一种循环周期交替放电制备多功能性纳米防护涂层的方法

    公开(公告)号:CN107201511A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201710360379.0

    申请日:2017-05-21

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: C23C16/513 C23C16/455

    CPC分类号: C23C16/513 C23C16/455

    摘要: 一种循环周期交替放电制备多功能性纳米防护涂层的方法,属于等离子体技术领域,该方法中,将反应腔室内的抽真空度并通入惰性气体,使基材在反应腔室内产生运动,通入单体蒸汽到反应腔室内,进行化学气相沉积,沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段,预处理阶段等离子体放电方式为大功率连续放电,镀膜阶段等离子体放电方式为周期交替放电,循环重复预处理阶段和镀膜阶段至少一次,在镀膜工艺过程中,循环引入使基材表面引入更多的活性位点,增加有效镀膜,膜结构更致密,获得了多层复合结构的纳米涂层,为产品本身提供了多层防护,微观上表现为更为致密的涂层结构,从宏观上表现出优异的疏水性、附着力、耐酸碱、机械性能及耐湿热性能。

    一种梯度递增结构防液涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN106835075A

    公开(公告)日:2017-06-13

    申请号:CN201710049183.X

    申请日:2017-01-23

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: C23C16/455 C23C16/50

    CPC分类号: C23C16/45523 C23C16/50

    摘要: 一种梯度递增结构防液涂层的制备方法,属于等离子化学气相沉积技术领域。该方法中:首先将基材置于等离子体室的反应腔体内,对反应腔体连续抽真空,将反应腔体内的真空度抽到10‑200毫托,通入惰性气体或氮气;其次同时通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽;开启等离子体放电,进行化学气相沉积;放电结束,关闭等离子体电源,停止通入第一单体蒸汽、第二单体蒸汽、第三单体蒸汽,持续抽真空,保持反应腔体真空度为10‑200毫托1‑5min后通入大气至一个大气压,然后取出基材即可。本发明通过同时通入单体蒸汽,并控制单体蒸汽的流量以不同的速率递增,制得的涂层结构韧性硬度为梯度变化,可降低应力开裂、变形,同时拥有较好的阻隔防护性能。

    一种管状大容积等离子体聚合涂层装置

    公开(公告)号:CN106733264A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201611076261.7

    申请日:2016-11-30

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: B05B5/08 B05B15/12

    CPC分类号: B05B5/08 B05B16/40

    摘要: 本发明一种管状大容积等离子体聚合涂层装置,属于等离子体技术领域,用于在基材表面制备聚合物涂层。该装置中,真空室为管状,真空室的内壁上安装有电极和导轨,其中电极为柱面形,位于与真空室同轴的柱面上,电极分开为至少两部分,留出的空隙安装导轨,电极与导轨不接触;治具安装在导轨上,与真空室同轴,待处理的基材装在治具内,真空室的顶部沿轴向间隔设置载体气体管路和单体蒸汽管路,真空室的底部沿轴向间隔设置真空排气管路,真空室的两端安装真空室门,供治具送入和取出。本发明的装置的真空室的容积大,等离子体的均匀性良好,处理批量大、效率高、成本低,批处理产品质量均匀性良好。

    镀膜设备及其进料装置和应用

    公开(公告)号:CN111519172A

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN202010364175.6

    申请日:2020-04-30

    发明人: 宗坚 陈大文

    摘要: 本发明提供了镀膜设备及其进料装置和应用,所述镀膜设备包括一反应腔体,其具有一反应腔,和至少一进料装置,其中所述进料装置连通所述反应腔体,其中所述进料装置包括至少一储料腔体,其具有用于密封储存反应原料的一储料腔,所述储料腔与所述反应腔相连通;至少一气缸,其具有用于储存工艺气体的一气压腔,其中所述气压腔与所述储料腔相连通;以及至少一控压组件,其中所述控压组件被安装于所述气缸,其中所述控压组件用于调控所述气压腔的气压,以供通过气压压力控制所述储料腔输送反应原料至所述反应腔。

    镀膜设备及其电极装置和应用

    公开(公告)号:CN110904430A

    公开(公告)日:2020-03-24

    申请号:CN201911228765.X

    申请日:2019-12-04

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: C23C16/26 C23C16/503

    摘要: 本发明提供一种镀膜设备及其电极和应用,用于在基材表面制备薄膜,其中所述镀膜设备包括一腔体、至少一支架以及一供电装置,其中所述腔体具有一腔室,其中所述腔室适于被通入用于制备该薄膜的气体原料,其中所述支架被设置于所述腔室,其中所述支架用于支撑该基材,其中所述腔体作为正极,其中所述支架作为负极,使得所述腔室内的气体在电压作用下定向地朝向所述支架上的所述基材的方向沉积并最终在所述基材的表面形成所述薄膜,以使所述基材能够最大化数量地布置于所述支架,且满足所有的所述基材的镀膜需求。

    一种化学气相沉积设备及其恒压原料保护装置

    公开(公告)号:CN109972121A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201910412302.2

