公开(公告)号：CN114072892A

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN202080048378.2

申请日：2020-06-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： A·V·G·曼格努斯 ,  M·R·古森

IPC: H01J37/22 ,  H01J37/21

Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种用于带电粒子检查系统的相位板(210)，该相位板被配置和布置为修改束(600)中带电粒子的局部相位以减少透镜像差的影响。相位板由孔阵列组成，其中孔的电压和/或遮蔽度被单独或群组地控制。

公开(公告)号：CN113424290A

公开(公告)日：2021-09-21

申请号：CN202080014117.9

申请日：2020-02-04

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： S·B·汉森 ,  任岩 ,  M·R·古森 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  E·P·斯马克曼

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/05 ,  H01J37/26

Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。