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公开(公告)号：CN101809192B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880109091.5
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: B05B1/005 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , Y10T29/494 , Y10T29/49432 , Y10T29/49826 , Y10T137/0318 , Y10T137/87249
Abstract: 用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成，所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络，以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后，一般地说，公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。
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公开(公告)号：CN101809193A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880109104.9
申请日：2008-09-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45551 , B33Y80/00 , C23C16/45519 , C23C16/545
Abstract: 公开了一种在基材上沉积薄膜材料的方法，包括向基材表面同时引导来自薄膜沉积系统的输送头的输出面的一系列气流，其中一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，其中第一反应性气态材料能够与用第二反应性气态材料处理的基材表面反应，其中一个或多个该气流提供至少有助于将基材表面与输送头表面分离的压力。还公开了一种能够实施这种方法的系统。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101809196B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN200880109154.7
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455 , C30B35/00 , H01L21/00 , H01L21/314
CPC classification number: H01L21/67173 , B33Y80/00 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/54 , C30B25/14 , C30B35/00 , H01L21/6719 , H01L21/68
Abstract: 在ALD系统中维持至少两个涂布组件之间对准或位置关系的设备，该设备包括：在涂布部分中的多个涂布组件；用于支撑涂布组件的至少第一杆和第二杆；和用于支撑杆的至少第一杆装配结构和第二杆装配结构；其中各个涂布组件由第一杆和第二杆支撑，并且其中至少两个组件和第一杆和第二杆的结合确定涂布组件输出面的涂布部分型面。还公开制造该设备的方法。
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公开(公告)号：CN102686775A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201080048658.X
申请日：2010-10-19
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/54 , C23C16/455 , H01L21/314 , H01L51/00
CPC classification number: C23C16/545 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , Y10T137/8593 , Y10T156/10
Abstract: 流体分配歧管包括第一板，第一板包括长度维度、宽度维度和厚度，厚度允许第一板在第一板的长度维度和宽度维度的至少其一上变形。第二板包括长度维度、宽度维度和厚度，厚度允许第二板在第二板的长度维度和宽度维度的至少其一上变形。至少第一板和第二板的至少一部分限定了表面起伏图案，其限定了流体流动的引导路径。第一板和第二板接合在一起，形成在沿长度维度和宽度维度的至少其一的高度维度上非平面的形状。
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公开(公告)号：CN101821427A
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200880108808.4
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458
CPC classification number: C23C16/45551 , B33Y80/00 , C23C16/458 , H01L29/4908 , Y10S438/908
Abstract: 公开了在基材上沉积薄膜材料的方法，包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝基材表面同时引导一系列气流，其中所述一系列气流包括至少第一反应性气态材料、惰性吹扫气体和第二反应性气态材料，其中第一反应性气态材料能与用第二反应性气态材料处理过的基材表面反应。还公开了能够进行这种方法的系统。
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公开(公告)号：CN101809192A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880109091.5
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: B05B1/005 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , Y10T29/494 , Y10T29/49432 , Y10T29/49826 , Y10T137/0318 , Y10T137/87249
Abstract: 用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成，所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络，以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后，一般地说，公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。
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公开(公告)号：CN101809196A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200880109154.7
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455 , C30B35/00 , H01L21/00 , H01L21/314
CPC classification number: H01L21/67173 , B33Y80/00 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , C23C16/54 , C30B25/14 , C30B35/00 , H01L21/6719 , H01L21/68
Abstract: 在ALD系统中维持至少两个涂布组件之间对准或位置关系的设备，该设备包括：在涂布部分中的多个涂布组件；用于支撑涂布组件的至少第一杆和第二杆；和用于支撑杆的至少第一杆装配结构和第二杆装配结构；其中各个涂布组件由第一杆和第二杆支撑，并且其中至少两个组件和第一杆和第二杆的结合确定涂布组件输出面的涂布部分型面。还公开制造该设备的方法。
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