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公开(公告)号：CN110300929A
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：CN201880012504.1
申请日：2018-01-03
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·P·施密特-威尔 , K·巴塔查里亚 , W·T·特尔 , 弗兰克·斯塔尔斯 , L·M·勒瓦斯尔
摘要： 公开了用于监测光刻过程的方法和相关联的光刻设备。所述方法包括：获得与由衬底支撑件支撑的衬底相关的高度变化数据，和通过所述高度变化数据拟合回归，所述回归近似于所述衬底的形状；确定所述高度变化数据和所述回归之间的残差数据；和监测所述残差数据随时间的变化。可以基于衬底支撑件的已知特征对所述残差数据去卷积。
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公开(公告)号：CN110044907A
公开(公告)日：2019-07-23
申请号：CN201910253313.0
申请日：2019-03-29
申请人： 昆山国显光电有限公司
发明人： 李豪
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/93 , G02B5/00 , G02F1/13 , G02F1/1343
摘要： 本申请公开了一种光学校正装置及方法，属于自动光学检测技术领域。所述光学校正装置包括：用于向目标检测物照射检测光的检测光源，用于根据检测光照射到目标检测物后的反射光生成控制信号的控制模块，设置在检测光源与目标检测物之间，用于根据控制信号控制检测光的进光量的控光装置。本申请通过在自动光学检测设备AOI中设置光学校正装置，该光学校正装置可通过控制模块向控光装置发送回控制信号，该控制信号可使控光装置控制检测光的进光量，因此能够通过控制信号使反射光的光强处于预设范围内，从而解决了相关技术中AOI的光学校正容易造成漏检的问题，提高了AOI的检测准确度。
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公开(公告)号：CN110023742A
公开(公告)日：2019-07-16
申请号：CN201780073265.6
申请日：2017-05-24
申请人： CKD株式会社
摘要： 本发明的目的在于提供一种检查装置等，能够谋求进行验证所需劳力和时间的大幅减少和验证的方便性的提升等。本发明的检查装置(51)具备是否合格判定机构，该是否合格判定机构使用预先设定好的亮度阈值，根据由摄像机构摄得的图像，检测检查对象部位有无缺陷，由此，判定检查对象部位的是否合格。检查装置(51)具备：验证用图像制作部(55)，其制作验证用图像，该验证用图像将虚拟的缺陷图像配置于被是否合格判定机构判定合格品的合格品图像而成；阈值验证部(56)，使用验证用图像，根据是否合格判定机构判定验证用图像中的检查对象部位的是否合格，根据该判定结果验证亮度阈值。关于缺陷图像的亮度，将合格品图像中配置该缺陷图像的部位的亮度设定基准。
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公开(公告)号：CN109632819A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201811326714.6
申请日：2015-05-11
申请人： 科磊股份有限公司
IPC分类号： G01N21/93 , G01N21/95 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/93 , G01B2210/56 , G01N21/4788 , G01N21/9501 , G01N21/95607 , G01N2201/06113 , G01N2201/062 , G01N2201/10 , G01N2201/1296
摘要： 本揭露涉及用于测量半导体参数的设备、技术和目标设计。在一个实施例中，揭示了用于确定目标的参数的设备及方法。提供了一种具有成像结构及散射测量结构的目标。利用计量工具的成像通道获得所述成像结构的图像。还利用所述计量工具的散射测量通道从所述散射测量结构获得散射测量信号。基于所述图像及所述散射测量信号两者确定所述目标的至少一个参数，例如叠对误差。
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公开(公告)号：CN104237144B
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201410317169.X
申请日：2014-06-06
申请人： 恩德莱斯和豪瑟尔分析仪表两合公司
摘要： 本发明涉及一种用于调节、校准和/或检查光度传感器(3)的功能的方法和校准插入件，光度传感器用于测量介质中的至少一个被测变量。其中传感器(3)在至少一个测量波长和至少一个参比波长下工作，所述方法包括如下步骤：将校准插入件(1)装入在传感器(3)处为其提供的插座(4)中，调节，校准和/或执行功能检查，并移除校准插入件(1)，其特征在于：通过校准插入件(1)的测量波长的光的透射率和参比波长的光的透射率不同。
