一种软磁不锈钢电化学抛光的溶液及方法

    公开(公告)号:CN102409390B

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201110406973.1

    申请日:2011-12-08

    发明人: 方刚 祝恒阳

    IPC分类号: C25F3/24

    摘要: 本发明公开了一种软磁不锈钢电化学抛光的溶液及方法,溶液包括以下组份混合:磷酸:820-1000重量份;硫酸:280-360重量份;三氧化二铬:8-10重量份;磷酸钠:30-50重量份;柠檬酸:80-100重量份;Triton X-100:2-5重量份;硫酸铜:0-270重量份;水:125-300重量份。该溶液稳定易操作,参数范围宽,使用周期长。通过合理设计电化学抛光溶液成分、配比以及电化学抛光工艺参数,很好地实现了软磁不锈钢表面的电化学抛光,效果要明显优于传统的抛光方法,根据软磁不锈钢抛光前的表面状况,最高可以达到镜面效果。

    一种腔室气流控制系统及方法

    公开(公告)号:CN103041660B

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201210556490.4

    申请日:2012-12-20

    发明人: 张明 徐俊成 马嘉

    IPC分类号: B01D46/46

    摘要: 本发明公开了半导体制造技术领域,特别涉及一种腔室气流控制系统及方法。本发明包括PCC控制器和至少一个腔室控制单元;腔室控制单元包括压力传感器、风机过滤器、和所述风机过滤器连接的状态检测单元、与所述压力传感器、风机过滤器和状态检测单元连接的数据处理单元、和所述数据处理单元连接的数据传输单元。本发明能够对腔室内的气体压力进行实时控制,使得腔室内的气体压力维持在设定值。

    用于运动管件和固定平板连接处的密封装置

    公开(公告)号:CN102829182B

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN201210283209.4

    申请日:2012-08-09

    IPC分类号: F16J15/16

    摘要: 本发明涉及一种密封装置,公开了一种用于运动管件和固定平板连接处的密封装置。所述运动管件可相对固定平板旋转和/或上下滑动,该密封装置包括上轴套和下轴套,所述上轴套和下轴套分别套在所述运动管件的管壁上;下轴套下端与所述固定平板连接,下轴套上部位于上轴套下部的内部;上轴套上端与所述运动管件连接。本发明采用上轴套和下轴套对运动管件和固定平板的连接处进行封闭,一方面避免运动管件中喷出的液体从该连接处进入其它腔室,另一方面保证运动管件的顺利运动;进一步地,在上轴套上部的内壁和下轴套下部的外壁之间的间隙中设有滚珠固定架和滚珠,可有效保证运动管件与固定平板的垂直度。

    旋转薄片盘状物夹持装置
    64.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102709224B

    公开(公告)日:2015-01-14

    申请号:CN201210208778.2

    申请日:2012-06-19

    发明人: 王浩

    IPC分类号: H01L21/687

    摘要: 本发明涉及半导体技术领域的夹持装置,具体公开了一种旋转薄片盘状物夹持装置,包括旋转丝杠、竖直升降块、水平移动块、顶部固定块、卡爪和水平滑动轨道,其中,所述卡爪安装在所述水平移动块上,所述水平移动块安装在所述水平滑动轨道上,所述竖直升降块和顶部固定块安装在旋转丝杠上,所述水平滑动轨道安装在所述顶部固定块上。本发明利用刚性力和局部柔性力相结合的方式来克服高速旋转时卡爪产生的向心力和离心力对夹紧薄片盘状物状态的影响,保证卡爪能够以一个稳定理想范围的夹紧力夹紧薄片盘状物,不会造成高速旋转的薄片盘状物飞出或者被夹碎的现象出现。

    用于主轴低速旋转的气体密封装置

    公开(公告)号:CN102996650B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201210489339.3

    申请日:2012-11-26

    发明人: 王浩

    IPC分类号: F16C33/76

    摘要: 本发明涉及气体密封技术领域,特别涉及一种用于主轴低速旋转的气体密封装置。该装置包括主轴及与其连接的轴承,所述轴承固定在通气轴承座上,所述轴承与所述主轴密封连接,所述轴承的内圈端面密封连接有沿所述轴承内圈圆周方向的圆环形密封环,所述通气轴承座上相应的设置有圆环形油脂槽,所述圆环形油脂槽中填充油脂,所述圆环形密封环浸入在所述油脂中并在驱动装置的带动下使圆环形密封环在圆环形油脂槽中转动。本发明提供一种用于主轴低速旋转的气体密封装置,其能够有效解决主轴低速旋转的气体密封的问题,保证不漏气;并且不会产生大量杂质和油液对工艺环境造成破坏,保证工艺环境的洁净。

