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公开(公告)号：CN105074045A
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201480009608.9
申请日：2014-04-03
申请人： 三菱综合材料株式会社
CPC分类号： G11B7/257 , C04B35/453 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3241 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3287 , C04B2235/3293 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/266 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要： 本发明的氧化物溅射靶为如下氧化物烧结体，即，相对于金属成分总量，含有Sn：7at％以上及In：0.1～35.0at％，余量由Zn及不可避免的杂质构成，Sn与Zn的含有原子比Sn/(Sn+Zn)为0.5以下，并具有以固溶有In的Zn2SnO4作为主相的组织。
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公开(公告)号：CN102041414B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201010516156.7
申请日：2010-10-19
申请人： 三菱综合材料株式会社
摘要： 本发明涉及光记录介质用铝合金反射膜以及用于形成该反射膜的溅射靶材。发明提供了具有充分的耐腐蚀性的同时具有优良的表面平滑性、即使在湿热环境下也具有较小的表面粗糙度的光记录介质用铝合金反射膜及用于形成该反射膜的溅射靶材。该反射膜由下述组成的铝合金形成，该组成含有Mg：3-8质量％以及Ce：3-8质量％、还含有总计为2-9质量％的Ni、Co中的一种或两种、且余量部由Al以及不可避免的杂质构成。由此，在具有充分的耐腐蚀性以及表面平滑性的同时，即使在湿热环境下也能维持较小的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN111902561A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980019072.1
申请日：2019-04-11
申请人： 三菱综合材料株式会社
摘要： 一种屏蔽层(20)，其配设于液晶显示面板(10)，该屏蔽层(20)的特征在于，由如下氧化物构成：将金属成分的总计设为100原子％，在60原子％以上且80原子％以下的范围内包含In，且剩余部分为Si及不可避免的杂质金属元素，并且，将金属成分的总计设为100原子％，还可以在1原子％以上且32原子％以下的范围内包含Zr。
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公开(公告)号：CN103958729A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201380003991.2
申请日：2013-03-01
申请人： 三菱综合材料株式会社
IPC分类号： C23C14/34 , C04B35/453
CPC分类号： C04B35/453 , B82Y30/00 , C04B35/6261 , C04B35/62655 , C04B37/026 , C04B2235/3217 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3409 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/5454 , C04B2235/604 , C04B2235/656 , C04B2235/6562 , C04B2235/6565 , C04B2235/6567 , C04B2235/77 , C04B2235/782 , C04B2235/784 , C04B2235/786 , C04B2235/85 , C04B2237/12 , C04B2237/34 , C04B2237/407 , C04B2237/704 , C23C14/086 , C23C14/3414
摘要： 本发明提供一种即使DC溅射也能够制作高电阻的透明膜的溅射靶以及高电阻透明膜及其制造方法。本发明的溅射靶以氧化锌为主要成分，由具有相对于总金属成分含量含有0.005～0.1原子％的选自In、Ga、Al、B的元素群中的一种或两种以上的元素的成分组成的氧化物烧结体构成，所述氧化物烧结体的密度为5.3g/cm3以上。高电阻透明膜使用上述溅射靶通过DC溅射成膜，体积电阻率为1×104Ω·cm以上。
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公开(公告)号：CN102041414A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN201010516156.7
申请日：2010-10-19
申请人： 三菱综合材料株式会社
摘要： 本发明涉及光记录介质用铝合金反射膜以及用于形成该反射膜的溅射靶材。本发明提供了具有充分的耐腐蚀性的同时具有优良的表面平滑性、即使在湿热环境下也具有较小的表面粗糙度的光记录介质用铝合金反射膜及用于形成该反射膜的溅射靶材。该反射膜由下述组成的铝合金形成，该组成含有Mg：3-8质量％以及Ce：3-8质量％、还含有总计为2-9质量％的Ni、Co中的一种或两种、且余量部由Al以及不可避免的杂质构成。由此，在具有充分的耐腐蚀性以及表面平滑性的同时，即使在湿热环境下也能维持较小的表面粗糙度。
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公开(公告)号：CN111902561B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN201980019072.1
申请日：2019-04-11
申请人： 三菱综合材料株式会社
摘要： 一种屏蔽层(20)，其配设于液晶显示面板(10)，该屏蔽层(20)的特征在于，由如下氧化物构成：将金属成分的总计设为100原子％，在60原子％以上且80原子％以下的范围内包含In，且剩余部分为Si及不可避免的杂质金属元素，并且，将金属成分的总计设为100原子％，还可以在1原子％以上且32原子％以下的范围内包含Zr。
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公开(公告)号：CN105074045B
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201480009608.9
申请日：2014-04-03
申请人： 三菱综合材料株式会社
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/08 , G11B7/2548 , G11B7/2578 , G11B7/26
CPC分类号： G11B7/257 , C04B35/453 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3241 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3287 , C04B2235/3293 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/266 , G11B2007/25706 , G11B2007/2571 , G11B2007/25715
摘要： 本发明的氧化物溅射靶为如下氧化物烧结体，即，相对于金属成分总量，含有Sn：7at％以上及In：0.1～35.0at％，余量由Zn及不可避免的杂质构成，Sn与Zn的含有原子比Sn/(Sn+Zn)为0.5以下，并具有以固溶有In的Zn2SnO4作为主相的组织。
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公开(公告)号：CN104136655A
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201380008362.9
申请日：2013-02-06
申请人： 三菱综合材料株式会社
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/08 , C04B35/453 , G11B7/257 , G11B7/26
CPC分类号： G11B7/254 , C04B35/01 , C04B35/453 , C04B35/547 , C04B35/645 , C04B35/6455 , C04B2235/3217 , C04B2235/3241 , C04B2235/3284 , C04B2235/3286 , C04B2235/3287 , C04B2235/3293 , C04B2235/3418 , C04B2235/5436 , C04B2235/5445 , C04B2235/77 , C04B2235/80 , C23C14/086 , C23C14/3414 , G11B7/257 , G11B7/266 , G11B2007/25411 , G11B2007/25414 , G11B2007/25417 , G11B2007/25706 , G11B2007/25708 , G11B2007/2571 , H01J37/3429
摘要： 本发明提供一种氧化物溅射靶，所述氧化物溅射靶作为光记录介质保护膜形成用靶，可形成保存性高、具有柔韧性而不易破裂的膜，并且能够进行直流溅射，在进行溅射时颗粒少。氧化物溅射靶为如下氧化物烧结体，即相对于金属成分总量，含有共计0.15at％以上的Al、Ga及In中的一种以上和7at％以上的Sn，其中Al、Ga、In及Sn共计36at％以下，余量由Zn及不可避免杂质构成。
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