公开(公告)号：CN109979853B

公开(公告)日：2023-07-25

申请号：CN201811567172.1

申请日：2018-12-19

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  金钟翰 ,  张瑛珍 ,  柳镇泽 ,  崔英骏 ,  金大勋 ,  方炳善 ,  禹钟贤 ,  金俙焕 ,  申哲榕 ,  朴贵秀

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。

公开(公告)号：CN107785290B

公开(公告)日：2022-10-14

申请号：CN201710729130.2

申请日：2017-08-23

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金俙焕 ,  李瑟

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

摘要： 本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。所述基板处理装置包括：旋转头，其被配置成支撑所述基板；喷嘴，其被配置成将化学品排出到位于所述旋转头上的所述基板；第一通道，其被配置成供应化学性质与所述化学品的化学性质相同的第一化学品；第二通道，其被配置成供应第二化学品，所述第二化学品的化学性质与所述第一化学品的化学性质相同；以及排出通道，其连接所述第一通道和所述第二通道，且连接所述喷嘴。

公开(公告)号：CN118016561A

公开(公告)日：2024-05-10

申请号：CN202311473692.7

申请日：2023-11-07

申请人： 细美事有限公司 ,  三星电子株式会社

发明人： 金珉贞 ,  韩真儿 ,  金俙焕 ,  洪榕焄 ,  金京肃 ,  朴钟赫 ,  朴珍炯 ,  郑大赫 ,  车知勋

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/306

摘要： 一种用于处理衬底的装置和方法可以降低化学溶液中的处理副产物的浓度。该装置包括：衬底旋转设备，其被配置成以旋转方式旋转安置的衬底；化学溶液供应设备，其被配置成向衬底供应化学溶液；化学溶液排放管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液排放到外部；化学溶液循环管线，其被配置成将已经历处理的化学溶液循环到化学溶液供应设备；以及排放化学溶液选择设备，其被配置成通过化学溶液排放管线将包含第一数量的处理副产物的化学溶液排放到外部，并且通过化学溶液循环管线使包含第二数量的处理副产物的化学溶液循环，其中第一数量的处理副产物大于第二数量的处理副产物。

公开(公告)号：CN107342248A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710300093.3

申请日：2017-05-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 朴贞英 ,  李康奭 ,  金俙焕

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L21/02 ,  B08B3/02 ,  B08B3/08

CPC分类号： B08B3/106 ,  B08B3/041 ,  B08B3/08 ,  B08B2203/007 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67023 ,  B08B3/02 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67034

摘要： 提供了一种基板处理装置，包括：支撑单元，用于支撑基板；喷射单元，用于将有机溶剂喷射到支撑在所述支撑单元上的基板上；和溶剂供应单元，用于将有机溶剂以液体状态供应至所述喷射单元，该有机溶剂的温度高于有机溶剂在大气压下的沸点。

公开(公告)号：CN116705663A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310803632.0

申请日：2018-12-19

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  金钟翰 ,  张瑛珍 ,  柳镇泽 ,  崔英骏 ,  金大勋 ,  方炳善 ,  禹钟贤 ,  金俙焕 ,  申哲榕 ,  朴贵秀

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。

公开(公告)号：CN109979853A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201811567172.1

申请日：2018-12-19

申请人： 细美事有限公司

发明人： 郑富荣 ,  金钟翰 ,  张瑛珍 ,  柳镇泽 ,  崔英骏 ,  金大勋 ,  方炳善 ,  禹钟贤 ,  金俙焕 ,  申哲榕 ,  朴贵秀

IPC分类号： H01L21/67

摘要： 本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。

公开(公告)号：CN107665808A

公开(公告)日：2018-02-06

申请号：CN201710616508.8

申请日：2017-07-26

申请人： 细美事有限公司

发明人： 金俙焕 ,  李暎熏

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67051 ,  B08B3/08 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/67034

摘要： 公开了基板处理装置和方法。该方法包括：将通过将添加剂与有机溶剂混合而得到的混合液提供到基板上，并且在提供混合液之后，通过向基板提供超临界流体并将混合液溶解在临界流体中而从基板去除混合液，其中添加剂的表面张力低于有机溶剂的表面张力，并且添加剂的沸点低于有机溶剂的沸点。

公开(公告)号：CN116364531A

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN202211687646.2

申请日：2022-12-27

申请人： 细美事有限公司

发明人： 黄准吉 ,  金珉贞 ,  金俙焕 ,  李成洙

IPC分类号： H01L21/02 ,  H01L21/67

摘要： 本发明涉及一种基板处理方法和基板处理装置。所公开的为调节处理液中化学液体的浓度的方法，该方法包括：通过将储存在主罐中加热状态下的处理液从喷嘴液供应至基板来处理该基板，并且将在基板的处理中使用的处理液直接地或还经由另一个罐而回收至主罐，并随后重复使用所回收的处理液，在待机时段中执行调节主罐中处理液的浓度的浓度调节操作，在该待机时段中，不使用处理液来处理基板，并且通过以下来执行浓度调节操作：从喷嘴排放加热状态下的处理液以蒸发部分稀释溶液、并将所排放的处理液回收至主罐。

公开(公告)号：CN112750730A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN202011206160.3

申请日：2020-11-02

申请人： 细美事有限公司

发明人： 洪榕焄 ,  尹堵铉 ,  金俙焕 ,  李知泳 ,  金荣洙

IPC分类号： H01L21/67 ,  B01D1/00 ,  B01D1/30 ,  B01D50/00

摘要： 一种化学制品供应设备，包括：蒸发单元，其设置在化学制品供应源的下游以使向其中供应的化学制品蒸发；过滤器单元，其设置在所述蒸发单元的下游，其中当蒸发的化学制品通过所述过滤器单元时，所述过滤器单元过滤所述蒸发的化学制品中的杂质；液化单元，其设置在所述过滤器单元的下游以液化所述蒸发的化学制品；以及化学制品储罐，其设置在所述液化单元的下游以在其中储存所述液化的化学制品，其中在所述化学制品供应源与所述液化单元之间设置电极，其中所述电极与所述化学制品或所述化学制品中的颗粒发生电反应以改变所述化学制品或所述颗粒的电特性。

公开(公告)号：CN112439737A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010925720.4

申请日：2020-09-04

申请人： 细美事有限公司

发明人： 李茂贤 ,  方炳善 ,  金俙焕

IPC分类号： B08B3/02 ,  B08B3/08 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

摘要： 一种用于处理基板的方法，包括：液体处理步骤，其通过将处理液分配到旋转的基板上而对所述基板执行液体处理；以及清洁步骤，其停止分配所述处理液并将清洁溶液分配到所述基板上。在所述清洁步骤中，将第一液体从旋转的基板上方的第一喷嘴分配到在第一方向上与所述基板的中心隔开的点，并且将第二液体从旋转的基板上方的第二喷嘴分配到在第二方向上与所述基板的中心隔开的点。当从上方观察时，所述第一液体在分配到所述基板上后朝向所述第二喷嘴流动，并且所述第二液体在分配到所述基板上后朝向所述第一喷嘴流动。