告)号：CN109979853B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201811567172.1

申请日：2018-12-19

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  金钟翰 ,  张瑛珍 ,  柳镇泽 ,  崔英骏 ,  金大勋 ,  方炳善 ,  禹钟贤 ,  金俙焕 ,  申哲榕 ,  朴贵秀

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。

公开(公告)号：CN112151413A

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN202010592248.7

申请日：2020-06-24

申请人： 细美事有限公司

发明人： 梁承太 ,  郑富荣 ,  赵乘桓

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本发明构思涉及液体供应单元和基板处理装置。根据一实施方式，基板处理装置包括：壳体，其在其中具有工艺空间；支承单元，其在所述壳体中支承所述基板；喷嘴，其将处理液体分配到支承在所述支承单元上的所述基板上；和液体供应单元，其将所述处理液体供应到所述喷嘴，其中，所述液体供应单元包括：容器，其具有存储空间，所述处理液体存储在所述存储空间中；液体供应管，其使所述处理液体从所述容器流至所述喷嘴；和微波施用构件，其在所述处理液体被供应到喷嘴之前、将微波施用至所述处理液体。