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公开(公告)号：CN107058981A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201710049243.8
申请日：2017-01-23
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
IPC分类号： C23C16/517 , C09D4/00 , C09D4/02 , C09D5/08
CPC分类号： C09D4/00 , C09D5/08 , C23C16/517
摘要： 一种低粘附、耐蚀涂层的制备方法，属于等离子化学气相沉积技术领域，该方法，将基材置于反应腔体内，连续抽真空，通入惰性气体；通入单体蒸汽开启等离子体放电，进行化学气相沉积，制备致密涂层、粗糙涂层；在基材表面制备内层为致密涂层、外层为粗糙涂层的低粘附、耐蚀涂层；单体蒸汽为：至少一种单官能度不饱和氟碳树脂和至少一种多官能度不饱和烃类衍生物的混合物，多官能度不饱和烃类衍生物所占的质量分数为10％‑80％。本发明方法具有普适性在多种金属及合金基体表面大面积制备。腐蚀性液体极易从这种低粘附疏液表面滑落，降低腐蚀性液体与涂层的接触面积，减少腐蚀性液体在涂层表面的聚集从而降低腐蚀性液体对涂层的渗透，实现对腐蚀的抑制作用。
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公开(公告)号：CN106958012A
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201710360380.3
申请日：2017-05-21
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
IPC分类号： C23C16/513 , B82Y40/00
CPC分类号： C23C16/513 , B82Y40/00
摘要： 一种基材运动式等离子体放电制备纳米涂层的设备及方法，属于等离子体技术领域，设备包括：电极、真空排气装置、气体管路、基材固定装置，基材固定装置可以在运动机构的带动下在电极形成的空间内部产生运动，通入单体蒸汽到反应腔室内，进行化学气相沉积，沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段，预处理阶段等离子体放电方式为大功率连续放电，镀膜阶段等离子体放电方式为小功率连续放电。涂层制备过程中，基材的运动特性和等离子体放电能量组合联动。制备过程中等离子体放电的同时，基材产生运动，提高了涂层沉积效率，并改善了涂层厚度的均匀性和致密性。所制备的涂层具有防水防潮，防霉菌，耐酸、碱性溶剂，耐酸、碱性盐雾等特性。
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公开(公告)号：CN106637140A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611076982.8
申请日：2016-11-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
IPC分类号： C23C16/458
摘要： 本发明一种纳米镀膜设备行星回转货架装置，属于真空镀膜技术领域。该装置中，腔室顶部连接抽气口，腔室中心轴位置安装有中空管，中空管上端连接到抽气口，腔室底部安装有旋转电机，旋转电机上安装有行星回转货架；所述行星回转货架中，旋转轴与旋转电机连接，旋转轴与中空管同轴，旋转轴上固定设置旋转置物架，旋转置物架上对称设置有至少两根行星旋转轴，行星转转轴上设置至少一层置物台，置物台上放置待处理的工件。本发明的有益效果：镀膜过程中行星回转货架公转和自转持续双重旋转，避免出现因各区域化学单体气体密度不均匀造成固定区域的工件涂层厚度不均匀现象。同时，行星回转货架转动也有利于将进入腔室内的化学单体气体充分混合均匀。
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公开(公告)号：CN106622891A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201611076332.3
申请日：2016-11-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
摘要： 本发明一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置及方法，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。该装置中，在真空室内安装有等离子体源，真空室内安装紫外光源的阵列，载体气体管路的出口靠近等离子体源，单体蒸汽管路的出口距离等离子体源5‑30cm；排气管位于真空室远离等离子体源、载体气体管路出口和单体蒸汽管路出口的一侧；待处理的基材放在真空室内，将载体气体和单体蒸汽通入真空室内；放电产生等离子体；开启紫外光源；单体蒸汽在等离子体和紫外辐照双重作用下发生聚合并沉积在基材表面形成涂层。通过本发明装置及方法制备的涂层具有能量和原料利用率高、涂层沉积率高、涂层均匀性好等优点。
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公开(公告)号：CN106216192A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610790675.X
申请日：2016-08-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
摘要： 一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。其特征是，真空室为管状，内壁上安装电极和导轨，其中电极为柱面形，位于与真空室同轴的柱面上，分开为左右两部分，留出中间的空隙安装导轨，治具安装在导轨上，与真空室同轴，用来装载待处理的基材，治具能够沿导轨移入和移出真空室，真空室的顶部沿轴向间隔设置一个载体气体管路的出口和一个单体蒸汽管路的出口，真空室的底部沿轴向间隔设置一个真空排气管路的入口，真空室的两端安装真空室门，供治具送入和取出。本发明的装置具有真空室的容积大，等离子体的均匀性好，处理批量大，处理成本低，批处理产品质量均一性良好等优点。
