光照射装置和光照射方法
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106687852B

    公开(公告)日:2021-06-08

    申请号:CN201580048521.7

    申请日:2015-08-26

    Inventor: 泷口优

    Abstract: 光照射装置(1A)具有光源(10)、分散元件(20)、空间光调制器(30)和聚光元件(50)。分散元件(20)将从光源(10)输出的脉冲光分散并输出。分散元件(20)例如包括棱镜(21、22)。空间光调制器(30)对从分散元件(20)输出的光的相位谱或强度谱进行调制并输出。聚光元件(50)以分散的状态接收从空间光调制器(30)输出的光,并聚光于对象物(9)的表面或内部的共同的区域(聚光区域)内。由此,实现了聚光区域中的脉冲光的时间波形的调整的自由度高且能够容易地实现所希望的时间波形的光照射装置。

    发光装置
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109565152B

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN201780049076.5

    申请日:2017-08-10

    Abstract: 本实施方式涉及一种具有能够从S-iPM激光器的输出光中除去0次光的结构的发光装置。该发光装置包括半导体发光元件和光遮蔽部件。半导体发光元件包括活性层、一对覆盖层和相位调制层。相位调制层包括基本层和分别个别地配置于特定位置的多个不同折射率区域。光遮蔽部件具有如下功能:使沿倾斜方向输出的特定的光像通过,而遮蔽沿发光面的法线方向输出的0次光。

    发光装置
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109565152A

    公开(公告)日:2019-04-02

    申请号:CN201780049076.5

    申请日:2017-08-10

    Abstract: 本实施方式涉及一种具有能够从S-iPM激光器的输出光中除去0次光的结构的发光装置。该发光装置包括半导体发光元件和光遮蔽部件。半导体发光元件包括活性层、一对覆盖层和相位调制层。相位调制层包括基本层和分别个别地配置于特定位置的多个不同折射率区域。光遮蔽部件具有如下功能:使沿倾斜方向输出的特定的光像通过,而遮蔽沿发光面的法线方向输出的0次光。

    微小体控制装置
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105683804B

    公开(公告)日:2018-09-28

    申请号:CN201480057919.2

    申请日:2014-10-02

    Abstract: 微小体控制装置(1)是控制样本(90)中的介质中的微小体的动作的装置,包括光源(10)、光学旋涡生成部(20)、物镜(30)、摄像部(60)、解析部(70)和移动部(80)。解析部(70)在由物镜(30)形成的光学旋涡的聚光位置被设定在第1位置时,基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第1运动信息,在光学旋涡的聚光位置被设定在第2位置时,基于来自对由光学旋涡光捕集的微小体进行了摄像的摄像部(60)的图像数据取得微小体的第2运动信息,通过比较第1运动信息和第2运动信息,来评价由光学旋涡导致的微小体的光捕集的状态。

    光调制装置和光学系统
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106796360A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201580046985.4

    申请日:2015-08-26

    Inventor: 泷口优

    Abstract: 光调制装置(1A)具有反射型空间光调制器(10)、偏光分离部(31)、第一偏光面旋转部(33)、偏光合成部(41)、第二偏光面旋转部(43)。偏光分离部(31)对输入光(Lin)进行偏光分离,输出第一分离光(L11)(S偏光)和第二分离光(L12)(P偏光)。第一偏光面旋转部(33)使第一分离光(L11)成为P偏光。空间光调制器(10)的调制面(11)的第一区域(11A)对第一分离光(L11)进行调制,输出第一调制光(L21),第二区域(11B)对第二分离光(L12)进行调制,输出第二调制光(L22)。第二偏光面旋转部(43)使第二调制光(L22)成为S偏光。偏光合成部(41)对第一调制光(L21)和第二调制光(L22)进行偏光合成,输出输出光(Lout)。由此,能够实现即使在使用只能对特定方位的直线偏光的光进行调制的空间光调制器的情况下也能够提高光利用效率的光调制装置。

    光照射装置和光照射方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106687852A

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201580048521.7

    申请日:2015-08-26

    Inventor: 泷口优

    Abstract: 光照射装置(1A)具有光源(10)、分散元件(20)、空间光调制器(30)和聚光元件(50)。分散元件(20)将从光源(10)输出的脉冲光分散并输出。分散元件(20)例如包括棱镜(21、22)。空间光调制器(30)对从分散元件(20)输出的光的相位谱或强度谱进行调制并输出。聚光元件(50)以分散的状态接收从空间光调制器(30)输出的光,并聚光于对象物(9)的表面或内部的共同的区域(聚光区域)内。由此,实现了聚光区域中的脉冲光的时间波形的调整的自由度高且能够容易地实现所希望的时间波形的光照射装置。

    光调制控制方法、控制程序、控制装置以及激光照射装置

    公开(公告)号:CN103917914B

    公开(公告)日:2016-11-30

    申请号:CN201280053084.4

    申请日:2012-10-23

    Abstract: 在使用了空间光调制器的激光的聚光照射的控制中,取得激光的波长数、各个波长的值以及激光的入射条件(步骤S101),设定聚光点数、以及各个聚光点上的聚光位置、波长、聚光强度(S104),对于各个聚光点,导出由包含空间光调制器的光学系统赋予激光的失真相位图案(S107)。然后,考虑失真相位图案来设计呈现于空间光调制器的调制图案(S108)。另外,在调制图案的设计中,使用着眼于一个像素中的相位值的影响的设计法并且在评价聚光点上的聚光状态的时候使用加上了失真相位图案的传播函数。由此,实现了能够适当地实现激光的聚光控制的光调制控制方法、程序、装置以及激光照射装置。

    空间光调制装置以及空间光调制方法

    公开(公告)号:CN103392147B

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201280009021.9

    申请日:2012-02-10

    Abstract: 空间光调制装置(1A)具备:液晶层(12),对应于施加电场的大小而调制入射光的相位;温度传感器(17),生成作为对应于液晶层(12)的温度的信号的温度信号(Stemp);多个像素电极(13a),设置于多个像素的每个像素并将产生施加电场的电压施加于液晶层(12);驱动装置(20A),将电压提供给多个像素电极(13a)。驱动装置(20A)具有预先存储包含于表示相对于液晶层(12)的基准温度(T0)的温度变化量与液晶层(12)中的相位调制量的变动量的相关的函数中的系数(α)的非挥发性存储元件(23),使用温度信号(Stemp)所表示的温度和系数(α),进行用于修正电压的大小的运算。由此,实现了能够减小必要的存储容量、制作容易而且能够提高相对于所期望的相位调制量的施加电压值的精度的空间光调制装置以及空间光调制方法。

Patent Agency Ranking