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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116457652A
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202180077577.0
申请日：2021-10-21
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G01N21/956
Abstract: 本文公开了用于标识样品中的缺陷的检查工具和方法。方法包括以下步骤：使用第一检测器射束来扫描样品的第一区域以及使用第二检测器射束来扫描样品的第二区域，然后接收从第一和第二检测器射束导出的第一和第二信号。第一和第二信号被比较以确定样品中是否存在缺陷。
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公开(公告)号：CN112969971B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN201980073797.9
申请日：2019-09-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种用于确定衬底上的特征的图像指标的方法，该方法包括：获取衬底上的多个特征的第一图像；获取衬底上的多个对应特征的一个或多个另外的图像，其中一个或多个另外的图像中的至少一个另外的图像与第一图像属于衬底的不同层；通过对第一图像和一个或多个另外的图像执行对准过程来生成第一图像和一个或多个另外的图像的对准版本；以及根据第一图像的对准版本中的特征与一个或多个另外的图像的对准版本中的对应特征的比较来计算图像指标。
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公开(公告)号：CN112969971A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980073797.9
申请日：2019-09-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种用于确定衬底上的特征的图像指标的方法，该方法包括：获取衬底上的多个特征的第一图像；获取衬底上的多个对应特征的一个或多个另外的图像，其中一个或多个另外的图像中的至少一个另外的图像与第一图像属于衬底的不同层；通过对第一图像和一个或多个另外的图像执行对准过程来生成第一图像和一个或多个另外的图像的对准版本；以及根据第一图像的对准版本中的特征与一个或多个另外的图像的对准版本中的对应特征的比较来计算图像指标。
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公开(公告)号：CN119137539A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202380038435.2
申请日：2023-04-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： A·G·M·吉尔斯
IPC: G03F7/00
Abstract: 用于测量在由带电粒子束检查装置执行的扫描下的样品的套刻的系统和方法包括：响应于样品的第一目标的第一扫描而获得第一检测器信号，以及响应于样品的第二目标的第二扫描而获得第二检测器信号；通过对第一检测器信号和第二检测器信号执行傅里叶变换来确定第一变换信号和第二变换信号；并且基于第一变换信号和第二变换信号确定样品的套刻值。
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公开(公告)号：CN118974655A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380032586.7
申请日：2023-03-06
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00 , G01N23/2251 , H01J37/28 , H01L21/66
Abstract: 公开了用于确定由电子束用于套刻测量的一个或多个参数的系统、非暂态计算机可读介质和方法。在一些实施例中，该方法包括基于晶片叠层的多个特性和在晶片叠层上的多个特征处检测到的多个背散射电子(BSE)产率来确定晶片叠层的套刻测量的获取时间。该方法还包括基于对套刻测量的获取时间的优化来确定包括电子束的着陆能量的一个或多个参数。
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