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公开(公告)号：CN116086774A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310011310.2
申请日：2023-01-05
IPC: G01M11/02
Abstract: 本申请涉及一种二维环形光斑的质量检测方法、装置和存储介质，其中，该二维环形光斑的质量检测方法包括：获取待检测的二维环形光斑的光强信息；根据光强信息确定二维环形光斑在检测线上的光强变化趋势，检测线包括自二维环形光斑的圆心向一侧延伸的射线；根据光强变化趋势确定二维环形光斑的质量。通过本申请，首先获取待检测的二维环形光斑的光强信息，然后确定二维环形光斑在至少一条检测线上的光强变化趋势。二维环形光斑内侧的光强降低速率越快，则其质量越好，也就越适合作为抑制光。解决了相关技术中存在无法有效地筛选出刻写效果好的二维环形光斑的问题。
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公开(公告)号：CN112904526B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202110082908.1
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
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公开(公告)号：CN115781583A
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202310087101.6
申请日：2023-02-09
Abstract: 本发明公开了一种共聚焦内窥探头的装配方法及装置，使用镜面定位仪对微小距离进行微距的准确定位，本装配方法中所独特设计的多段式的保护套结构，完美配合本发明的装配流程，在保护内部光纤束和GRIN透镜的同时，实现对其位置的固定，并且可以实现屏蔽外部光信号干扰的功能，使本发明的共聚焦内窥探头的装配方法更具可行性和实用性。自主探索了微小镜头的设计与装配工艺，开发了一套完整的微小镜头装配流程，达到1.07μm的横向分辨率，整体成像视场达到230μm，能够紧贴样品表面进行成像，有利于实现对病变组织的细胞级成像。为后续侧向、红外大深度的镜头设计装配打下基础，有利于实现核心元器件的国产化，降低医疗设备成本，提升国民医疗水平。
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公开(公告)号：CN114721233B
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202210643609.5
申请日：2022-06-09
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤器件的光场生成装置及单波长超分辨光刻系统，将单一飞秒光源输出光分为两路，其中一路通过元器件的色散将激光脉冲宽度展宽至皮秒量级，另一路通过引入色散补偿模块使激光脉冲宽度保持在飞秒量级。通过光纤模式选择耦合器的调制，将飞秒脉冲激光调制为高斯型激发光，并将皮秒脉冲激光调制为环形抑制光。通过输出的组合光斑和光刻胶的特性，使光刻的最小特征尺寸缩减到衍射极限以下。由于采用同一波长不同脉冲宽度的激光作为激发光和抑制光，避免了由于系统中元器件色差引起的光斑不重合等问题。本发明通过配合光刻胶特性实现突破衍射极限的高精度刻写，整个系统结构简单，抗外界干扰能力强。
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公开(公告)号：CN114371148B
公开(公告)日：2022-11-08
申请号：CN202210057225.5
申请日：2022-01-19
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于零椭偏暗场照明的散射干涉成像系统及方法，包括照明光路，探测光路和参考光路，所述照明光路的入射端设置有被检测样品，所述探测光路的发射端设置有被检测样品，所述参考光路的入射端设置有所述探测光路；所述照明光路和所述探测光路的连接处设置有零椭偏模块，所述零椭偏模块的一端与照明光路连接，所述零椭偏模块的另一端与探测光路连接。本发明通过照明光路与探测光路的非共路设计，实现对背景杂散光的有效抑制，降低检测系统对探测物镜数值孔径的依赖；同时，结合干涉探测的优势，实现对被检测样品表面小尺寸特征的宽视场高灵敏检测能力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114415482B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
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公开(公告)号：CN114488513A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210130711.5
申请日：2022-02-12
Applicant: 之江实验室
IPC: G02B23/24
Abstract: 本发明公开了一种全矢量调制的单光纤高信噪比三维成像方法及装置，包括激光器、空间光调制器、偏振调制模块、正交偏振显微模块等。激光器产生的激发光经由空间光调制器及偏振调制模块后实现相位、偏振、振幅任意可控的光场。入射光纤后，通过正交偏振显微模块，重建得到全矢量传输矩阵。对传输矩阵数值处理来补偿长距离大曲率多模光纤中的模式耦合、模式损耗及偏振色散。并通过在光纤出射端的虚拟频率域添加传播因子来得到高信噪比的轴向扫描，兼具了高信噪比高分辨率大深度成像，使得可以在生物医学方面得到广泛应用。
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公开(公告)号：CN114185246B
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202210143737.3
申请日：2022-02-17
Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度；进一步的，所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01，减小了激光在光刻胶中的相差或球差，从而进一步提高飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体，不仅具有较高的直写精度，还有较低的直写阈值和体积收缩率。
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公开(公告)号：CN113059807B
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202110293324.9
申请日：2021-03-18
IPC: B29C64/264 , B29C64/20 , B29C64/10 , B33Y30/00 , B33Y10/00
Abstract: 本发明公开一种基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置。该方法将连续光整形及分束后，得到两束相同的准直激光光片，并对称入射在样品池中完全重叠为一个均匀光薄片，该光薄片区域引发剂被激发到活性态，通过另一束宽带光照射活性态引发剂可引发聚合反应，该宽带光从正交方向入射到光薄片，避免了聚合反应的累积效应，可获得高洁净度的刻写结构，光薄片未被宽带光照射的区域不发生聚合反应，宽带光光场结构高速切换，可进行任意结构的刻写，宽带光在活性薄片中实现时空同步聚焦，轴向功率梯度大，具有高轴向分辨率。该方法与装置可实现高洁净度高轴向分辨率的三维复杂结构高通量刻写，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN112034626B
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202010863942.8
申请日：2020-08-25
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种高通量3D暗斑生成装置，并行光束阵列通过横向高通量暗斑阵列的器件后，每束光被调制为涡旋相位光，聚焦后形成横向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成横向暗斑阵列；并行光束阵列通过纵向高通量暗斑阵列的器件后，每束光都被调制为0‑π相位分布，每束光聚焦后形成纵向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成纵向暗斑阵列；将两种光束进行合束，聚焦后两种光斑进行非相干叠加，形成高通量3D暗斑阵列。本发明可提供稳定的高质量高通量3D暗斑阵列；且器件成本低，体积小，可以实现系统的高度集成；可用于实现并行双光束激光直写和并行受激发射损耗显微成像，极大的提升加工和成像速度。
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