公开(公告)号：CN114423612A

公开(公告)日：2022-04-29

申请号：CN202080066032.5

申请日：2020-06-18

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 奥山哲雄 ,  德田桂也 ,  应矢量之 ,  渡边直树

IPC: B32B37/10 ,  B32B37/00 ,  B32B38/16 ,  B29C63/02 ,  B29C65/48 ,  H01L21/02 ,  C08J5/12 ,  C08J5/18 ,  C08J7/043 ,  C08J7/12

Abstract: 一种层叠体制造装置，其具有搬运第1片材的第1片材搬运装置，和向涂布有硅烷偶联剂的第1片材的表面以及/或涂布有硅烷偶联剂的第2片材的表面、供给水性介质的水供给装置，和将供给水性介质后的第1片材与第2片材贴合的层压装置。

公开(公告)号：CN110709245B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201880035479.9

申请日：2018-05-24

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 山下全广 ,  奥山哲雄 ,  土屋俊之 ,  渡边直树 ,  德田桂也 ,  原彰太

IPC: B32B27/34

Abstract: 本发明要解决的课题为提供一种聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其可用于以高成品率制造包括有机EL显示元件之类的微小设备阵列的挠性电子设备。将经过充分地洗涤、清洁从而除去无机物异物的聚酰亚胺膜与无机基板贴合形成层叠体，进一步地在350℃以上且小于600℃的温度下热处理后急速冷却，从而使有机异物碳化减少，并且起泡内的气体迅速冷却，从而使起泡高度降低，得到内部包埋有碳化物粒子的起泡缺陷的个数密度为50个/平方米以下、起泡的平均高度在2μm以下、起泡个数密度(个/平方米)和起泡的平均高度(μm)之积在20以下的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体。

公开(公告)号：CN107073891B

公开(公告)日：2021-03-16

申请号：CN201580057459.8

申请日：2015-08-24

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 奥山哲雄 ,  渡边直树 ,  小林一成 ,  土屋俊之 ,  前田乡司

IPC: B32B9/04 ,  B32B27/34 ,  C08J7/00

Abstract: 为了使用以往的玻璃基板或硅基板用的装置提供膜器件，而提供适合制作由可使用的支撑体和高分子膜构成的异物夹入少的层叠体的高分子膜及其制法、以及使用该高分子膜的层叠体。本发明使用一种硅烷偶联剂层层叠高分子膜，其特征在于，其是适合制作至少由支撑体和高分子膜构成的层叠体的高分子膜，并且是在至少一侧的面上形成有硅烷偶联剂层的硅烷偶联剂层层叠高分子膜，该硅烷偶联剂层的表面粗糙度(Sa)为5.0nm以下。另外，作为生产率良好的制造方法，不使用真空来制作该层层叠高分子膜。

公开(公告)号：CN110709245A

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201880035479.9

申请日：2018-05-24

Applicant: 东洋纺株式会社

Inventor： 山下全广 ,  奥山哲雄 ,  土屋俊之 ,  渡边直树 ,  德田桂也 ,  原彰太

IPC: B32B27/34

Abstract: 本发明要解决的课题为提供一种聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体，其可用于以高成品率制造包括有机EL显示元件之类的微小设备阵列的挠性电子设备。将经过充分地洗涤、清洁从而除去无机物异物的聚酰亚胺膜与无机基板贴合形成层叠体，进一步地在350℃以上且小于600℃的温度下热处理后急速冷却，从而使有机异物碳化减少，并且起泡内的气体迅速冷却，从而使起泡高度降低，得到内部包埋有碳化物粒子的起泡缺陷的个数密度为50个/平方米以下、起泡的平均高度在2μm以下、起泡个数密度(个/平方米)和起泡的平均高度(μm)之积在20以下的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体。