一种半球谐振子永磁小球头磁流变抛光加工辅助装置及加工方法

    公开(公告)号:CN117754367A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202410124622.9

    申请日:2024-01-29

    Abstract: 本发明提供了一种半球谐振子永磁小球头磁流变抛光加工辅助装置及加工方法,涉及超精密抛光加工技术领域,为解决现有装置结构冗杂、操作复杂、难以避免磁流变抛光液在软管循环过程中的沉积的问题。包括:存储搅拌加热箱、补水装置和控制箱,存储搅拌加热箱靠近工件主轴的侧壁开设有轴孔,加工机床的工件主轴的末端贯穿轴孔延伸至存储搅拌加热箱内部,机床的工具主轴从存储搅拌加热箱的上端开口方延伸至存储搅拌加热箱内部;所述存储搅拌加热箱设有电热丝、搅拌组件和电机,电机用于带动搅拌组件的转动,电热丝设置于存储搅拌加热箱侧壁的夹层中,所述控制箱安装于龙门架上;补水装置用于向存储搅拌加热箱中补充加工过程抛光液的流失的水分。

    一种基于圆柱形回转工件材料体积去除率的永磁小球头磁流变抛光加工时间预测方法

    公开(公告)号:CN116910832B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202310750362.1

    申请日:2023-06-25

    Abstract: 本发明一种基于圆柱形回转工件材料体积去除率的永磁小球头磁流变抛光加工时间预测方法,涉及超精密加工技术领域,为解决现有方法无法满足永磁小球头磁流变抛光的材料体积去除率精度需求,无法实现抛光加工时间的准确预测的问题。包括如下步骤:按照选定的抛光工艺参数,在圆柱形回转工件的侧壁表面上进行抛光,得到环绕工件侧壁的环形抛光凹槽;沿圆柱形工件的轴线方向提取抛光凹槽的二维截面轮廓;采用微元法构建材料去除体积计算模型,结合抛光时间,计算工件材料体积去除率;建立待加工工件模型,计算选定抛光工艺参数下待加工工件完成抛光的加工时间。本发明基于微元法计算圆柱形回转工件材料体积去除率,对加工时间进行预测,准确性更高。

    一种基于时频分析的半球谐振子表面形貌特征提取与评价方法

    公开(公告)号:CN117668530A

    公开(公告)日:2024-03-08

    申请号:CN202311673047.X

    申请日:2023-12-07

    Abstract: 本发明提供一种基于时频分析的半球谐振子表面形貌特征提取与评价方法,涉及超精密加工技术领域,为解决现有技术无法针对特定缺陷进行影响因素分析,同时无法确定不同因素对缺陷影响的大小的问题。本发明采用小波基函数对半球谐振子表面形貌信号进行小波分解,对于信号的不同频率部分,改变尺度值,在时间轴上对信号进行压缩和伸展,获取信号的不同频率成分,得到一系列的小波系数,利用小波系数和小波基函数对信号进行重构,得到多尺度二维小波重构信号,进一步获取半球谐振子表面形貌的典型频率特征,对各信号影响半球谐振子表面形貌的贡献进行分析,确定影响半球谐振子表面形貌的因素。本发明可揭示半球谐振子表面特定缺陷特征的主要来源。

    一种考虑装夹变形的微球靶铣削加工机床几何误差建模方法

    公开(公告)号:CN117420791A

    公开(公告)日:2024-01-19

    申请号:CN202311592089.0

    申请日:2023-11-27

    Abstract: 本发明提供了一种考虑装夹变形的微球靶铣削加工机床几何误差建模方法,涉及高精度加工机床误差分析技术领域,为解决现有方法建模过程较为复杂,模型简化难度较大,未考虑工件装夹变形的影响,模型精度低的问题。包括如下步骤:S1、根据刚体理论和多体系统理论构建微球靶铣削加工机床几何误差模型,采用齐次坐标变换矩阵对机床相邻拓扑结构间的位姿转换关系进行表征,对机床的几何误差进行求解;S2、构建微球靶装夹变形模型,并对微球靶的装夹变形进行求解;S3、构建考虑装夹变形的微球靶铣削加工机床几何误差模型,对考虑装夹变形时微球靶铣削加工机床几何误差进行求解。本发明模型具有较高的精度,可进一步提高机床加工精度。

    一种小直径球头砂轮三维形貌在位重构方法及系统

    公开(公告)号:CN117372614A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311333940.8

