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公开(公告)号：CN102053495A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN201010541116.8
申请日：2010-11-05
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含：树脂，该树脂包含衍生自由式(I)表示的化合物的结构单元，其中R1表示C1-C6含氟烷基，R2表示氢原子或甲基，并且A表示C1-C10二价饱和烃基，并且该树脂不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；以及由式(II)表示的酸生成剂，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，X1表示单键或C1-C17二价饱和烃基，在所述C1-C17二价饱和烃基中，一个或多个-CH2-可以被-O-或-CO-代替，Y1表示可以具有一个或多个取代基的C1-C36脂族烃基，等，并且Z+表示有机抗衡阳离子。
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公开(公告)号：CN102033426A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010291997.2
申请日：2010-09-21
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，其包含具有酸敏基团且不溶或难溶于碱性水溶液但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液中的树脂、产酸剂和式(I)表示的化合物：其中Z1表示C7-C20亚烷基、C3-C20二价饱和环基或通过结合至少一个C1-C6亚烷基与至少一个C3-C20二价饱和环基而形成的二价基团。
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公开(公告)号：CN101899027A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010188312.1
申请日：2010-05-25
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: C07D307/33 , C07D307/00 , G03F7/039 , G03F7/00
CPC classification number: C07D307/80 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。一种以式(I-AA)表示的盐，其中Q1和Q2各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，X1表示单键等，Y1表示C1-C36脂族烃基等，A1和A2各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar1表示可以具有一个或多个取代基的(m4+1)价C6-C20芳族烃基，B1表示单键等，m1和m2各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m1+m2+m3＝3，并且m4表示1至3的整数，以及一种光致抗蚀剂组合物，其含有以式(I-AA)表示的盐和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
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公开(公告)号：CN101393295A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200810160821.6
申请日：2008-09-16
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明涉及光学薄膜及其制造方法。光学薄膜，其是使组合物成膜再拉伸形成的，所述组合物包含分子内具有2个以上选自丙烯酰基和甲基丙烯酰基中的至少1种基团并具有式(A)所示基团的化合物。式(A)中，B1和B2分别独立地表示羟基、C1－6的烷基、C1－6的烷氧基或环氧丙氧基，X表示2价的烃基、硫醚基、磺酰基、醚键或单键，该烃基也可含－CO－O－，a1和a2分别独立地表示0～4的整数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101493541B
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：CN200910009724.1
申请日：2009-01-23
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , C08F283/00 , C08G18/32 , C08G18/40 , C08G18/28 , C08G18/72 , C08G18/83 , C08L75/04 , C08L33/10 , C08L33/12 , C08L39/04 , C08L25/08 , C08L33/08 , C08L33/26 , C08L33/02 , C08J5/18
Abstract: 一种光学膜及该光学膜的制造方法，所述光学膜含有具有如下结构单元的树脂，所述结构单元为：来自选自式(I)～式(VI)表示的单体中的1种以上的单体(1)的结构单元；和来自使具有脂环式烃骨架的多异氰酸酯化合物以及多元醇化合物反应而得到的化合物(2)的结构单元。
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公开(公告)号：CN102890416A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210251309.9
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包括由式(I)表示的结构单元的树脂，和酸生成剂，其中R1、A1、R2、Rb1、Rb2、Lb1、环Wb1、Rb3、Rb4、m和Z1+如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102890414A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210251271.5
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和具有酸不稳定基团的酸生成剂，其中R1、A1、A13、A14、X12如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102890413A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210251270.0
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。所述抗蚀剂组合物包含：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包括由式(I)表示的结构单元的树脂，和由式(II)表示的酸生成剂，其中R1、A1、R2、Q1和Q2、L1、环W、Rf1和Rf2、n和Z+如说明书中限定。
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公开(公告)号：CN102890411A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201210251267.9
申请日：2012-07-19
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明公开了抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，酸生成剂，和由式(II)表示的化合物，其中R1、A1、A13、A14、X12、R23和环W21如说明书中限定。
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