蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物、使用其的基板的制造方法和发光元件的制造方法

    公开(公告)号:CN108700808B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN201780015983.8

    申请日:2017-03-17

    Abstract: 蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物,其是含有(A)以通式(1)所示的结构单元作为主成分的聚酰亚胺、和(B)光产酸剂的组合物,其特征在于,聚酰亚胺(A)的酰亚胺基当量为0.0025摩尔/g以上,[化学式1]#imgabs0#(1)在通式(1)中,R1表示碳原子数为2~50的二价的有机基团,R2表示碳原子数为2~50的三价或四价的有机基团,m1为0或1,c1为0或1,当m1=0时,c1=1,当m1=1时,c1=0。可提供蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物,所述蚀刻用掩蔽抗蚀剂组合物即使在形成100℃~300℃的高温下的高功率干法蚀刻处理中也不产生抗蚀剂燃烧、碳化,且即使在低温下进行抗蚀剂固化,也可得到高的蚀刻耐性,因此能够得到面内均匀性高的蓝宝石图案。

    树脂组合物
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108368259A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680074370.7

    申请日:2016-12-19

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够用作水系粘接剂、且具有充分的固合性的树脂。本发明是树脂组合物,其含有:a)树脂,所述树脂包含具有下述通式(1)~(3)中任一者所示的结构的聚合物和/或这些结构的共聚物、b)碱性化合物。(上述通式(1)中,R1表示碳原子数为4~30的2价~6价的有机基团;R2表示碳原子数为4~30的2价的有机基团;X表示磺酸基、羟基或羧基中,;pR表3表示示1碳~4的原子整数数为;n4表~3示0的2~21价00~,60价00的的有范机围基);团(上;R述4表通示式碳(2原)子示示数1碳~为4原的4子~整数30数的为;m24~价表30的示的有22~价机10~0基6,0价团00的;的Y有表范机示围基磺);团酸(;上基R述6、表羟通示基式碳或(3原)羧中子基,数;Rq为5表表4~30的2价的有机基团;Z表示磺酸基、羟基或羧基;r表示1~4的整数;l表示2~100,000的范围)。

    化学射线感应性聚合物组合物

    公开(公告)号:CN1154708C

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN98108433.8

    申请日:1998-05-15

    CPC classification number: G03F7/0387 C08G73/1025 G03F7/037

    Abstract: 一种化学射线感应性聚合物组合物,其特征在于,含有以下组成的组合物中,聚酰亚胺前体的酰亚胺化率Ia为0.03≤Ia≤0.6:(a)使具有光交联性基团的胺化合物与聚酰胺酸侧链的羧基相互作用而获得的聚酰亚胺前体,和(b)光引发剂和/或光敏感剂;该聚合物组合物具有粘度的时效稳定性和感光性能二者皆优良的特征。

    树脂、树脂组合物和使用它们的无纺布、纤维制品、隔板、二次电池和双电层电容器以及无纺布的制造方法

    公开(公告)号:CN110799559B

    公开(公告)日:2022-04-29

    申请号:CN201880044789.7

    申请日:2018-06-14

    Abstract: 本发明的课题在于提供通过电纺丝法可以制作细纤维直径的耐热性无纺布的树脂,本旨在于树脂,其具有选自下述通式(1)~(3)中的至少一个表示的结构,在主链的末端具有选自碳数为10以上的烷基和碳数为4以上的氟烷基中的至少1种,通式(1)中,X各自独立地表示单键或‑NR3‑,R1和R2各自独立地表示碳数为4~30的2价有机基团,R3表示氢原子或碳数为1~10的1价有机基团,通式(2)中,R4表示碳数为4~30的2价有机基团,R5表示碳数为4~30的4价有机基团,通式(3)中,R6表示碳数为4~30的2价有机基团,R7表示碳数为4~30的3价有机基团,l、m、n各自为0以上的整数,其中,l+m+n为10以上,另外,通式(1)~(3)所示的各结构不必连续地存在。

Patent Agency Ranking