    申请日:2019-05-17

    发明人: 宗坚 陈大文

    IPC分类号: C23C16/448 C23C16/52

    摘要: 本申请实施例涉及等离子体化学气相沉积技术领域,具体地,涉及一种化学气相沉积设备及其恒压原料保护装置。该恒压原料保护装置包括通过管路依次连通的气源、第一控制阀、第一调压阀、缓冲罐、第二调压阀、单体罐组件、第二控制阀以及抽真空装置;所述第一控制阀和第二控制阀均具有连通状态和断开状态;当所述第一控制阀处于断开状态、且所述第二控制阀处于连通状态时,所述气源与所述缓冲罐和所述单体罐组件之间断开,所述抽真空装置与所述缓冲罐和所述单体罐组件之间连通,通过所述抽真空装置对所述管路进行抽真空,用于使所述气源与空气隔绝。该恒压原料保护装置具有能够隔绝空气、保证气源压力稳定、快速清理管路和控制简单的特点。

    一种具有调制结构的高绝缘纳米防护涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN107587120A

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201710729732.8

    申请日:2017-08-23

    发明人: 宗坚

    摘要: 一种具有调制结构的高绝缘纳米防护涂层的制备方法,属于等离子体技术领域,该方法中,将反应腔室抽真空度,并通入惰性气体,使基材产生运动,采用交替进行低偶极矩有机物涂层和有机硅涂层制备或有机氟碳涂层制备的方式,形成低偶极矩-有机硅/氟碳的调制多层致密结构,可降低涂层的应力,提高涂层的韧性;同时由于低偶极矩-有机硅/氟碳之间存在横向界面,腐蚀介质对涂层进行腐蚀过程中,遇到横向界面,则腐蚀会往横向发展,而不容易形成贯穿涂层的纵向腐蚀,避免腐蚀介质透过涂层而腐蚀被保护的材料与器件;同时,由于调制纳米层状结构的超晶格效应,层层之间位错的堆积,使得涂层更不容易被击穿,耐水下通电能力得到有效提高。

    一种有机硅纳米防护涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN107523808A

    公开(公告)日:2017-12-29

    申请号:CN201710729754.4

    申请日:2017-08-23

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: C23C16/513 C23C16/448

    CPC分类号: C23C16/513 C23C16/448

    摘要: 一种有机硅纳米防护涂层的制备方法,属于等离子体技术领域,该方法中,将反应腔室内的真空度抽到10~200毫托,并通入惰性气体,开启运动机构,使基材产生运动,通入单体蒸汽到反应腔室内,进行化学气相沉积,在基材表面化学气相沉积制备有机硅纳米涂层;单体蒸汽成分为:至少一种含双键、Si-Cl、Si-O-C、Si-N-Si、Si-O-Si结构或环状结构的有机硅单体和至少一种多官能度不饱和烃及烃类衍生物的混合物。本发明将传统的碳氢氧有机化合物单体替换为有机硅单体,每个硅原子至少提供1-4个活性位点,具有较高的活性,等离子沉积方法涂层厚度从纳米到微米都可以实现精确可控,且不需要使用溶剂,同时也避免了液相有机硅涂层方法产生废水、废液、废气等不足。

    一种小功率连续放电制备多功能性纳米防护涂层的方法

    公开(公告)号:CN107142466A

    公开(公告)日:2017-09-08

    申请号:CN201710361310.X

    申请日:2017-05-21

    发明人: 宗坚

    IPC分类号: C23C16/50 C23C16/02 B82Y40/00

    摘要: 一种小功率连续放电制备多功能性纳米防护涂层的方法,属于等离子体技术领域,该方法中,将反应腔室内的真空度抽到10~200毫托,并通入惰性气体He或者Ar,开启运动机构,使基材在反应腔室内产生运动,通入单体蒸汽到反应腔室内,等离子体放电,进行化学气相沉积,沉积过程包括预处理阶段和镀膜阶段,预处理阶段等离子体放电方式为大功率连续放电,镀膜阶段等离子体放电方式为小功率连续放电。涂层制备过程中,基材的运动特性和等离子体放电能量组合联动。制备过程中等离子体放电的同时,基材产生运动,提高了涂层沉积效率,并改善了涂层厚度的均匀性和致密性。所制备的涂层具有防水防潮,防霉菌,耐酸、碱性溶剂,耐酸、碱性盐雾等特性。

    一种防尘表面的制备方法

    公开(公告)号:CN107058980A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201710049332.2

    申请日:2017-01-23

    发明人: 宗坚

    摘要: 一种防尘表面的制备方法,属于等离子化学气相沉积技术领域,该方法中,将基材置于反应腔体内,连续抽真空,通入惰性气体或氮气;通入单体蒸汽进行化学气相沉积,制备致密涂层;致密涂层沉积完成后,调节等离子体放电的功率进行化学气相沉积,制备粗糙涂层;在基材表面上制备内层为致密涂层、外层为粗糙涂层的防尘表面;通入的单体蒸汽成分为:至少一种单官能度不饱和氟碳树脂和至少一种多官能度不饱和烃类衍生物的混合物,所述单体蒸汽中多官能度不饱和烃类衍生物所占的质量分数为10%‑80%。本发明通过等离子体化学气相沉积技术在基体表面沉积一层微纳米结构的低表面能氟碳树脂,来降低材料表面能以及接触面积,达到抑制尘埃吸附堆积的作用。