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公开(公告)号：CN114830038A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080088467.X
申请日：2020-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了光学地确定结构中不同层中的金属特征是否彼此电接触。当金属特征包括不同的金属和/或具有不同的尺寸，导致检测到反射辐射中的一个或多个共振时，基于一个或多个共振的光谱位置，确定不同层中的金属特征彼此接触或不接触。当金属特征由相同金属形成并且具有相同尺寸时，响应于检测到与金属特征相关联的单个共振，确定不同层中的金属特征彼此接触，并响应于检测到与金属特征相关联的两个以上共振，确定彼此不接触。
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公开(公告)号：CN114830038B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202080088467.X
申请日：2020-11-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了光学地确定结构中不同层中的金属特征是否彼此电接触。当金属特征包括不同的金属和/或具有不同的尺寸，导致检测到反射辐射中的一个或多个共振时，基于一个或多个共振的光谱位置，确定不同层中的金属特征彼此接触或不接触。当金属特征由相同金属形成并且具有相同尺寸时，响应于检测到与金属特征相关联的单个共振，确定不同层中的金属特征彼此接触，并响应于检测到与金属特征相关联的两个以上共振，确定彼此不接触。
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公开(公告)号：CN117203663A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202280030972.8
申请日：2022-02-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G06T5/00
Abstract: 本文公开了在扫描电子显微镜(SEM)图像中降低样本充电效应的方法，方法包括：从参数为第一量的第一电子束扫描获得第一SEM图像；从参数为第二量的第二电子束扫描获得第二SEM图像，第二量不同于第一量；以及基于卷积方程，生成降低了样本充电效应的图像，卷积方程包括第一SEM图像的表示、第二SEM图像的表示、与第一SEM图像相对应的第一点扩散函数以及与第二SEM图像相对应的第二点扩散函数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113424290A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202080014117.9
申请日：2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号：CN113424290B
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202080014117.9
申请日：2020-02-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·B·汉森 , 任岩 , M·R·古森 , A·V·G·曼格努斯 , E·P·斯马克曼
Abstract: 在各方面中尤其地公开了一种带电粒子检查系统，其包括吸收部件和可编程带电粒子反射镜板，该可编程带电粒子反射镜板被布置为修改束中电子的能量分布并且对束进行整形以减少电子的能量散布和束的像差，其中吸收部件包括限定腔的结构，该腔具有内部表明以及设置在内部表上的超材料吸收体。在操作中，腔沿着束路径的一部分延伸。在其他实施例中，超材料包括吸收结构集合，该吸收结构集合被配置为设置在透明导电层上的吸收结构。进一步，公开了一种使用这种吸收部件并且使用可编程带电粒子反射镜板的方法，其中这种可编程带电粒子反射镜板包括像素集合，该像素集合被配置为生成定制电场以对束进行整形。
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公开(公告)号：CN116195025A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202180063832.6
申请日：2021-07-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01J37/244
Abstract: 公开了使用带电粒子束装置以电压对比模式来观察样本的系统和方法。带电粒子束装置包括：带电粒子源；光源；被配置为检测带电粒子的带电粒子检测器；以及具有电路系统的控制器，其被配置为施加第一信号以使得光源生成光脉冲，将第二信号施加到带电粒子检测器以检测第二多个带电粒子，以及调整第一信号和第二信号之间的时间延迟。在一些实施例中，具有电路系统的控制器还可以被配置为获取结构的多个图像；基于结构的多个图像的灰度级变化率来确定结构的电特性；以及基于所确定的电特性，使用模型来模拟结构的物理特性。
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公开(公告)号：CN114556516A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202080073007.X
申请日：2020-08-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了用于图像增强的系统和方法。用于增强图像的方法可以包括获取扫描电子显微镜(SEM)图像。该方法还可以包括模拟与SEM图像的位置相关联的扩散电荷。该方法还可以包括基于SEM图像和扩散电荷来提供增强的SEM图像。
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公开(公告)号：CN116057472A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202180056645.5
申请日：2021-06-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及一种用于确定制造过程中的偏差的方法，该方法包括以下步骤：a.提供具有层的样品，该层具有周期性结构，该周期性结构使用制造过程制造并且旨在使得层的对应部分完全反射波长在一波长范围内并且入射角在一角度范围内的光；b.使用波长在所述波长范围内并且入射角在所述角度范围内的光来照射样品；c.检测从样品的层反射和/或散射的光；以及d.从所检测的光确定制造过程中的偏差。
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