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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101809193A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880109104.9
申请日：2008-09-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45551 , B33Y80/00 , C23C16/45519 , C23C16/545
Abstract: 公开了一种在基材上沉积薄膜材料的方法，包括向基材表面同时引导来自薄膜沉积系统的输送头的输出面的一系列气流，其中一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，其中第一反应性气态材料能够与用第二反应性气态材料处理的基材表面反应，其中一个或多个该气流提供至少有助于将基材表面与输送头表面分离的压力。还公开了一种能够实施这种方法的系统。
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公开(公告)号：CN101578391A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200780049535.6
申请日：2007-12-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： D·H·莱维
IPC: C23C16/455 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45563 , C23C16/403 , C23C16/4408 , C23C16/45519 , C23C16/45525 , C23C16/45527 , C23C16/45551 , C23C16/45553 , C23C16/45574 , C23C16/545 , H01L21/02164 , H01L21/02178 , H01L21/02181 , H01L21/02183 , H01L21/02186 , H01L21/02189 , H01L21/02192 , H01L21/0228 , H01L21/02557 , H01L21/0262
Abstract: 本发明公开一种在基片上沉积薄膜物质的方法，所述方法包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝向基片的表面同时引导一系列气流，其中所述系列的气流包括至少第一气态反应物质、惰性吹扫气体和第二气态反应物质，其中第一气态反应物质能够与用第二气态反应物质处理的基片表面反应，其中一个或多个气流提供至少有助于使基片表面从输送头的面分离的压力。本发明还公开一种能够实施此方法的系统。
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公开(公告)号：CN1329273A
公开(公告)日：2002-01-02
申请号：CN01121295.0
申请日：2001-06-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03D13/002
Abstract: 本发明提供一种方法和装置以解决负片在处理和扫描后不退给客户所带来的对隐私的担忧。本发明的方法和装置中,胶片或负片在处理和扫描后,可通过加热到某温度以使整个胶片显影到最大密度并且破坏胶片上的图象从而成为不可扫描的。该处理装置和方法可包括第二加热器以将胶片加热至不可扫描或图象被破坏的状态,或利用有多个加热设置的可调加热器。
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公开(公告)号：CN1329271A
公开(公告)日：2002-01-02
申请号：CN01121292.6
申请日：2001-06-13
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03D13/002 , G03B27/735 , G03D13/007
Abstract: 处理热胶片(5)的一种方法和装置包括一个处理顺序,它包含对胶片的一部分执行预处理,以确定对胶片上的影像显影的后续处理的最佳条件。
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公开(公告)号：CN1326114A
公开(公告)日：2001-12-12
申请号：CN01119088.4
申请日：2001-05-25
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03C7/30511 , G03C7/305 , G03C7/30541 , G03C7/30576 , G03C8/408 , Y10S430/156 , Y10S430/158 , Y10S430/16 , Y10S430/165
Abstract: 本发明涉及成像元件,其成像层中结合有结构Ⅰ的化合物,取代基按说明书中定义,其中B是六员杂芳环。这样的化合物有良好的反应活性,并能封闭照相上有用的化合物,如显影剂,直至在预选的条件下热活化才释放出。按照本发明的化合物在彩色光热敏成像材料中特别有用。
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