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公开(公告)号：CN101870149B
公开(公告)日：2012-02-08
申请号：CN201010219207.X
申请日：2005-12-28
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及成型用模具或电铸母模，其特征在于，使模具或母模与含有式[1]，Rn-Si-X4-n……[1]，(式[1]中，R表示可以具有取代基的C1～20烃基、可以具有取代基的C1～20卤代烃基、含有连接基的C1～20烃基或含有连接基的C1～20卤代烃基，X表示羟基、卤素原子、C1～C6的烷氧基或酰氧基，n表示1～3的整数)。表示的硅烷类表面活性剂及可以与该硅烷类表面活性剂进行相互作用的催化剂的有机溶剂溶液进行接触，从而使模具表面或母模表面形成含有耐磨损性及剥离性能优异的有机薄膜的脱模层。
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公开(公告)号：CN101765621A
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200880101226.3
申请日：2008-08-01
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08G77/16 , C07F7/21 , C08G77/38 , C08L1/28 , C08L83/06 , C09D101/26 , C09D183/04 , C09D183/06
CPC classification number: C07F7/21 , C08G77/045 , C08G77/12 , C08G77/14 , C08G77/16 , C08G77/18 , C08G77/20 , C08G77/24 , C08G77/70 , C08J5/18 , C08J2301/28 , C08J2483/04 , C08J2483/06 , C08L1/284 , C08L83/04 , C08L83/06 , C09D183/04 , C09D183/06 , C08L2666/26
Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有α，β-二醇基团的倍半硅氧烷，另外还提供一种含有倍半硅氧烷和羟烷基纤维素而成的有机无机杂化树脂组合物。其是含有通式(A)表示的笼形结构体的倍半硅氧烷和通式(B)表示的部分开裂笼形结构体的倍半硅氧烷而成的组合物。(RSiO3/2)l...(A)(RSiO3/2)m(RSiO2H)n...(B)[在通式(A)和(B)中，l和m表示4以上的整数，n表示1以上的整数，n/(l+m)为0.03～0.2。R可彼此相同或不同，表示碳原子数1-10的烷氧基等。其中，在1个分子内至少1个是具有α，β-二醇的基团，有多个具有α，β-二醇的基团时，它们可彼此相同或不同]。
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公开(公告)号：CN101870149A
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN201010219207.X
申请日：2005-12-28
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及成型用模具或电铸母模，其特征在于，使模具或母模与含有式[1]Rn-Si-X4-n……[1](式[1]中，R表示可以具有取代基的C1～20烃基、可以具有取代基的C1～20卤代烃基、含有连接基的C1～20烃基或含有连接基的C1～20卤代烃基，X表示羟基、卤素原子、C1～C6的烷氧基或酰氧基，n表示1～3的整数。)表示的硅烷类表面活性剂及可以与该硅烷类表面活性剂进行相互作用的催化剂的有机溶剂溶液进行接触，从而使模具表面或母模表面形成含有耐磨损性及剥离性能优异的有机薄膜的脱模层。
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公开(公告)号：CN100528883C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200480003017.7
申请日：2004-01-30
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07F7/12 , C07F7/1804 , C07F9/3808 , C07F9/4006
Abstract: 本发明涉及光响应性能没有下降、影响成膜性的结构部分和影响表面物性的部位可以变柔软、可以由较低能量的波长的光来实现表面变换的、可以以良好重复性在基板上形成有机薄膜的、以式(1)表示的化合物及其有机薄膜形成体。(式中，X表示含杂原子且可以与金属或金属氧化物表面相互作用的官能团，R表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、芳基、碳原子数1～20的烷氧羰基等。n表示1～30的整数，m表示0～5的整数。G1表示单键或碳原子数1～3的2价烃基。Ar表示可以具有取代基的芳香族基团。G2表示O、S或Nr。)
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公开(公告)号：CN101087679A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200580044909.6
申请日：2005-12-28
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明涉及成型用模具或电铸母模，其特征在于，使模具或母模与含有式[1]Rn－Si－X4－n(式[1]中，R表示可以具有取代基的C1～20烃基、可以具有取代基的C1～20卤代烃基、含有连接基的C1～20烃基或含有连接基的C1～20卤代烃基，X表示羟基、卤素原子、C1～C6的烷氧基或酰氧基，n表示1～3的整数。)表示的硅烷类表面活性剂及可以与该硅烷类表面活性剂进行相互作用的催化剂的有机溶剂溶液进行接触，从而使模具表面或母模表面形成含有耐磨损性及剥离性能优异的有机薄膜的脱模层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1638858A
公开(公告)日：2005-07-13
申请号：CN03805639.9
申请日：2003-03-12
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: B01J19/00 , B32B9/00 , C09D183/08 , C09D185/00 , C03C17/30
CPC classification number: C09D183/08 , B05D1/185 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/30 , C03C2218/113 , C09D183/04 , C09D185/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以很快成膜，并且杂质少，形成致密的化学吸附膜的方法。其特征在于在向含有活泼氢的基材的表面上制造化学吸附膜的方法中，包含用在有机溶剂中的金属氧化物或金属醇盐部分加水分解生成物和水处理具有至少1种加水分解性基团的金属系表面活性剂，使得到的溶液接触前述基材表面的工序。
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公开(公告)号：CN101157078B
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN200710163166.5
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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公开(公告)号：CN100451054C
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：CN200480009940.1
申请日：2004-04-14
Applicant: 日本曹达株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可以迅速而且稳定地多次连续形成杂质少、致密的有机薄膜的有机薄膜制造方法。该有机薄膜制造方法是在基板表面上形成有机薄膜的有机薄膜制造方法，其特征在于，包括把含有具有至少1个或更多个水解性基团的金属类表面活性剂和可以与此金属类表面活性剂相互作用的催化剂的有机溶剂溶液与所述基板接触的工序(A)，将所述有机溶剂溶液中的水分含量设定或保持在规定量范围。
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公开(公告)号：CN1745088A
公开(公告)日：2006-03-08
申请号：CN200480003017.7
申请日：2004-01-30
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , C07F7/12 , C07F7/1804 , C07F9/3808 , C07F9/4006
Abstract: 本发明涉及光响应性能没有下降、影响成膜性的结构部分和影响表面物性的部位可以变柔软、可以由较低能量的波长的光来实现表面变换的、可以以良好重复性在基板上形成有机薄膜的、以式(1)表示的化合物及其有机薄膜形成体。(式中，X表示含杂原子且可以与金属或金属氧化物表面相互作用的官能团，R表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的烷氧基、芳基、碳原子数1～20的烷氧羰基等。n表示1～30的整数，m表示0～5的整数。G1表示单键或碳原子数1～3的2价烃基。Ar表示可以具有取代基的芳香族基团。G2表示O、S或Nr) 。
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公开(公告)号：CN1711213A
公开(公告)日：2005-12-21
申请号：CN200380103054.0
申请日：2003-11-12
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C23C18/1216 , C23C18/122
Abstract: 本发明的目的在于提供适合在200℃以下的低温制造金属氧化物膜以及适合制造均质的有机－无机复合物时使用的含金属－氧键的分散质，同时提供具有各种功能的金属氧化物薄膜和有机－无机复合物，特别是具有高折射率、高透明性的有机－无机复合物。本发明使用含金属－氧键的分散质，其特征在于，其通过在有机溶剂中，在不存在酸、碱和/或分散稳定剂的情况下，将具有3个以上水解性基团的金属化合物与相对于该金属化合物的0.5倍摩尔以上且不到2倍摩尔的水在水解起始温度以下的温度混合，并升温至水解起始温度温度以上而得到的。
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