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公开(公告)号：CN206772490U
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201720530812.6
申请日：2017-05-15
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
IPC分类号： G01L21/12
摘要： 本实用新型属于真空镀膜技术领域，一种真空压力控制和测量装置，该装置中，反应腔室与真空泵组增压泵连通，真空泵组增压泵前端与真空泵组前级泵连通，反应腔室分别与大量程真空计和小量程真空计连接。装置启动工作时，真空泵组前级泵常压下首先启动，大量程真空计测量到腔室内压力小于真空泵组增压泵启动压力后，启动真空泵组增压泵抽气使反应腔室内压力继续下降；当大量程真空计测量出腔室内压力下降到小量程真空计量程范围后，阀门打开，连通反应腔室和小量程真空计，将采用小量程真空计进行测量并以此作为镀膜工艺压力测量值。本实用新型通过大量程真空计可自动控制真空泵组增压泵启动，且通过小量程真空计可以精确测控镀膜工艺的真空压力。
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公开(公告)号：CN206304929U
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201621296613.5
申请日：2016-11-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
摘要： 一种等离子体聚合涂层装置，属于等离子体工程技术领域，该装置真空室侧部的室体内壁任一横截面为相同直径的圆或相同边长的正多边形，正多边形边数至少为6边；真空室内壁处安装有多孔电极，多孔电极与高频电源连接，真空室外壁上密封安装有至少两个放电腔，放电腔与真空室内壁连接处设置有至少两层金属栅网，真空室内的中心轴上竖直安装有尾气收集管，真空室内设置有旋转置物架，所述旋转置物架的旋转轴与真空室的中心轴同轴，旋转置物架上放置待处理基材。该实用新型的装置采用中心轴对称真空室结构保持空间聚合反应活性物种浓度的稳定性，具有真空室的容积大，单次处理批量大，处理效率高、成本低、批处理均匀性良好等优点。
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公开(公告)号：CN206304928U
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201621295989.4
申请日：2016-11-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
摘要： 本实用新型一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。该装置中，真空室为管状，真空室的内壁上安装有电极和导轨，其中电极为柱面形，位于与真空室同轴的柱面上，电极分开为至少两部分，留出的空隙安装导轨，电极与导轨不接触；治具安装在导轨上，与真空室同轴，待处理的基材装在治具内，真空室的顶部沿轴向间隔设置载体气体管路和单体蒸汽管路，真空室的底部沿轴向间隔设置真空排气管路，真空室的两端安装真空室门，供治具送入和取出。本实用新型的装置的真空室的容积大，等离子体的均匀性良好，处理批量大、效率高、成本低，批处理产品质量均匀性良好。
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公开(公告)号：CN206215404U
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201621296412.5
申请日：2016-11-30
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
摘要： 一种多源小功率低温等离子体聚合涂层装置，属于等离子体技术领域。在该装置中，主真空室壁上安装多个放电腔，在每个放电腔通往主真空室的开口处安装一个平面接地栅网；在每个放电腔内安装多孔电极板，多孔电极板与栅网平行并保持间隙，通过绝缘支架固定在放电腔壁上，并通过导线连接小功率高频电源，其上均匀分布通孔；载体气体管路和单体蒸汽管路分别连接到每个放电腔内，真空排气管连接到主真空室内，待处理的基材放在主真空室内部。本实用新型装置具有等离子体空间分布均匀，批处理产品质量均一性好，等离子体能量、密度较低，化学单体结构不易被过度破坏，形成的聚合物涂层质量好，各放电腔能够靠近安装，互相之间不干扰等优点。
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公开(公告)号：CN205956768U
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201620448691.6
申请日：2016-05-17
申请人： 无锡荣坚五金工具有限公司
发明人： 宗坚
IPC分类号： F17D1/08
摘要： 一种向真空腔体内添加药剂装置，属于抽真空技术领域。该向真空腔体内添加药剂的装置，包括药剂容器，药剂管路，过滤器，截止阀和真空腔体，所述真空腔体与药剂管路密封连接，真空腔体与药剂管路保持相通，药剂管路依次设置两个截止阀，药剂管路终端与药剂容器连接，截止阀与药剂容器之间的药剂管路上设置有过滤器。本实用新型采用两个截止阀的设计，在反应腔体处于工作压力时，打开靠近药剂溶剂一侧的截止阀，依靠负压力把药剂吸进，然后关闭此截止阀，打开靠近反应腔体的截止阀，药剂进入反应腔体，这样使得每次添加的药剂量得以控制，可以多次添加药剂，该向真空腔体内添加药剂的装置能够广泛应用于真空设备领域。
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