公开(公告)号：CN106905869A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201610857251.0

申请日：2016-09-27

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  春日充 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  G02B1/16

CPC classification number: C09J7/405 ,  C09J7/255 ,  C09J7/401 ,  C09J133/08 ,  C09J2201/122 ,  C09J2201/60 ,  C09J2203/318 ,  G02B1/16

Abstract: 本发明提供一种抗静电表面保护膜，其对被粘物的污染少，且具有不经时劣化的优异的剥离抗静电性能，使用时易剥离剥离片。本发明提供的抗静电表面保护膜，通过在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一面上形成粘着剂层(2)，在粘着剂层(2)的表面上贴合剥离片(5)而形成，其中，剥离片(5)通过在基材(3)的一面上具有剥离剂层(4)而形成，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、和抗静电剂的树脂组合物而形成。

公开(公告)号：CN106189894A

公开(公告)日：2016-12-07

申请号：CN201510396987.8

申请日：2015-07-08

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  新见洋人 ,  春日充 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/08 ,  B32B27/36 ,  B32B27/08

Abstract: 本发明提供对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘附体的污染少、且对被粘附体的低污染性无经时变化，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜和使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，该剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)包含以含长链烷基的树脂作为主要成分的剥离剂和由不与该剥离剂发生反应的离子性化合物构成的抗静电剂，抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，减少将粘结剂层(2)从被粘附体剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN104342044B

公开(公告)日：2016-10-05

申请号：CN201410242459.2

申请日：2014-06-03

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  G02B1/14

Abstract: 本发明提供一种对被粘附体的污染少，并且对被粘附体的低污染性随着时间推移不发生变化的表面保护膜，并具有无经时劣化的优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在该粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，其中，所述剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面形成剥离剂层(4)而成，该剥离剂层(4)是通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和熔点为30～80℃的离子性化合物的树脂组合物来形成；所述粘结剂层(2)是丙烯酸类粘结剂层。

公开(公告)号：CN104342045B

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201410312324.9

申请日：2014-07-02

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN104774569A

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201410677651.4

申请日：2014-11-21

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  岛口龙介 ,  长谷川良 ,  小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人

IPC: C09J7/02 ,  C09J151/08 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  G02B1/16

Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化、具有优良抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜，其是依次经过：在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物、进而还含有(F)二官能以上的异氰酸酯化合物、(G)交联促进剂及(H)酮-烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序；将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作，剥离剂层(4)通过含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物及抗静电剂的树脂组合物形成，粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。

公开(公告)号：CN104342045A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410312324.9

申请日：2014-07-02

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  远藤佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09D183/04 ,  C09D7/12 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也能够使用且对被粘附体的污染少、对被粘附体的低污染性也不会经时劣化且具有优良的抗剥离静电性能的表面保护膜，以及使用了该表面保护膜的光学部件。在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的单面形成有粘结剂层(2)，并在粘结剂层(2)上贴合了具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)的表面保护膜(10)中，剥离膜(5)是在树脂膜(3)的单面层叠剥离剂层(4)而成，所述剥离剂层(4)含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂以及与该剥离剂不发生反应的抗静电剂，通过所述抗静电剂成分从剥离膜(5)向粘结剂层(2)的表面转移，能减少从被粘附体剥下前述粘结剂层(2)时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN102786884A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN201210151639.0

申请日：2012-05-16

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 春日充 ,  小林弘幸 ,  饭沼佳子 ,  林益史

IPC: C09J7/02 ,  C09J133/00 ,  G02B1/10 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明的表面保护薄膜在透明的基底薄膜的一面顺序层叠而设置表面电阻率为1×1013〔Ω/□〕以上的第一粘接剂层和表面电阻率小于1×1013〔Ω/□〕的第二粘接剂层。

公开(公告)号：CN117701167A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202311710417.2

申请日：2016-10-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  C09J7/30 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06 ,  C09D183/04 ,  C09D5/24 ,  C09D7/63 ,  C09D7/65

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)一个面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、抗静电助剂，抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物，抗静电助剂为聚醚改性硅酮，抗静电剂成分与抗静电助剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。

公开(公告)号：CN108864974B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201810778041.1

申请日：2015-02-02

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 长仓毅 ,  长谷川良 ,  小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人

IPC: C09J7/30 ,  C09J7/25 ,  C09J7/40 ,  C09J133/08 ,  C09J11/06

Abstract: 本发明提供对被粘附体的污染少且无经时劣化并具有优良的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜。其是依次经过：在由透明树脂构成的基材膜(1)的单面形成由含有共聚物的丙烯酸类聚合物，进而还含有(D)二官能以上的异氰酸酯化合物、(E)交联促进剂及(F)酮‑烯醇互变异构体化合物的粘结剂组合物构成的粘结剂层(2)的工序；将在树脂膜(3)的单面层叠含抗静电剂的剥离剂层(4)而成的剥离膜(5)，通过剥离剂层(4)贴合于粘结剂层(2)表面的工序而制作，剥离剂层(4)由含有以二甲基聚硅氧烷作为主要成分的剥离剂、20℃下是液体的聚硅氧烷类化合物和抗静电剂的树脂组合物形成，粘结剂层(2)的剥离静电压为±0.6kV以下。

公开(公告)号：CN107083198B

公开(公告)日：2021-06-15

申请号：CN201610888772.2

申请日：2016-10-11

Applicant: 藤森工业株式会社

Inventor： 小林弘幸 ,  春日充 ,  新见洋人 ,  铃木千惠 ,  五十岚智美 ,  木俣绘美子 ,  林益史

IPC: C09J7/25 ,  C09J7/30 ,  C09J133/08

Abstract: 本发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物的污染少、对被粘物的低污染性不会经时变化、具有不会经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10)，通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成，剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一面上层叠剥离剂层(4)而成，剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂，抗静电剂成分为熔点30～80℃的离子性化合物，抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)表面，降低将粘着剂层(2)从被粘物剥离时的剥离静电压。