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公开(公告)号：CN107083197B
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201610886407.8
申请日：2016-10-11
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106520000B
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201610555118.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/30 , C09J133/08 , C09J11/08 , C09D183/04 , C09D5/20 , C09D5/24 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性的树脂所构成的基材膜(1)的一个面上形成有剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一个面上形成有粘着剂层(4)，剥离剂层(2)含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)及硅酮类剥离剂，剥离剂层(2)中所含的所述由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
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公开(公告)号：CN111196909A
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201911113004.X
申请日：2019-11-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/29 , C09J7/40 , C09J7/30 , C09J133/08 , C09J133/14 , C09J133/24 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜对光学用膜的翘曲的抑制效果高，且贴合有表面保护膜的光学用膜的处理性能得以提升，并且在使用后易剥离去除，其在出货时等无需进行重贴或擦拭污渍。表面保护膜(P)依次层叠有第一透明膜(1)、第一粘着剂层(2)、第二透明膜(3)及第二粘着剂层(4)。第一粘着剂层(2)在23℃下的储能模量为1.0×104Pa以上且小于8.0×104Pa，且第一粘着剂层(2)对玻璃的粘着力为5N/25mm以下。
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公开(公告)号：CN105331296B
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201510397304.0
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
Abstract: 本发明提供在切裁时难以出现因粘结剂引起的异物(胶块)且对表面有凹凸的光学用膜的适应性(润湿性)也好，对被粘附体的污染少，对被粘附体的低污染性无经时变化，还具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件。表面保护膜在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成由聚氨酯类粘结剂构成的粘结剂层(2)，在粘结剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠有包含剥离剂和不与该剥离剂发生反应的抗静电剂的剥离剂层(4)，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN106905869A
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201610857251.0
申请日：2016-09-27
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , G02B1/16
CPC classification number: C09J7/405 , C09J7/255 , C09J7/401 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2201/60 , C09J2203/318 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且具有不经时劣化的优异的剥离抗静电性能，使用时易剥离剥离片。本发明提供的抗静电表面保护膜，通过在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一面上形成粘着剂层(2)，在粘着剂层(2)的表面上贴合剥离片(5)而形成，其中，剥离片(5)通过在基材(3)的一面上具有剥离剂层(4)而形成，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂的树脂组合物而形成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106675427A
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：CN201610555189.X
申请日：2016-07-14
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , C09J11/06 , C08J7/04 , C09D5/20
CPC classification number: C08J7/04 , C08J7/047 , C08K5/435 , C08K2201/017 , C09D5/20 , C09J7/255 , C09J11/06 , C09J133/08 , C09J2201/122 , C09J2205/102 , C09J2433/00 , C09J2467/006
Abstract: 本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜即使对表面具有凹凸的光学用膜也能够贴合，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的抗剥离静电性能。该表面保护膜(5)在由具有透明性树脂构成的基材膜(1)的单面上，设有含有由碱金属盐构成的抗静电剂(3)和剥离剂的剥离剂层(2)，在基材膜(1)的另一面上，设有粘着剂层(4)，由碱金属盐构成的抗静电剂(3)的成分仅存在于粘着剂层(4)的表面。
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公开(公告)号：CN106189894A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201510396987.8
申请日：2015-07-08
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J133/08 , B32B27/36 , B32B27/08
Abstract: 本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104342044B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201410242459.2
申请日：2014-06-03
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/14
Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。
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公开(公告)号：CN104342045B
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201410312324.9
申请日：2014-07-02
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09D183/04 , C09D7/12 , G02B1/10 , G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。
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公开(公告)号：CN104774569A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：CN201410677651.4
申请日：2014-11-21
Applicant: 藤森工业株式会社
IPC: C09J7/02 , C09J151/08 , C09J133/08 , C09J11/06 , G02B1/16
Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化、具有优良抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜，其是依次经过：在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物、进而还含有(F)二官能以上的异氰酸酯化合物、(G)交联促进剂及(H)酮-烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序；将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作，剥离剂层(4)通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物及抗静电剂的树脂组合物形成，粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。
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