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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116569303A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202180083435.5
申请日：2021-11-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/28
Abstract: 一种带电粒子装置，包括带电粒子源(401)和第一偏转器(421)，该第一偏转器(421)被配置为使带电粒子束偏转而以射束倾斜角度着陆在样品表面上，其中第一偏转器基本上位于物镜(411)的主平面处。在其他实施例中，该装置可以包括第一偏转器、第二偏转器和第三偏转器，该第一偏转器位于带电粒子源与物镜之间，并且被配置为使带电粒子束偏转远离主光轴；该第二偏转器基本上位于物镜的焦平面处，并且被配置为使带电粒子束偏转回主光轴；并且该第三偏转器基本上位于物镜的主平面处，其中第三偏转器被配置为使物镜的摆动中心移位到离轴摆动位置，并且其中第一偏转器和第二偏转器被配置为使带电粒子束偏转以使其穿过离轴摆动位置，在第一着陆位置处着陆在样品的表面上并且具有射束倾斜角度。
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公开(公告)号：CN116559495A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310533702.5
申请日：2019-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本公开涉及量测方法和相关装置。公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置，特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号；以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像至一维低通滤波器，可以从图像确定参考信号。
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公开(公告)号：CN111886548B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201980020816.1
申请日：2019-03-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于确定与特征的边缘有关的边缘位置的方法和相关装置，特征被包括在包括噪声的图像(诸如扫描电子显微镜图像)内。该方法包括从图像确定参考信号；以及确定相对于上述参考信号的边缘位置。通过在与估计边缘位置的初始轮廓平行的方向上应用图像至一维低通滤波器，可以从图像确定参考信号。
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公开(公告)号：CN115104068A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202180014721.6
申请日：2021-02-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·范因根史奇劳 , A·史拉奇特 , 瓦迪姆·尤里耶维奇·季莫什科夫 , M·库伊曼 , 玛丽亚-克莱尔·范拉尔 , H·A·迪伦 , 斯蒂芬·亨斯克 , 路易斯·阿尔贝托·科利纳·圣玛丽亚·科琳娜 , 蒋爱琴 , 王富明 , 苏达沙南·拉格纳坦
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中描述关于改善与芯片的制造相关联的模拟过程和解决方案(例如，重定目标图案)的方法。方法包括获得多个剂量‑焦距设置、和基于与所述多个剂量‑焦距设置中的每个设置相关联的被印制的图案的特性的测量值的参考分布。所述方法还包括基于调整模型和所述多个剂量‑焦距设置来确定所述特性的概率密度函数(PDF)，使得减小所述PDF与所述参考分布之间的误差。所述PDF可以是所述调整模型和与剂量相关联的方差的函数，所述调整模型被配置成改变对所述PDF的非线性剂量敏感度贡献的比例。可以基于所述特性的所确定的PDF来调整过程窗口。
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公开(公告)号：CN112969971A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980073797.9
申请日：2019-09-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种用于确定衬底上的特征的图像指标的方法，该方法包括：获取衬底上的多个特征的第一图像；获取衬底上的多个对应特征的一个或多个另外的图像，其中一个或多个另外的图像中的至少一个另外的图像与第一图像属于衬底的不同层；通过对第一图像和一个或多个另外的图像执行对准过程来生成第一图像和一个或多个另外的图像的对准版本；以及根据第一图像的对准版本中的特征与一个或多个另外的图像的对准版本中的对应特征的比较来计算图像指标。
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