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公开(公告)号:CN100503029C
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN03805639.9
申请日:2003-03-12
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: B01J19/00 , B32B9/00 , C09D183/08 , C09D185/00 , C03C17/30
CPC classification number: C09D183/08 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2218/113 , C09D183/04 , C09D185/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以很快成膜,并且杂质少,形成致密的化学吸附膜的方法。其特征在于在向含有活泼氢的基材的表面上制造化学吸附膜的方法中,包含使在有机溶剂中用金属氧化物或金属醇盐部分加水分解生成物和水处理具有至少1种加水分解性基团的金属系表面活性剂而得到的溶液接触前述基材表面的工序。
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公开(公告)号:CN101157078A
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200710163166.5
申请日:2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法,其特征在于,包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A),将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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公开(公告)号:CN1538937A
公开(公告)日:2004-10-20
申请号:CN02815253.0
申请日:2002-08-02
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08K5/0091 , C08F291/00 , C08G18/3876 , C08G18/775 , C08L51/003 , C08L51/10 , C09D1/00
Abstract: 本发明涉及一种具有金属-氧键的分散成分,它是在酸、碱和/或分散体稳定剂不存在下,在有机溶剂中利用0.5mol至低于1mol的水/每mol的金属醇盐或在-20℃或-20℃以下利用1.0至低于2.0mol的水/每mol的金属醇盐来水解金属醇盐而生产。在有机溶剂中,该分散成分稳定地分散但不会聚集。分散成分的使用使得可以在低至200℃或200℃以下的温度下生产出薄金属氧化物膜和均匀的有机/无机复合物。
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公开(公告)号:CN1205024A
公开(公告)日:1999-01-13
申请号:CN97191397.8
申请日:1997-10-07
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C09D5/00 , B01J35/002 , B01J35/004
Abstract: 本发明涉及在高温多湿环境下和要求耐碱性的户外环境下也能够使用的附载有光催化剂的构造体及用于制造该构造体的光催化剂涂层剂组合物。光催化剂涂层剂组合物的特征在于,包含光催化剂和赋予耐碱性的锆化合物及/或锡化合物。附载有光催化剂的构造体的特征在于,在光催化剂层和载体之间设有粘合层结构,光催化剂层包含光催化剂和赋予耐碱性的锆化合物及/或锡化合物。
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