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公开(公告)号:CN117321724A
公开(公告)日:2023-12-29
申请号:CN202280035715.3
申请日:2022-04-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/12
Abstract: 本发明提供了用于检测次级带电粒子和反向散射带电粒子的各种技术,包括:沿着子束路径,加速带电粒子子束到达样品;从检测器阵列排斥次级带电粒子;使用反射镜检测器阵列;使用多个检测器阵列;以及提供可以在主要检测带电粒子的模式和主要检测次级粒子的模式之间切换的设备和检测器。
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公开(公告)号:CN118402033A
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN202280082770.8
申请日:2022-11-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: 任岩 , A·V·G·曼格努斯 , M·斯科特兹 , E·P·斯马克曼
IPC: H01J37/04
Abstract: 一种从带电粒子源束生成多个子束并将子束下行束引导向样品位置的带电粒子装置。该带电粒子装置包括带电粒子源、孔径阵列和带电粒子光学部件。带电粒子源包括沿着发散路径发射带电粒子源束的发射器。孔径阵列被定位于发散路径中,因此孔径阵列从源束生成子束。带电粒子光学部件作用于孔径阵列上游的源束上。带电粒子光学部件包括多极和/或带电粒子透镜。多极对源束进行操作,以改变发散路径在孔径阵列处的位置。多极可以改变发散路径在孔径阵列处的横截面形状。带电粒子光学透镜补偿发射器与孔径阵列之间的距离变化。
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公开(公告)号:CN117642836A
公开(公告)日:2024-03-01
申请号:CN202280047482.9
申请日:2022-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/244 , H01J37/317
Abstract: 一种在用于评估工具的带电粒子设备中使用的检测器组件用于检测由样品响应于带电粒子束而发射的信号粒子,检测器组件包括:被配置为在与高于第一能量阈值的信号粒子相互作用时生成光子的闪烁体元件;被配置为检测低于第二能量阈值的信号粒子的基于电荷的元件,其中基于电荷的元件被定位为使得高于第一能量阈值的信号粒子中的至少一些信号粒子穿过基于电荷的元件到达闪烁体元件。
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公开(公告)号:CN116762152A
公开(公告)日:2023-09-15
申请号:CN202180090368.X
申请日:2021-11-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: E·斯洛特 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼 , 任岩 , M·斯科特兹
IPC: H01J37/304
Abstract: 一种带电粒子工具被配置为从带电粒子束生成多个子束,并且将子束向束下游引导向样品(600)位置,该工具、即带电粒子工具包括至少三个带电粒子光学组件(201、111、235、234);检测器模块(240);以及控制器。检测器模块被配置为响应于从样品位置的方向向束上游传播的带电粒子而生成检测信号。控制器被配置为在校准模式下操作该工具。带电粒子光学组件包括被配置为发射带电粒子束的带电粒子源201、以及被配置为生成子束的束生成器(111)。检测信号包含关于带电粒子光学组件中的至少两个带电粒子光学组件的对准的信息。带电粒子光学组件包括两个或更多个带电粒子光学元件,该两个或更多个带电粒子光学元件包括可以监测带电粒子的孔径阵列。
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公开(公告)号:CN116325069A
公开(公告)日:2023-06-23
申请号:CN202180054398.5
申请日:2021-08-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: V·C·伯金 , S·W·H·K·斯蒂恩布林克 , M·艾伯特 , D·马丁内斯·内格雷特·加斯奎 , H·W·穆克 , A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/317
Abstract: 本文公开了一种被配置为朝向目标投射多束带电粒子的多束带电粒子柱,该多束带电粒子柱包括:至少一个孔径阵列,包括至少两个不同孔径图案;以及旋转器,被配置为在不同孔径图案之间旋转该孔径阵列。
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公开(公告)号:CN113661557A
公开(公告)日:2021-11-16
申请号:CN202080026928.0
申请日:2020-03-25
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , L·库因德尔斯玛
Abstract: 与本文公开一致的实施例包括用于多束带电粒子检查系统的图像增强的方法。与本公开一致的系统和方法包括分析代表第一图像和第二图像的信号信息,其中第一图像与一组束中的第一束相关联,并且第二图像与一组束中的第二束相关联;基于分析,检测第一束和第二束相对于样品的定位的扰动;使用第一束和第二束的信号信息获得样品的图像;并使用识别的扰动,校正样品的图像。
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公开(公告)号:CN113424290B
公开(公告)日:2024-11-19
申请号:CN202080014117.9
申请日:2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统,其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板,该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差,其中吸收部件包括限定腔的结构,该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中,腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中,超材料包括吸收结构集合,该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步,公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法,其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合,该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号:CN118251745A
公开(公告)日:2024-06-25
申请号:CN202280053647.3
申请日:2022-05-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: J·范索伊斯特 , R·R·文斯特拉 , E·P·斯马克曼 , T·范祖芬 , A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/073
Abstract: 本公开涉及一种带电粒子射束装置,被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱,其中每个带电粒子光学柱包括:带电粒子源,该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束,该带电粒子源被包括在源阵列中;物镜,该物镜包括静电电极,该静电电极被配置为朝向带电粒子射束引导样品;以及检测器,该检测器与物镜阵列相关联,该检测器被配置为检测从样品发射的带电粒子信号。物镜是带电粒子光学柱的射束最下游元件,该射束最下游元件被配置为影响朝向样品引导的带电粒子射束。
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公开(公告)号:CN117597762A
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN202280047586.X
申请日:2022-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: A·V·G·曼格努斯
IPC: H01J37/244
Abstract: 一种在用于评估装置的带电粒子设备中使用的检测器用于检测来自样品的带电粒子,其中检测器包括:被设置至反向散射偏置电势并且被配置为检测高能量带电粒子的反向散射检测器组件;以及被设置至次级偏置电势并且被配置为检测低能量带电粒子的次级检测器组件;其中反向散射偏置电势与次级偏置电势之间存在电势差。
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公开(公告)号:CN117597761A
公开(公告)日:2024-02-23
申请号:CN202280047469.3
申请日:2022-06-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor: A·V·G·曼格努斯 , E·斯洛特
IPC: H01J37/244
Abstract: 一种用于带电粒子装置的检测器,该带电粒子装置用于评估工具,该检测器用于检测来自样品的信号粒子,检测器包括基板,基板包括:半导体元件,其被配置为检测高于第一能量阈值的信号粒子;以及基于电荷的元件,其被配置为检测低于第二能量阈值的信号粒子。
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