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公开(公告)号：CN100493846C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200710157005.5
申请日：2007-11-20
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种修整可控型超精密抛光机，包括机座、抛光盘、抛光盘驱动电机、测速机构、智能控制平台、修整环、直线导轨、往复运动驱动机构、径向移动驱动电机以及旋转驱动电机，基座上安装支架板，支架板安装基盘保持架，两根直线导轨水平安装在支架板的下方，径向移动驱动电机安装在支架板上，径向移动驱动电机与往复运动驱动机构传动连接，往复运动驱动机构可水平滑动地套装在直线导轨上，修整环安装在往复运动驱动机构的下方，旋转驱动电机与往复运动驱动机构固定连接，旋转驱动电机的输出轴与修整环传动连接，修整环位于抛光盘的基盘覆盖以外区域的上方。本发明实现在线修整抛光垫的平面精度、使加工周期缩短、加工后的工件表面具有良好的均匀度。
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公开(公告)号：CN100393477C
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200410066805.2
申请日：2004-09-29
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24D17/00
Abstract: 一种被动式气囊压控柔性抛光工具，所述的抛光工具包括一气囊、所述的气囊前端有抛光布作为工作面，所述的气囊安装在一保持架内；所述的保持架安装在一转动轴上，所述的转动轴套接一套管，所述的套管与所述的转动轴气密连接，所述的套管上开有外气源入口、溢流阀；套管内的转动轴上开有气流通道，所述的气流通道与所述的气囊连通。本发明提供一种抛光效率高、抛光品质高、便于实现在线控制、便于进行局域形面精密修正的被动式气囊压控模具曲面柔性抛光工具。
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公开(公告)号：CN101134294A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710071326.3
申请日：2007-09-21
Abstract: 一种球形零件的固着磨料研磨方法，包括以下步骤：(1)固着磨料的配制：固着磨料包括高硬度自锐性磨粒、固化剂及填充剂，其质量百分含量分别为高硬度自锐性磨粒80％～90％，固化剂2％～5％，填充剂7％～15％，将高硬度自锐性磨粒、固化剂、添加剂混合，搅拌均匀，过筛并加水混合；(2)将配置好的固着磨料涂敷到研磨机的研磨盘上，并固化成型；(3)将待加工的球形零件放置在研磨机的上下研磨盘之间，启动研磨机，球形零件的表面被磨料的高硬度自锐性磨粒划过，实现对球形零件的表面的研磨。本发明工速度较快、加工效率高、降低生产成本。
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公开(公告)号：CN112108944B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202010843765.7
申请日：2020-08-20
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 一种半球谐振子流道约束‑剪切流变抛光方法，包括以下步骤：(1)制备具有剪切流变效应的非牛顿流体抛光液，加入抛光液站；(2)将半球谐振子通过夹具转接到抛光机工件主轴上，调整半球谐振子回转轴线与工件主轴回转轴线同轴；(3)调整抛光头球面与半球谐振子球面同心，启动抛光液循环系统；(4)启动工件主轴，使抛光头相对半球谐振子做相对转动，抛光液在约束流道、抛光头‑谐振子表面间隙形成两个剪切流变流场，控制抛光液流速及工件主轴转速实现半球谐振子高效抛光。以及提供一种半球谐振子流道约束‑剪切流变抛光装置。本发明能够在保持半球谐振子磨削面形精度的前提下，高效去除磨削表面损伤层，实现高效、高质量抛光。
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公开(公告)号：CN119526236A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202510028791.7
申请日：2025-01-08
Applicant: 浙江工业大学 , 杭州智谷精工有限公司
Abstract: 本发明公开了基于结构化表面抛光工具的非接触式抛光装置，包括工作平台；工作平台上对应设有工件夹持驱动组件和抛光液增压组件；抛光液增压组件包括对应设于工件夹具下方的结构化表面抛光工具；结构化表面抛光工具为槽型结构，其底部呈外高内低的锥面状，且锥面上成组设有呈放射状分布的拨杆；工作时，结构化表面抛光工具中的抛光液能够在离心力和拨杆的协同作用下，向抛光工具驱动装置边缘分散，提高抛光液作用于待加工工件表面的压力。加工过程中，抛光液在工件表面形成连续流场，进而力流变抛光液对待加工工件表面产生剪切应力，使工件表面材料得到均匀的去除，结构化表面抛光工具使力流变抛光液作用于工件表面的压力得到提高，提高抛光效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118442935A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410152449.3