    立式扩散炉电器控制系统及控制方法

    公开(公告)号:CN102534803B

    公开(公告)日:2014-11-19

    申请号:CN201210001182.5

    申请日:2012-01-04

    IPC分类号: C30B31/18 H01L31/18

    CPC分类号: Y02P70/521

    摘要: 本发明公开了一种立式扩散炉电器控制系统及控制方法,涉及半导体生产技术领域,所述系统包括:中心控制模块,用于根据传输模块和工艺模块发送来的状态信息,对所述传输模块和工艺模块进行控制;所述传输模块,用于控制硅片的传输,记录硅片的状态信息,并将所述硅片的状态信息发送至所述中心控制模块;所述工艺模块,用于根据工艺需求,控制硅片在工艺过程中所需要的温度、气体和气压。本发明通过提出一种新型的立式扩散炉电器控制系统内部的构架,提高了设备自动化程度,同时提高设备运行的可靠性。

    一种太阳能电池的双面扩散方法

    公开(公告)号:CN104143589A

    公开(公告)日:2014-11-12

    申请号:CN201410376746.2

    申请日:2014-08-01

    IPC分类号: H01L31/18 H01L21/223

    摘要: 本发明的一种太阳能电池的双面扩散方法,包括:将两个晶圆的背面相对贴合放置在晶舟中;对两个晶圆的正面进行第一掺杂元素扩散,在晶圆正面形成第一扩散层,同时在晶圆背面和边缘形成第一杂质层;去除第一杂质层;将两个晶圆的正面相对贴合放置在晶舟中;对两个晶圆的背面进行第二掺杂元素扩散,在晶圆背面形成第二扩散层,同时在晶圆正面和边缘形成第二杂质层;去除第二杂质层。本发明的双面扩散方法,不仅与现有工艺设备相兼容,有利于实现工业化大规模生产;并且,相比于现有的工艺,无需另外增加晶圆边缘刻蚀的步骤,简化了制备工艺,进一步降低了生产成本。

    数字化仪器标定调节装置及方法

    公开(公告)号:CN102955473B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN201110247256.9

    申请日:2011-08-25

    发明人: 乔岳 马弢 闫伟欣

    IPC分类号: G05B23/02

    摘要: 本发明公开了一种数字化仪器标定调节装置及方法,涉及仪器标定技术领域。该装置包括:控制模块,与待标定仪器以及调节模块相连,用于根据所述待标定仪器的输出值,生成驱动所述调节模块的控制脉冲,并将所述控制脉冲发送至所述调节模块;调节模块,与控制模块以及所述待标定仪器相连,用于根据所述控制脉冲调节所述待标定仪器。本发明数字化标定调节装置及方法可大幅度提高工作效率,提高仪器生产标定的自动化程度。

    一种质量流量控制器的调节阀特性优化方法

    公开(公告)号:CN104102237A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410322668.8

    申请日:2014-07-08

    IPC分类号: G05D7/06

    摘要: 本发明公开了一种质量流量控制器的调节阀特性优化方法,通过定义将调节阀在工作状态时的允许通过流量限定在大于满量程、小于清洗状态时的最大流量的一个合理区间,并选取落入此区间内的气体通过流量所对应的控制调节阀开度的设定电压作为允许最大设定电压,从而控制调节阀在工作状态时的可调最大开度小于在清洗状态时的预设最大开度,当质量流量控制器在工作状态时发生断气异常情况时,可使质量流量控制器内部的控制系统在误认为流量不够而上调设定电压时有一个限值,保证了调节阀在工作状态时不会达到预设最大开度状态,从而避免了调节阀中的簧片长时间处于负荷极限状态,有效地延长了调节阀的使用寿命。

    兆声波换能装置
    70.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102500540B

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201110355925.4

    申请日:2011-11-10

    发明人: 吴仪 马嘉 初国超

    IPC分类号: B06B1/04

    摘要: 本发明公开了一种兆声波换能装置,涉及声波换能器技术领域,包括:换能器(1)、振子(2)、固定装置(3)和耦合介质层(4),所述振子(2)通过所述固定装置(3)安装于所述换能器(1)上,所述振子(2)与固定装置(3)之间设有耦合介质层(4);所述换能器(1)包括微声共振腔阵列(8);所述微声共振腔阵列(8)分为至少三层,其中相邻两层中的共振腔的轴心沿径向错开腔直径的三分之一到一半的距离。本发明能够有效地减少或消除兆声波干涉,避免在兆声波腐蚀清洗工艺中产生一定的晶片表面和特征结构损坏。