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公开(公告)号：CN114986012A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202210650643.5
申请日：2022-06-06
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
IPC分类号： B23K35/00 , B23K35/40 , B23K3/00 , B23K101/36
摘要： 本发明公开了一种复合柱状软焊材料及其制备方法与应用。所述复合柱状软焊材料包括单晶焊柱以及覆设于所述单晶焊柱相背两端面的焊料薄层；所述单晶焊柱与焊料薄层的接触面为特定取向面，且所述焊料薄层的熔点低于所述单晶焊柱的熔点。本发明提供的软焊材料的焊接温度低，应用于电子器件的焊接时，可以获得屈服强度高、抗电迁移性能好的单晶焊点；通过对焊点取向的选择，使单晶焊点同时具备良好的抗电迁移和抗塑性变形性能，进而显著提高电子设备的整体寿命与可靠性。
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公开(公告)号：CN111715960B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN201910219240.3
申请日：2019-03-21
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘要： 本发明涉及一种单晶焊点及其制备方法、电子组件，其中，单晶焊点的制备方法包括以下步骤：提供焊盘，所述焊盘表面形成有焊料层；提供单晶焊柱，将所述单晶焊柱置于上下两个焊盘之间，加热使所述焊料层熔化并与所述单晶焊柱之间发生溶解与扩散形成反应层，所述单晶焊柱通过所述反应层固定于所述焊盘上，得到单晶焊点。采用本发明提供的一种单晶焊点制备方法，通过单晶焊柱取向的选择使焊点具有屈服强度高、抗热疲劳和抗电迁移性能好等优点，综合可靠性高。
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公开(公告)号：CN111715960A
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201910219240.3
申请日：2019-03-21
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘要： 本发明涉及一种单晶焊点及其制备方法、电子组件，其中，单晶焊点的制备方法包括以下步骤：提供焊盘，所述焊盘表面形成有焊料层；提供单晶焊柱，将所述单晶焊柱置于上下两个焊盘之间，加热使所述焊料层熔化并与所述单晶焊柱之间发生溶解与扩散形成反应层，所述单晶焊柱通过所述反应层固定于所述焊盘上，得到单晶焊点。采用本发明提供的一种单晶焊点制备方法，通过单晶焊柱取向的选择使焊点具有屈服强度高、抗热疲劳和抗电迁移性能好等优点，综合可靠性高。
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公开(公告)号：CN108531961B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201810444743.6
申请日：2018-05-10
摘要： 本发明涉及彩色膜及其制备方法、应用。所述彩色膜的制备方法包括：提供一基体；在所述基体上形成一钛膜，其中所述钛膜的厚度≥400nm；将带有所述钛膜的基体作为阳极，惰性导电材料作为阴极，酸性溶液为电解液，进行阳极氧化，使所述钛膜的表层被氧化而形成氧化钛层，所述钛膜的底层未被氧化，得到彩色膜，其中，所述氧化钛层的厚度为10nm～240nm。所述的彩色膜可用于医用植入物上，以颜色代表不同型号，提高辨识度，为手术顺利进行提供保障。同时，彩色膜具有优异的生物相容性和耐蚀性，不仅对医用植入物起到非常好的防护作用，对人体还具有更高的安全性。
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公开(公告)号：CN108231394B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201711435523.9
申请日：2017-12-26
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 , 包头希迪瑞科技有限公司
摘要： 本发明公开了一种高矫顽力钕铁硼磁体的低温制备方法，采用磁控溅射的方法在烧结钕铁硼磁体表面制备重稀土薄膜，然后经离子束辅助真空热扩散处理工艺，最后经回火处理得到所述高矫顽力钕铁硼磁体；所述热扩散处理工艺的温度为600～800℃，时间为6～12h。本发明提供了一种高矫顽力钕铁硼磁体的低温制备方法，显著降低了热扩散处理的温度，缩短了热扩散处理的时间，且使得烧结钕铁硼磁体的矫顽力得到进一步的提升。
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公开(公告)号：CN108796441B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201810575055.3
申请日：2018-06-06
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘要： 本申请公开了一种光吸收镀膜，所述光吸收镀膜为钛铝氮镀膜，包括底层和外层；所述底层为纳米层状结构，所述外层为柱状晶结构，所述柱状晶结构顶端为锥形表面；在200nm～2500nm的光波波长范围内，所述光吸收镀膜的平均光吸收率α不低于0.89。光吸收镀膜外层增加TiAlON或TiO2或SiO2减反层后，光吸收镀膜在200nm～2500nm光波波长范围的平均光吸收率α不低于0.95。该光吸收镀膜具有光吸收频率范围宽，吸收率高，镀膜物理和化学性能稳定等优势。本申请还公开了其制备方法及应用，该方法原材料成本低，不需要对基体以及镀膜过程做其他特殊处理，工艺简单方便，可实现大面积制备，采用该方法制备的光吸收镀膜结构可控，可以实现在不同材质表面的镀覆。
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公开(公告)号：CN108085647B
公开(公告)日：2019-10-15
申请号：CN201711219101.8
申请日：2017-11-28
摘要： 本发明公开了一种用于真空镀膜的螺杆传送装置，包括：样品台，与真空镀膜设备的真空镀膜腔体配合；传送模块，安装在所述样品台上用于将样品从上料区传送至镀膜区；动力源，固定在真空镀膜腔体外部；第一传动连接件，一端与所述动力源连接，另一端伸入所述真空镀膜腔体内与所述传送模块可拆卸传动连接；其特征在于，所述传送模块包括：螺杆，转动安装在所述样品台上，所述螺杆的螺纹作为物料槽；光杆，安装在所述样品台上位于所述螺杆的一侧以共同支撑物料；第二传动连接件，一端与所述螺杆传动连接，另一端与所述由所述传动连接件可拆卸传动连接；本发明可实现一次多面镀膜，无需翻面，减少开箱和再次抽真空时间，大大提高了效率，且整体结构简单、加工成本低。
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公开(公告)号：CN107931885B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201710995258.3
申请日：2017-10-23
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘要： 本发明公开了一种钕铁硼永磁体用铜基钎焊材料，包括重量百分比的下述成分：稀土元素RE：5.0～15.0％，锌Zn：2.0～20％，硅Si：0.1～0.5％，银Ag：1.0～10％，余量为铜Cu。本发明针对钕铁硼永磁体的连接和组装需求，提供了一种钕铁硼永磁体用铜基钎焊材料，该铜基钎焊材料的熔化温度较低，对钕铁硼永磁体的润湿性好，且不会对钕铁硼永磁体的微观组织与磁性能产生不利影响；接头连接强度高、冲击韧性好，且具有较好的耐热性。
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公开(公告)号：CN107424663B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201710503173.9
申请日：2017-06-27
申请人： 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘要： 本发明涉及一种海底单电极直流供电系统的海底阴极，属于供电技术领域。其中，海底阴极包括电极本体及与电极本体电连接的水密连接器；电极本体包括由六根本体钛杆围成的四面体型杆状结构及设于水密连接器外围的防撞装置，该防撞装置固设在四面体型杆状结构的一顶角部处。通过将海底阴极设置成四面体型杆状结构，可有效地提高其在投放、使用过程中的防碰撞性能与防淹埋性能，从而有效地确保由其构建成的海底单电极直流供电系统在使用过程的正常工作，其可广泛地应用于海底观测网等海底供电技术领域。
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