公开(公告)号：CN103548421A

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201280024915.5

申请日：2012-06-14

Applicant: 三菱综合材料株式会社

Inventor： 野中庄平 ,  小见山昌三

IPC: H05B33/26 ,  C22C5/06 ,  C23C14/34 ,  G06F3/041 ,  H01B1/02 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: H01L51/5218 ,  C22C5/06 ,  C23C14/14 ,  C23C14/3414 ,  H01B1/02 ,  H05B33/26

Abstract: 本发明提供一种导电性膜及其制造方法以及用于该制造方法的溅射靶，该导电性膜具备低电阻且高反射率的特性，并且表面粗糙度较小，且兼备较高的耐硫化性及耐热性。本发明的导电性膜由具有如下成分组成的银合金构成：该银合金含有0.1～1.5原子%的In及Sn中的至少任一种，还含有0.1～3.5原子%的Sb，且剩余部分由Ag及不可避免杂质构成。该导电性膜适合用作在表面层叠有有机EL元件的透明导电膜，并且进一步在该透明导电膜上层叠有含有机EL层的电致发光层的有机EL元件用的反射电极膜。

公开(公告)号：CN102041414A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：CN201010516156.7

申请日：2010-10-19

Applicant: 三菱综合材料株式会社

Inventor： 小见山昌三 ,  森理惠

IPC: C22C21/00 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明涉及光记录介质用铝合金反射膜以及用于形成该反射膜的溅射靶材。本发明提供了具有充分的耐腐蚀性的同时具有优良的表面平滑性、即使在湿热环境下也具有较小的表面粗糙度的光记录介质用铝合金反射膜及用于形成该反射膜的溅射靶材。该反射膜由下述组成的铝合金形成，该组成含有Mg：3-8质量％以及Ce：3-8质量％、还含有总计为2-9质量％的Ni、Co中的一种或两种、且余量部由Al以及不可避免的杂质构成。由此，在具有充分的耐腐蚀性以及表面平滑性的同时，即使在湿热环境下也能维持较小的表面粗糙度。