申请日：2024-02-03
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了石英玻璃刻蚀深度实时检测装置及检测方法；所述实时检测装置包括刻蚀液盛放容器、激光发射装置、光电检测器和计算机控制系统，其基于光反射原理，并根据数学几何关系推导，可以对待测工件的刻蚀深度进行实时检测，检测准确便捷。检测时，将待检测的工件浸入刻蚀液盛放容器内的刻蚀液中，并通过工件夹持机构夹紧固定；刻蚀液对工件进行刻蚀，激光发射装置发射激光，激光在工件表面反射后最终会射到光电检测器上；数据采集卡采集激光在光电检测器上的位置信息并发送至计算机控制系统，由计算机控制系统通过数学关系推导，将对应的工件刻蚀深度计算出来；在整个刻蚀过程中，通过不断调整激光的发射角度，即可获得工件的实时刻蚀深度。
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公开(公告)号：CN117584297A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311851689.4
申请日：2023-12-29
Applicant: 杭州科技职业技术学院 , 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种碳化硅晶片加工切割设备，属于碳化硅晶片加工技术领域。包括引导单元和加工单元，将需要进行加工的碳化硅晶片由外凸出承接机构的三组分料机构上，此时碳化硅晶片能够沿着引导板的上端面向串联条处滑动，工作人员能够放置在垂直横向排列的三组不同引导板上方，不同高度的引导板运料最终抵达位置均不同，从而能够对不同加工需求的碳化硅晶片进行分类处理，因设置的边缘槽与第一支架形成的间隔位置对碳化硅晶片进行稳定夹持，此时碳化硅晶片正好受到第一支架的两面夹持，另一端受到边缘槽的上下两端边角处进行夹持，待分割一侧贯穿通过边缘槽后进入切割箱的内腔，使碳化硅晶片受到多方夹持保持其在受分割状态下的稳定性。
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公开(公告)号：CN117325075A
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202311365242.6
申请日：2023-10-20
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B37/025 , B24B37/34
Abstract: 本发明公开了微小球四轴研磨上下料装置，包括安装箱；安装箱包括箱体和箱盖；箱体中设有升降装置；升降装置的顶部连接有升降杆；升降杆为空心结构，升降杆的侧面设有空心凸台；空心凸台上连接有导气软管，导气软管的另一端伸出所述箱体能够与外部抽气设备相连接；箱体的顶部设有通孔，升降杆能够在升降装置的驱动下经过通孔伸出箱体；升降杆的上端直径D小于待加工球坯的直径；升降装置能够通过其控制线与外部电脑相连接。本发明微小球四轴研磨上下料装置通过特定的结构，与四轴球体研磨机配套使用，可实现微小球体上下料操作，使得四轴球体研磨机能够对0.9‑2.5mm直径的微小球体进行加工研磨。此外，本发明还提供了微小球四轴研磨上下料方法。
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公开(公告)号：CN117260461A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311261639.0
申请日：2023-09-27
Applicant: 浙江工业大学
IPC: B24B13/00 , B24B13/005 , B24B57/02 , B24B53/02 , B24B53/12 , B24B55/06 , B24B55/00 , B24B47/12 , B08B3/12
Abstract: 一种平面抛光装置，包括机架和转动连接于机架上的抛光机，所述机架上设有抛光台和超声清洗台，抛光台和超声清洗台设置于抛光机相对两侧；所述抛光机输出端设有用于放置待抛光件的载物盘；所述抛光台内转动设有旋转件，旋转件上设置有与载物盘相配合的加热盘，机架内设有与旋转件相连接的传动机构；所述机架上还设有用于清洗抛光台的修整环固定机构，机架的一侧设有与抛光台相连通的滴料机构；与现有技术相比，使得加热、清洗和抛光均在同一装置中完成，避免了在抛光过程中将待抛光件更换处理设备，提高了待抛光件的抛光效率，同时加热、清洗和抛光等步骤均在一个装置中，进而减小了装置的占地面积。
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公开(公告)号：CN116674087A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202310803210.3
申请日：2023-07-03
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明属于复合磨料制备领域，具体涉及一种热塑法制备柔性复合磨料的装置，其包括用于支撑整个装置的底座、用于对复合磨料搅拌以及加热以使复合磨料分散均匀的搅拌加热模块、将经过搅拌加热的复合磨料进一步结合的滚压模块和用于进料以及出料的上下料模块。本装置可以通过物理方式制备复合磨料，可实现大批量生产，外加滚压机可加固复合磨料的结合，可制备毫米级颗粒的磨料，并将机械搅拌加热与滚压机整合在一个装置里面，操作简单。
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