公开(公告)号：CN111771258A

公开(公告)日：2020-10-13

申请号：CN201980015220.2

申请日：2019-03-07

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 北田刚 ,  弓场智之

IPC: H01L21/225 ,  H01L21/22 ,  H01L31/18

Abstract: 本发明的目的是提供涂布液的保存稳定性优异，能够提高丝网印刷时的连续印刷性、和向半导体基板均匀扩散的杂质扩散组合物。为了达到上述目的，本发明的杂质扩散组合物含有：(A)侧链包含选自下述通式(1)和通式(2)中的至少1个结构的聚合物(以下，称为(A)聚合物)；以及(B)杂质扩散成分。(在通式(1)和通式(2)中，R1～R14各自独立地表示氢原子、或碳原子数1～8的有机基。a1表示整数1～4，a2和a3各自独立地表示整数0～2。a2+a3表示整数0～3。*表示与聚合物的结合部分。)

公开(公告)号：CN108700808A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780015983.8

申请日：2017-03-17

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 小林秀行 ,  弓场智之

IPC: G03F7/023 ,  C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40 ,  H01L33/22 ,  H01L33/32

CPC classification number: C08G73/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/09 ,  G03F7/40 ,  H01L33/22 ,  H01L33/32

Abstract: 蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物，其是含有（A）以通式（1）所示的结构单元作为主成分的聚酰亚胺、和（B）光产酸剂的组合物，其特征在于，聚酰亚胺（A）的酰亚胺基当量为0.0025摩尔/g以上，[化学式1](1)在通式（1）中，R1表示碳原子数为2～50的二价的有机基团，R2表示碳原子数为2～50的三价或四价的有机基团，m1为0或1，c1为0或1，当m1＝0时，c1＝1，当m1＝1时，c1＝0。可提供蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物，所述蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物即使在形成100℃～300℃的高温下的高功率干法蚀刻处理中也不产生抗蚀剂燃烧、碳化，且即使在低温下进行抗蚀剂固化，也可得到高的蚀刻耐性，因此能够得到面内均匀性高的蓝宝石图案。

公开(公告)号：CN108291087A

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201680062906.3

申请日：2016-10-27

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 小林秀行 ,  弓场智之

IPC: C08L79/08 ,  C08G65/18 ,  C08K5/1525 ,  C08L63/00 ,  C08L79/04 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明使用如下树脂组合物来提供表面雕刻有曲面状图案的基板的制造方法，所述树脂组合物能够将抗蚀剂图案形成为曲面状，即使在成为高温的高输出功率干法刻蚀处理中也不产生抗蚀剂灼烧、碳化，能够提供具有良好的刻蚀选择比和刻蚀后的除去性的固化膜。本发明为经图案加工的基板的制造方法，所述制造方法包括：在基板上设置包含以下成分的树脂组合物的被膜的工序，所述成分为：(A)选自以下组中的碱溶性树脂，所述组由聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺前体、聚酰胺酰亚胺前体、聚苯并噁唑、聚苯并噁唑前体、上述树脂中的至少两种以上的共聚物、及上述树脂中的至少一种与其他结构单元的共聚物组成，(B)光产酸剂，以及(C)选自由环氧化合物及氧杂环丁烷化合物组成的组中的至少一种化合物；形成被膜的图案的工序；以被膜的图案作为掩模，利用刻蚀对基板进行图案加工的工序；以及将树脂组合物的被膜除去的工序。

公开(公告)号：CN103238241B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201180057067.3

申请日：2011-11-28

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 富川真佐夫 ,  弓场智之 ,  茶山奈津子

IPC: H01M4/62 ,  H01M4/134 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/38

CPC classification number: H01M4/622 ,  H01M4/134 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/386 ,  H01M4/387 ,  H01M10/0525 ,  Y02T10/7011

Abstract: 本发明提供一种锂离子电池电极用粘合剂，所述粘合剂包含含有四羧酸残基和二胺残基的聚酰亚胺前体及/或聚酰亚胺，作为四羧酸的残基，含有选自通式(1)及(2)中的四羧酸二酐的残基，作为二胺残基，含有选自通式(3)及(4)中的二胺的残基，且相对于1摩尔二胺残基，酸残基为0.90～0.95摩尔。

公开(公告)号：CN104054200A

公开(公告)日：2014-09-17

申请号：CN201380005137.X

申请日：2013-01-30

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所 ,  东丽株式会社

Inventor： 幸琢宽 ,  奥山妥绘 ,  境哲男 ,  弓场智之 ,  茶山奈津子 ,  富川真佐夫

IPC: H01M4/62 ,  H01M4/36 ,  H01M4/485 ,  H01M4/505 ,  H01M4/525

CPC classification number: H01M4/622 ,  H01M4/366 ,  H01M4/485 ,  H01M4/505 ,  H01M4/525 ,  H01M4/5825 ,  H01M4/62 ,  H01M4/623 ,  H01M4/625 ,  H01M10/0525 ,  H01M2220/20

Abstract: 本发明公开一种锂离子电池正极用树脂组合物，其以少的粘合剂使用量赋予强韧的粘结性和电解液注液性，显示良好的充放电特性、输入输出特性。锂离子电池正极用树脂组合物含有酰亚胺化后的从20℃开始至200℃为止的平均线性热膨胀系数为3～50ppm的聚酰亚胺前体及/或从20℃开始至200℃为止的平均线性热膨胀系数为3～50ppm的聚酰亚胺以及正极活性物质，正极活性物质是在含锂的复合氧化物表面被覆锂离子导电材料而得的物质。

公开(公告)号：CN101796100B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN200880105797.4

申请日：2008-09-04

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 弓场智之 ,  富川真佐夫

IPC: C08G73/22 ,  C08G69/32 ,  G03F7/023 ,  G03F7/037

CPC classification number: G03F7/0233 ,  C08G69/00 ,  C08G77/70 ,  C08L77/10 ,  G03F7/037

Abstract: 一种聚酰胺的制造方法，是使下述通式(1)所示的二咪唑交酯化合物与下述通式(2)所示的二胺化合物进行反应的方法。本发明提供一种以简单工序制造不含氯的高分子量碱溶性聚酰胺的方法。

公开(公告)号：CN1782875B

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN200510128651.X

申请日：2005-11-23

Applicant: 东丽株式会社

Inventor： 谷口龙一郎 ,  弓场智之 ,  富川真佐夫

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/008

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/38

Abstract: 本发明涉及可以在碱性水溶液中显影，并且即使是厚膜，在分辨率、感光度、图形形状方面都很好的正型感光性树脂组合物。本发明的感光性树脂组合物，其特征为含有具有酚羟基的聚合物(a)，具有酚羟基，并且只含1个从羟甲基、烷氧基甲基中选择的基团的化合物(b)以及光敏产酸剂(c)。