    申请日:2023-10-16

    Abstract: 本发明提供一种小直径球头砂轮三维形貌在位重构方法及系统,涉及超精密加工技术领域,为解决现有的球头砂轮形貌在位检测方法,建模繁琐、计算量大、准确度受到限制的问题。包括:S1、搭建激光位移传感器数据采样系统;S2、在球头砂轮转动状态下,对其径向与激光位移传感器的相对距离数据进行采集;S3、基于不同配准角下球头砂轮与激光位移传感器的相对距离之差,建立球头砂轮圆周轮廓的变换规律模型,采用特殊点代入的方式对球头砂轮圆周轮廓形貌进行求解;S4、控制加工机床使球头砂轮沿轴向移动位移S,重复执行步骤S2~S3,至球头砂轮待重构区域采样完成;S5、对不同圆周的球头砂轮形貌进行平滑连接,得到小直径球头砂轮三维形貌的重构结果。

    一种碱性-耐热-多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN117343646A

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN202311277137.7

    申请日:2023-10-07

    Abstract: 本发明一种碱性‑耐热‑多尺寸磨粒磁流变抛光液及其制备方法,涉及超精密加工技术领域,为解决现有磁流变抛光液大都稳定性较差,较高温度下固体颗粒易发生沉降,且磁流变抛光液的磨粒大都为单一种类和尺寸,限制材料去除率的进一步提升。该磁流变抛光液按质量份数包括:去离子水26~30份、悬浮稳定剂0.1~0.15份、碱性化学物质1.2~1.5份、小尺寸磨粒1~1.5份、大尺寸磨粒4~4.5份、磁性颗粒64~68份;所述悬浮稳定剂为羟丙基甲基纤维素,所述碱性化学物质为氢氧化钠,所述小尺寸磨粒为金刚石粉末,所述大尺寸磨粒为氧化铈粉末,所述磁性颗粒为羟基铁粉。本发明磁流变抛光液提升了材料去除率,提高石英玻璃元件的抛光效率;并进一步降低抛光粗糙度,有利于加工出高质量表面。

    一种紫外光学元件加工表面微区电子缺陷能级确定方法

    公开(公告)号:CN114235822B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202111621696.6

    申请日:2021-12-28

    Abstract: 一种紫外光学元件加工表面微区电子缺陷能级确定方法,属于工程光学领域,本发明为解决现有技术中缺乏一种简单、可靠的微区电子缺陷能级确定方法的问题,本发明方法具体按如下步骤进行:步骤一、获取紫外光学元件表面微区微缺陷在不同激发光波长下的稳态荧光光谱,选取荧光强度最高的峰值位置,确定其所处的能级为第一电子缺陷能级;步骤二、根据稳态荧光光谱荧光峰值强度的高低进行排序,强度排第N的荧光峰值则对应第N电子缺陷能级;步骤三、确定导带的荧光峰波段出现荧光信号时的激发光波长,根据该波长对应的单光子能量确定导带的位置;步骤四、紫外光学元件加工表面微区电子缺陷能级电子衰减寿命的确定。

    一种基于频率裂解的半球谐振子加工误差标准制定方法

    公开(公告)号:CN114139301B

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202111273583.1

    申请日:2021-10-29

    Abstract: 一种基于频率裂解的半球谐振子加工误差标准制定方法,涉及半球谐振子加工误差技术领域,用以解决现有技术没有基于频率裂解角度制定半球谐振子的加工误差标准以提高其工作精度的问题。本发明使用有限元分析软件建立半球谐振子仿真三维模型,设置模型边界条件为支撑杆的上、下表面的固定约束,采用极细化的自由四面体网格进行有限元网格划分,获得半球谐振子工作的第一工作频率和第二工作频率,并将第一工作频率和第二工作频率作差得到频率裂解值,从而获得多个加工误差对频率裂解影响仿真结果;分别对每个加工误差对频率裂解影响仿真结果进行分析,最终获得半球谐振子加工误差标准。本发明提高了半球谐振子的加工精度,且兼顾加工效率与工作性能。

    一种低缺陷AlSi10Mg合金直接能量沉积增材制造方法

    公开(公告)号:CN116441560A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310249811.4

    申请日:2023-03-15

    Abstract: 本发明提供一种低缺陷AlSi10Mg合金直接能量沉积增材制造方法,属于激光金属增材制造领域,为解决现有的采用直接能量沉积技术制造AlSi10Mg合金孔隙率较高的问题。本发明方法包括加工材料预处理与营造加工环境、基材预热处理、第一层沉积层加工、吹粉与层间冷却、沉积层加工表面预热和下一层沉积层加工过程,进行多层沉积,至待加工零件沉积至预定高度,完成加工。本发明通过采用往复扫描、层间冷却、层间偏移、激光扫描预热的方式,在一定加工参数范围内,有效的防止沉积层塌陷、降低沉积层孔隙率,提高直接能量沉积激光增材制造AlSi10Mg产品的力学性能。

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