波导结构及其形成方法
    42.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113703090B

    公开(公告)日:2023-09-26

    申请号:CN202110260108.4

    申请日:2021-03-10

    IPC分类号: G02B6/10 H04J14/02

    摘要: 本发明实施例涉及一种波导结构及其形成方法。根据本发明的一些实施例,提供一种光学衰减结构。所述光学衰减结构包含衬底、波导、掺杂区、光学衰减部件及电介质层。所述波导在所述衬底上方延伸。所述掺杂区放置于所述衬底上方,且包含第一掺杂区、与所述第一掺杂区相对且通过所述波导与所述第一掺杂区分离的第二掺杂区、在所述衬底上方及在所述第一掺杂区中延伸的第一电极及在所述衬底上方及在所述第二掺杂区中延伸的第二电极。所述第一光学衰减部件与所述波导耦合且放置于所述波导与所述第一电极之间。所述电介质层放置于所述衬底上方且覆盖所述波导、所述掺杂区及所述第一光学衰减部件。

    封装件结构、封装件及其形成方法

    公开(公告)号:CN114975377A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210172663.6

    申请日:2022-02-24

    发明人: 郭丰维 廖文翔

    摘要: 本发明的实施例提供了一种封装件结构、封装件及其形成方法。封装件结构包括第一管芯,位于第一管芯上方并且电连接到第一管芯的第二管芯,在第二管芯周围的绝缘材料,延伸穿过绝缘材料并电连接到第二管芯的第一天线,第一天线与第二管芯的第一侧壁相邻,其中第一天线包括延伸穿过绝缘材料的第一导电板以及延伸穿过绝缘材料的多个第一导电柱,其中第一导电板位于多个第一导电柱和第二管芯的第一侧壁之间。

    极化无关的光电装置
    44.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111123445B

    公开(公告)日:2022-05-03

    申请号:CN201910216017.3

    申请日:2019-03-21

    IPC分类号: G02B6/42

    摘要: 本发明公开一种极化无关的光电装置。所述装置包含散射结构以及收集结构。散射结构布置成沿第一散射轴以及沿第二散射轴同时对入射电磁辐射进行散射。第一散射轴与第二散射轴非正交。收集结构收集散射的电磁辐射且包含与第一散射轴对准的第一输入端口以及与第二散射轴对准的第二输入端口。

    波导结构及其形成方法
    45.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113703090A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202110260108.4

    申请日:2021-03-10

    IPC分类号: G02B6/10 H04J14/02

    摘要: 本发明实施例涉及一种波导结构及其形成方法。根据本发明的一些实施例,提供一种光学衰减结构。所述光学衰减结构包含衬底、波导、掺杂区、光学衰减部件及电介质层。所述波导在所述衬底上方延伸。所述掺杂区放置于所述衬底上方,且包含第一掺杂区、与所述第一掺杂区相对且通过所述波导与所述第一掺杂区分离的第二掺杂区、在所述衬底上方及在所述第一掺杂区中延伸的第一电极及在所述衬底上方及在所述第二掺杂区中延伸的第二电极。所述第一光学衰减部件与所述波导耦合且放置于所述波导与所述第一电极之间。所述电介质层放置于所述衬底上方且覆盖所述波导、所述掺杂区及所述第一光学衰减部件。

    半导体结构及其制造方法
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113206066A

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN202110406457.2

    申请日:2021-04-15

    发明人: 郭丰维 廖文翔

    摘要: 本发明实施例涉及一种半导体结构及其制造方法。该半导体结构包含第一重布结构,其中所述第一重布结构包含第一导电图案。所述半导体结构进一步包含所述第一重布结构上的裸片。所述半导体结构进一步包含所述第一重布结构上的模制件,其中所述模制件包围所述裸片,且所述模制件具有第一介电常数。所述半导体结构进一步包含延伸穿过所述模制件的电介质部件,其中所述电介质部件具有不同于所述第一介电常数的第二介电常数。所述半导体结构进一步包含所述裸片、所述电介质部件及所述模制件上的第二重布结构,其中所述第二重布层包含所述电介质部件上的天线,且所述天线电连接到所述裸片。

    半导体装置以及用于产生其布局图的方法及系统

    公开(公告)号:CN112987174A

    公开(公告)日:2021-06-18

    申请号:CN202011082984.4

    申请日:2020-10-12

    IPC分类号: G02B6/122 G02F1/01 H01S5/00

    摘要: 一种半导体装置包括:晶体管层,包括至少一个晶体管的组件、具有在第一方向上延伸的长轴的波导以及在所述波导之上的第一内连层;由金属化层形成的堆叠,在所述晶体管层之上,所述堆叠包括一个或多个第二内连层,所述一个或多个第二内连层夹置在所述金属化层中对应的成对的相邻金属化层之间;以及加热器,在所述第一内连层中或者在所述一个或多个第二内连层之一中;且其中相对于与所述第一方向实质上垂直的第二方向而言,所述加热器与所述波导的至少一部分实质上交叠。