光调制装置
    45.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1042368C

    公开(公告)日:1999-03-03

    申请号:CN94190477.6

    申请日:1994-07-07

    Abstract: 具有基板4、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导5、在基板4上从入射光波导5分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的2个位相偏移光波导6和在基板4上把位相偏移光波导6合流形成的出射光波导7。位相偏移光波导6中至少一边具有使偏振反向的偏振反向部分8。也可以具有在位相偏移光波导6的一部分或多个部分的区域形成的光透过膜。也可具有在位相偏移光波导6上或其附近的一部分区域形成的缓冲层14。也可以在没有缓冲层14的区域的一部分或全部形成的向位相偏移光波导6施加应力的透明物质膜。也可具有向位相偏移光波导6之一的一部分施加应力的应力施加部件。也可以具有向位相偏移光波导6之一的一部分或全部照射光的光照射装置26。

    声光器件
    46.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1206118A

    公开(公告)日:1999-01-27

    申请号:CN98115582.0

    申请日:1998-07-02

    CPC classification number: G02F1/125 G02F2201/07

    Abstract: 一种声光器件,包括:形成在声光衬底上的光波导路径;换能器,它横跨光波导路径,且沿着此光波导路径传播一个声表面波;和缓冲层,它使换能器的指状电极在指状电极横跨光波导路径的交叉部分与光波导路径分隔开;指状电极还有直接地接触衬底的其他部分。

    光调制装置
    47.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1111919A

    公开(公告)日:1995-11-15

    申请号:CN94190477.6

    申请日:1994-07-07

    Abstract: 具有基板4、在该基板上形成的用于入射光的入射光波导5、在基板4上从入射光波导5分支形成的透过光的位相随电场的强度变化的2个位相偏移光波导6和在基板4上把位相偏移光波导6合流形成的出射光波导7。位相偏移光波导6中至少一边具有使偏振反向的偏振反向部分8。也可以具有在位相偏移光波导6的一部分或多个部分的区域形成的光透过膜。也可具有在位相偏移光波导6上或其附近的一部分区域形成的缓冲层14。也可以在没有缓冲层14的区域的一部分或全部形成的向位相偏移光波导6施加应力的透明物质膜。也可具有向位相偏移光波导6之一的一部分施加应力的应力施加部件。也可以具有向位相偏移光波导6之一的一部分或全部照射光的光照射装置26。1)、驱动臂(12)及四杆机构。

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