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公开(公告)号：CN108663374A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810466990.6
申请日：2018-05-16
申请人： 京东方科技集团股份有限公司
发明人： 王永波
摘要： 本发明提供了一种显示装置的测试方法、测试装置和测试系统，所述显示装置的测试方法包括：获取待测显示装置所播放测试画面的图像信息；将所述图像信息与标准图像信息进行对比判断，得出判断结果；将所述图像信息与判断结果进行关联存储。本发明可实现测试画面的自动监控和复现测试过程，以便定位引起异常的原因或统计测试结果，节省了人工大量重复性操作的时间。
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公开(公告)号：CN106030414B
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201580009522.0
申请日：2015-01-29
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： H·W·M·范布尔 , J·M·M·拜欧特曼 , 柳星兰 , H·J·H·斯米尔蒂 , R·J·F·范哈恩
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/93 , G01N21/956
摘要： 公开了一种设计目标布置的方法，以及相关的目标和掩模版。所述目标包括多个光栅，每个光栅包括多个子结构。所述方法包括步骤：定义目标区域；将所述子结构定位在所述目标区域内，以便形成所述光栅；和在所述光栅周边处定位辅助特征，所述辅助特征配置成减小在所述光栅周边处的被测量的强度峰。所述方法可以包括优化过程，所述优化过程包括对通过使用量测过程检验所述目标而获得的所形成的图像进行模型化；和评价所述目标布置是否被针对于使用量测过程的检测进行优化。
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公开(公告)号：CN105372260B
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201510484604.2
申请日：2015-08-07
申请人： 硅电子股份公司
发明人： F·劳贝
CPC分类号： G01N21/8851 , G01N21/93 , G01N21/9501 , G01N2021/8854
摘要： 一种监控用于检测半导体晶片表面上的缺陷的表面检查系统的工作状况的方法，包括：提供在参考半导体晶片的检查表面上具有特定数量和尺寸和密度的缺陷的参考半导体晶片；通过利用所述表面检查系统来实施参考半导体晶片的参考检查和参考半导体晶片的至少一个控制检查，测量所述检查表面上的缺陷的位置和尺寸；识别出因为其位置而被认为是所述参考检查和控制检查的共同缺陷的缺陷；对于每个共同缺陷，确定从基于所述参考检查和控制检查的其尺寸对比所获得的尺寸差值；以及基于所确定的尺寸差值来评估所述表面检查系统的工作状况。
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公开(公告)号：CN108181317A
公开(公告)日：2018-06-19
申请号：CN201711191076.7
申请日：2014-04-16
申请人： 克隆尼斯股份有限公司
发明人： 安东·尼德梅尔
摘要： 公开了一种用于检查容器检验机器的测试容器(1)，该检验机器适用于检查至少第一类别的容器中外来物的存在，该测试容器具有：其中盛放液体(4)的主体(2)；液体能够经由其引入该容器的口部(6)；依靠其将容器封闭的第一封闭件(12)，其中可被检验机器检测到的外来物(8)被布置在容器(1)中。根据本发明，该容器(1)和/或其中所盛放的液体具有能够由用户和/或检测设备检测到的检测手段，以便由此将该测试容器自身与要检验的类别的其他容器区分开，其中，液体防止长时间周期内细菌繁殖。
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公开(公告)号：CN105164520B
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201480021921.4
申请日：2014-04-16
申请人： 克隆尼斯股份有限公司
发明人： 安东·尼德梅尔
CPC分类号： G01N21/93 , B07C5/3408 , G01N21/90 , G01N21/9027
摘要： 一种用于检查容器检验机器的测试容器(1)，该检验机器适用于检查至少第一类别的容器中外来物的存在，该测试容器具有：其中盛放液体(4)的主体(2)；液体能够经由其引入该容器的口部(6)；依靠其将容器封闭的第一封闭件(12)，其中可被检验机器检测到的外来物(8)被布置在容器(1)中。根据本发明，该容器(1)和/或其中所盛放的液体具有能够由用户和/或检测设备检测到的检测手段，以便由此将该测试容器自身与要检验的类别的其他容器区分开。
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